JPH0158650B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0158650B2
JPH0158650B2 JP58153930A JP15393083A JPH0158650B2 JP H0158650 B2 JPH0158650 B2 JP H0158650B2 JP 58153930 A JP58153930 A JP 58153930A JP 15393083 A JP15393083 A JP 15393083A JP H0158650 B2 JPH0158650 B2 JP H0158650B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tube
fixing ring
tube holder
process tube
ring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP58153930A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6045017A (ja
Inventor
Yasuhiro Fuwa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP58153930A priority Critical patent/JPS6045017A/ja
Publication of JPS6045017A publication Critical patent/JPS6045017A/ja
Publication of JPH0158650B2 publication Critical patent/JPH0158650B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P72/00Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
    • H10P72/04Apparatus for manufacture or treatment
    • H10P72/0431Apparatus for thermal treatment
    • H10P72/0436Apparatus for thermal treatment mainly by radiation

Landscapes

  • Furnace Details (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 この発明は、半導体装置の製造等に用いられる
拡散炉に関する。
(ロ) 従来技術 従来の拡散炉は、チユーブホルダの筒状開口部
の内面と、これに挿入されたプロセスチユーブの
管面との隙間に石英綿を詰め込んでプロセスチユ
ーブを固定している。
しかしながら、かかる固定作業は煩わしく、ま
た、プロセスチユーブの取り外しに困難を伴うと
いう欠点がある。
一方、均一な温度分布を得るために、プロセス
チユーブの正確な位置決め及び炉内と外界とのシ
ールを厳密に行う必要があるが、従来の拡散炉
は、前述した固定手段を採る関係上、プロセスチ
ユーブの正確な位置決めや外界とのシールを厳密
に行うことが困難である。
さらに、石英綿を詰め込む作業の際に、塵埃が
発生し、半導体装置の製造に好ましくない影響を
与えるという問題もある。
(ハ) 目的 この発明は、プロセスチユーブの固定作業が容
易で、且つ、その位置決め及び炉内と外界とのシ
ールを厳密を行え、しかも、固定作業における塵
埃の発生が少ない拡散炉を提供することを目的と
している。
(ニ) 構成 この発明に係る拡散炉は、輪状のバネ材に断熱
材を巻回してなる固定リングをプロセスチユーブ
に嵌め込み、前記固定リングをリング押さえ板で
チユーブホルダに押し当てて止めることにより、
前記プロセスチユーブを固定するものであり、且
つ前記リング押さえ板およびチユーブホルダはプ
ロセスチユーブと同軸に配置されるとともに、チ
ユーブホルダはその中央部分にプロセスチユーブ
を挿入するための開口部が形成されるとともに、
その外側面には前記固定リングの内円周面の一部
が嵌合する凹状の溝又は内向きに傾斜する傾斜面
が環状に形成されており、一方前記リング押さえ
板にはプロセスチユーブに挿入される開口部が形
成されるとともに、その内側にはこれをチユーブ
ホルダに固定した場合に前記固定リングをチユー
ブホルダ側に押しつける凹状の溝が環状に形成さ
れているか、又は単なる平板状に形成されている
かのいずれかの形状を有している。
(ホ) 実施例 第1図はこの発明に係る拡散炉の一実施例の構
成を略示した説明図である。
同図aは、実施例の縦断面の概略図であつて、
1は石英等よりなるプロセスチユーブ、2はヒー
タ、3は例えばアルミナ等からなる均熱管であつ
て、この均熱管3は炉内の温度を均一にするため
にプロセスチユーブ1とヒータ2との間に設けら
れる。
4はプロセスチユーブ1を支持するためにヒー
タ2の両側に設けられるチユーブホルダであり、
このチユーブホルダ4の中央部分にはプロセスチ
ユーブ1を挿入するための開口部41が設けられ
ている。
なお、前記チユーブホルダには、その外側面に
は前記固定リングの内円周面の一部が嵌合する凹
状の溝が環状に形成されている。なお環状凹溝で
なくても、内向きに傾斜する傾斜面としてもよ
い。
5はプロセスチユーブ1の両端に嵌め込まれる
固定リングである。この固定リング5は、同図b
にその断面を示すように、輪状のコイルバネ51
に断熱材としての例えば石英綿52を巻回して形
成される。
プロセスチユーブ1に嵌め込まれた固定リング
5は前記チユーブホルダ4の外側面に当接するよ
うに配置され、さらに固定リング5の上に押さえ
板6を配置して両者でもつて前記固定リング5を
挟むようにして止められる。
なお、前記押さえ板6の内側はこれをチユーブ
ホルダ4に固定した場合に固定リング5を前記チ
ユーブホルダ側に押しつける凹状の溝が環状に形
成されているか、又は単なる平板状に形成されて
いるかのいずれかの形状を有している。そして前
記押さえ板6は拡散炉からの熱の輻射を防ぐ働き
もする。要するに押さえ板とチユーブホルダとで
もつて固定リングをサンドイツチ状に挟着するこ
とにより、固定リングの内周面がプロセスチユー
ブにしつかりと密着するようにするものである。
このようにして固定リング5が係止されること
により、プロセスチユーブ1が固定される。
(ヘ) 効果 この発明に係る拡散炉は、前述したような固定
リングを用いるから、プロセスチユーブの固定及
び取り外しが大変容易である。
また、固定リングはプロセスチユーブの管面に
及びチユーブホルダの開口部にしつかり密着する
から、炉内と外界とのシールが密に行われる。し
たがつて、この発明によれば、拡散炉の温度分布
をより均一にすることができる。
さらに、この発明に係る拡散炉は、従来のよう
なプロセスチユーブの脱着時に石英綿が散らばる
ことがなく、塵埃の発生が少ないので、塵埃を嫌
うクリンルーム等での使用に適している。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に係る拡散炉の一実施例の構
成を略示した説明図である。 1…プロセスチユーブ、2…ヒータ、3…均熱
管、4…チユーブホルダ、5…固定リング、6…
押さえ板。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 輪状のバネ材に断熱材を巻回してなる固定リ
    ングをプロセスチユーブに嵌め込み、前記固定リ
    ングをリング押さえ板でチユーブホルダに押し当
    てて止めることにより、前記プロセスチユーブを
    固定するものであり、且つ前記リング押さえ板お
    よびチユーブホルダはプロセスチユーブと同軸に
    配置されるとともに、チユーブホルダはその中央
    部分にプロセスチユーブを挿入するための開口部
    が形成されるとともに、その外側面には前記固定
    リングの内円周面の一部が嵌合する凹状の溝又は
    内向きに傾斜する傾斜面が環状に形成されてお
    り、一方前記リング押さえ板にはプロセスチユー
    ブに挿入される開口部が形成されるとともに、そ
    の内側にはこれをチユーブホルダに固定した場合
    に前記固定リングをチユーブホルダ側に押しつけ
    る凹状の溝が環状に形成されているが、又は単な
    る平板状に形成されているかのいずれかの形状を
    有していることを特徴とする拡散炉。
JP58153930A 1983-08-22 1983-08-22 拡散炉 Granted JPS6045017A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58153930A JPS6045017A (ja) 1983-08-22 1983-08-22 拡散炉

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58153930A JPS6045017A (ja) 1983-08-22 1983-08-22 拡散炉

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6045017A JPS6045017A (ja) 1985-03-11
JPH0158650B2 true JPH0158650B2 (ja) 1989-12-13

Family

ID=15573185

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58153930A Granted JPS6045017A (ja) 1983-08-22 1983-08-22 拡散炉

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6045017A (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62115712A (ja) * 1985-11-14 1987-05-27 Nec Kyushu Ltd 拡散炉装置
JPH0340414Y2 (ja) * 1986-11-20 1991-08-26
JPH02257612A (ja) * 1989-03-30 1990-10-18 Fujitsu Ltd 熱処理炉
JP2854907B2 (ja) * 1990-01-11 1999-02-10 シチズン時計株式会社 順送りプレス抜金型

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6045017A (ja) 1985-03-11

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