JPS6045939A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/735—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer
- G11B5/7356—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2
- G11B5/7358—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2 specially adapted for achieving a specific property, e.g. average roughness [Ra]
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録媒体に関する。
一層詳細には、電気メッキ、化学メッキ、真空蒸着、ス
パッタリング、イオンブレーティング等によりポリエス
テル等の支持体上に強磁性金円薄膜(合金も含む)を形
成させた薄膜型1B気記録媒体にバック層を形成するこ
とにより摩擦係数を低下させ、強磁性薄膜層を内側とす
るカールを低減し、ドシツプアウト減少を可能にした磁
気記録媒体及びその製造法に関する。
パッタリング、イオンブレーティング等によりポリエス
テル等の支持体上に強磁性金円薄膜(合金も含む)を形
成させた薄膜型1B気記録媒体にバック層を形成するこ
とにより摩擦係数を低下させ、強磁性薄膜層を内側とす
るカールを低減し、ドシツプアウト減少を可能にした磁
気記録媒体及びその製造法に関する。
現在、磁気テープは、オーディオ、ビデオ、コンピュー
タ等の分野で広範囲に使用されるようになってきた。そ
れに伴い、媒体に記録する情報量も年々増加し、媒体に
は記録密度の高いことがますます要求されるようになっ
た。
タ等の分野で広範囲に使用されるようになってきた。そ
れに伴い、媒体に記録する情報量も年々増加し、媒体に
は記録密度の高いことがますます要求されるようになっ
た。
m%メッキ、化学メッキ、真空蒸着、スパッタリング、
イオンブレーティング管の方法を用いた場合、形成され
る強磁性金8薄膜は100%金門あるいは合金であるた
めに高い記録密度を持ち得る。しかし上記の方法で強磁
性金属薄膜を形成した場合、支持体の表面状態が強磁性
薄膜の表面状態に強く影響を及ぼす。
イオンブレーティング管の方法を用いた場合、形成され
る強磁性金8薄膜は100%金門あるいは合金であるた
めに高い記録密度を持ち得る。しかし上記の方法で強磁
性金属薄膜を形成した場合、支持体の表面状態が強磁性
薄膜の表面状態に強く影響を及ぼす。
磁性面の表面は磁気ヘッドとのスペーシング損失を少な
くするためにできるだけ平滑にすると共に、異物の付着
によるドロップをできるだけ抑えなければならない。金
I弓薄朦を用いる場合、金属磁性粉をバインダー中に分
散した磁性層よりもはるかに表面性が向上しており、表
面粗度(後述のタリステップによる測定法においてカッ
トオフ0、17 mmでR,。 (測定値20個の平均
)の値・・・・・以下同じ)が0.01μm程度となっ
ているので、円滑に走行させることが益々困難になって
いる。しかも、支持体としてはポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリア
ミド等のプラスチックフィルムベースの厚さが、益々薄
くなる傾向があり、現在のところ11μ祷度以下のもの
が検討されている。ペースが薄くなると媒体の腰がやわ
らかくなり過ぎて摩擦が大きくなり、巻きしまり粘着を
生じ、イドローラや支持ピンなどへのはりつきを生じた
すする。また金属M膜磁性体は媒体をカールさせる。
くするためにできるだけ平滑にすると共に、異物の付着
によるドロップをできるだけ抑えなければならない。金
I弓薄朦を用いる場合、金属磁性粉をバインダー中に分
散した磁性層よりもはるかに表面性が向上しており、表
面粗度(後述のタリステップによる測定法においてカッ
トオフ0、17 mmでR,。 (測定値20個の平均
)の値・・・・・以下同じ)が0.01μm程度となっ
ているので、円滑に走行させることが益々困難になって
いる。しかも、支持体としてはポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリア
ミド等のプラスチックフィルムベースの厚さが、益々薄
くなる傾向があり、現在のところ11μ祷度以下のもの
が検討されている。ペースが薄くなると媒体の腰がやわ
らかくなり過ぎて摩擦が大きくなり、巻きしまり粘着を
生じ、イドローラや支持ピンなどへのはりつきを生じた
すする。また金属M膜磁性体は媒体をカールさせる。
これのみにとどまらず、表面平滑性が上記のようにすぐ
れていると、徽小な異物の付着によるfli小なスペー
シングでもドリップアウトの原因とかりうる。
れていると、徽小な異物の付着によるfli小なスペー
シングでもドリップアウトの原因とかりうる。
これに鈍み、本発明は従来の金用薄膜磁牲層を用いる磁
気記録媒体の有する欠点を改良し、きわめて有効な効果
を発揮するバック層を19供する。
気記録媒体の有する欠点を改良し、きわめて有効な効果
を発揮するバック層を19供する。
本発明者は塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール
共重合体と、ポリウレタンと、ポリイソシアネートとか
ら成る熱硬化性配合物、成いはそれにさらにニドリモー
ス−スを加えた熱硬化性配合物をバック層として形成し
、或いは、放射線感応樹脂として代表的にはアクリル系
、マレイン系またはアリル系二重結合を含む放射P−硬
化型樹脂をバック層として形成すると、バック層のr?
I耗や媒体のカールや粘着性が減じることが分った。
共重合体と、ポリウレタンと、ポリイソシアネートとか
ら成る熱硬化性配合物、成いはそれにさらにニドリモー
ス−スを加えた熱硬化性配合物をバック層として形成し
、或いは、放射線感応樹脂として代表的にはアクリル系
、マレイン系またはアリル系二重結合を含む放射P−硬
化型樹脂をバック層として形成すると、バック層のr?
I耗や媒体のカールや粘着性が減じることが分った。
バック層を上記の熱硬化型又は放射線硬化型混合物から
形成したとき、強磁性全屈薄膜の表面第1」度が0.0
1μm程度に小さいことから、バック層の表面粗度は極
めて重要な因子であり、87N比の改梼・走行性の教養
の面から、バック層の表面粗度を(105〜α4μmの
範囲に選定すべきことが分った。α4μm以上の表面粗
度では磁性層の表面性が活用できず8/N比が大幅に低
下する。
形成したとき、強磁性全屈薄膜の表面第1」度が0.0
1μm程度に小さいことから、バック層の表面粗度は極
めて重要な因子であり、87N比の改梼・走行性の教養
の面から、バック層の表面粗度を(105〜α4μmの
範囲に選定すべきことが分った。α4μm以上の表面粗
度では磁性層の表面性が活用できず8/N比が大幅に低
下する。
また0、05μm以下ではバック面の摩擦が大きく、走
行性が悪くなる。
行性が悪くなる。
テープは巻かれたままの状MR1のものから走行すると
き、磁性面とベース面が離れる際の剥離帯電及びそれに
よるゴミ、ホコリの付着によるドリップアウトが問題に
なる。
き、磁性面とベース面が離れる際の剥離帯電及びそれに
よるゴミ、ホコリの付着によるドリップアウトが問題に
なる。
この欠点はバック層に導電材粒子、例えばカーボンブラ
ックを含有させれば改善しうるが、カーボンブラックは
粒子径が小さ過ぎるとバック層の表面を逆に粗くシ、ま
た多餓で用いなければ所定の帯’K K)j止効果を得
ることができないことが分った。一方大きい粒径(例え
ば60mμ以上)のカーボンブラックは少量で十分な導
電性を与えることができるが、粒彫が磁性面側に転写す
る傾向があり電磁特性を低下させる。また粒径が大きい
と高温多湿下(例えば40℃、60%RI()でノ(ツ
ク層がガイド部材により削られる間型があり、これがド
リップアウトの原因となった。
ックを含有させれば改善しうるが、カーボンブラックは
粒子径が小さ過ぎるとバック層の表面を逆に粗くシ、ま
た多餓で用いなければ所定の帯’K K)j止効果を得
ることができないことが分った。一方大きい粒径(例え
ば60mμ以上)のカーボンブラックは少量で十分な導
電性を与えることができるが、粒彫が磁性面側に転写す
る傾向があり電磁特性を低下させる。また粒径が大きい
と高温多湿下(例えば40℃、60%RI()でノ(ツ
ク層がガイド部材により削られる間型があり、これがド
リップアウトの原因となった。
本発明は表面性の非常にすぐれた金に1薄u+iu性層
を有する記録媒体の裏面に、バックf1°りとして塩化
ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、ポリ
ウレタン、及びポリイソシアネートより成るバインダー
またはこれにさらにニトロセルロースな加えた熱硬化型
バインダー、またG1放射C4硬化型バインダーに、電
子顕if々境1iil!察による平均粒子径(以下同じ
)10〜60 fi1μのカーボンブラックと、平均粒
子径60〜2 D Ontpのカーボンブラックとを混
入したものを形成し、且つその表面粗度を0.05〜0
.4μmに定めることにより予期しないすぐれた特性の
?、′i気記録媒体を」l、1供し得た。
を有する記録媒体の裏面に、バックf1°りとして塩化
ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、ポリ
ウレタン、及びポリイソシアネートより成るバインダー
またはこれにさらにニトロセルロースな加えた熱硬化型
バインダー、またG1放射C4硬化型バインダーに、電
子顕if々境1iil!察による平均粒子径(以下同じ
)10〜60 fi1μのカーボンブラックと、平均粒
子径60〜2 D Ontpのカーボンブラックとを混
入したものを形成し、且つその表面粗度を0.05〜0
.4μmに定めることにより予期しないすぐれた特性の
?、′i気記録媒体を」l、1供し得た。
本発明によると磁性面の壱面第11度が小さいにも拘ら
ず、帯電が小さくなり、ゴミやホコリが+1着せず、電
気特性も良くなる。また、1戊141紳II’Q化型の
バインダーを用いたものはバック層の表面粗形が磁性層
に転写し難く、さらに電気特性が向上した0 本発明においてポリエステルベース等の薄膜フィルム基
体の裏面に形成するバック層は、大別して2種のものが
可能で、一方は以下に示す熱硬化性樹脂混合物、他方は
、以下に示す放射Is(イオン化性)樹脂組成物である
。
ず、帯電が小さくなり、ゴミやホコリが+1着せず、電
気特性も良くなる。また、1戊141紳II’Q化型の
バインダーを用いたものはバック層の表面粗形が磁性層
に転写し難く、さらに電気特性が向上した0 本発明においてポリエステルベース等の薄膜フィルム基
体の裏面に形成するバック層は、大別して2種のものが
可能で、一方は以下に示す熱硬化性樹脂混合物、他方は
、以下に示す放射Is(イオン化性)樹脂組成物である
。
バック層に用いる熱硬化性樹脂混合物としては、カーボ
ンブラックを添加した塩化ビニル・酸2ビニル・ビニル
アルコール共j1体、ポリウレタンプレポリマー及びポ
リイソシアネートより成る熱硬化性バインダー、或いは
これにさらに二トνセルロースを加えた熱硬化性がすぐ
れた作用を有することが分った。バック層に用いる放射
線硬化型樹脂混合物は、カーボンブラックを添加したア
クリル系、マレイン系またはアリル系の二重結合を有す
る樹脂バインダーである。
ンブラックを添加した塩化ビニル・酸2ビニル・ビニル
アルコール共j1体、ポリウレタンプレポリマー及びポ
リイソシアネートより成る熱硬化性バインダー、或いは
これにさらに二トνセルロースを加えた熱硬化性がすぐ
れた作用を有することが分った。バック層に用いる放射
線硬化型樹脂混合物は、カーボンブラックを添加したア
クリル系、マレイン系またはアリル系の二重結合を有す
る樹脂バインダーである。
本宛りJで用いるカーボンブラックは平均粒子径の異な
る2種のものから選択されなければならない。一方のカ
ーボンブラックは平均粒子径10〜60mμであり、他
方のカーボンブラックは平均粒子径60〜200mμの
ものである。このような組合せのカーボンブラックはバ
ック層の帯電性を改善し且つ同時に表面性も改善するも
のである。前者と後者の割合は1:10〜10:3種度
が好適であり、またカーボンブラック全量はバック層の
全重量に対して約20〜80%で含有すると良いことが
分った。そして、このような組合せのカーボンブラック
を用いると、゛これらの一方、またはこれらの中間の粒
子径のカーボンブラックを用いる場合よりも帯電性も表
面性も良くなることが分った。200mμ以上のカーボ
ンブラックを用いると表面粗度が大となり電気抵抗が低
下しない事がわかった。
る2種のものから選択されなければならない。一方のカ
ーボンブラックは平均粒子径10〜60mμであり、他
方のカーボンブラックは平均粒子径60〜200mμの
ものである。このような組合せのカーボンブラックはバ
ック層の帯電性を改善し且つ同時に表面性も改善するも
のである。前者と後者の割合は1:10〜10:3種度
が好適であり、またカーボンブラック全量はバック層の
全重量に対して約20〜80%で含有すると良いことが
分った。そして、このような組合せのカーボンブラック
を用いると、゛これらの一方、またはこれらの中間の粒
子径のカーボンブラックを用いる場合よりも帯電性も表
面性も良くなることが分った。200mμ以上のカーボ
ンブラックを用いると表面粗度が大となり電気抵抗が低
下しない事がわかった。
このようにカーポンプチックの10〜150mμの粒径
の間のものを微妙に#i整することにより電気抵抗バン
クコートiσれが改良される事がわかった。本発1!1
のバック層の表面粗度は0.05〜0.4μmにするこ
とが望まれる。表面粗度はバック層の材料と相俟ってテ
ープの走行性及びilt l!i粍性を改善するだけで
なく、磁性層との粘着及びシンチング現象を減じ、さら
に磁性層の表面粗度と相関してバック層の表面粗度が1
4t1m以下のときS/N を良好に保つことが分った
◇表面粗度が1105μm以下になるとシンチング現象
、粘着性、走行性にlF#1題が生じることが力った。
の間のものを微妙に#i整することにより電気抵抗バン
クコートiσれが改良される事がわかった。本発1!1
のバック層の表面粗度は0.05〜0.4μmにするこ
とが望まれる。表面粗度はバック層の材料と相俟ってテ
ープの走行性及びilt l!i粍性を改善するだけで
なく、磁性層との粘着及びシンチング現象を減じ、さら
に磁性層の表面粗度と相関してバック層の表面粗度が1
4t1m以下のときS/N を良好に保つことが分った
◇表面粗度が1105μm以下になるとシンチング現象
、粘着性、走行性にlF#1題が生じることが力った。
バック層が熱硬化型である場合のバインダーの各成分の
比率は、広い範囲で種々に変えることができるが、塩化
ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体及びピ
リウレタンについては、前者を10〜80重量%、後者
をIAt’tgとし、ポリイソシアネートとして上記樹
脂全段を100として5〜80重量部添加される〇 上記のバインダー組成にさらにニトロセルロースを加え
る場合には、ニトロセル四−ス15〜60爪環%、環化
ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体15〜
61東%及びピリウレタン10〜707Mm%(ただし
全量で100%)の範囲で用いつる。ポリイソシアネー
トは上記樹11i全量を100とすると5〜80重fI
k部添加されつる。なお、ニトロセルロースの添加は粘
着性をさらに低下させ、また耐摩耗性をさらに向上させ
る。
比率は、広い範囲で種々に変えることができるが、塩化
ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体及びピ
リウレタンについては、前者を10〜80重量%、後者
をIAt’tgとし、ポリイソシアネートとして上記樹
脂全段を100として5〜80重量部添加される〇 上記のバインダー組成にさらにニトロセルロースを加え
る場合には、ニトロセル四−ス15〜60爪環%、環化
ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体15〜
61東%及びピリウレタン10〜707Mm%(ただし
全量で100%)の範囲で用いつる。ポリイソシアネー
トは上記樹11i全量を100とすると5〜80重fI
k部添加されつる。なお、ニトロセルロースの添加は粘
着性をさらに低下させ、また耐摩耗性をさらに向上させ
る。
本発明のバック層に放射線硬化型のバインダーを用いる
場合の放射Mffi合性二重性二重結合るアクリル系二
重結合、マレイン系二重結合、或いはアリル系二重結合
を有する樹脂としては、次のものを用いうる。
場合の放射Mffi合性二重性二重結合るアクリル系二
重結合、マレイン系二重結合、或いはアリル系二重結合
を有する樹脂としては、次のものを用いうる。
(I) 塩化ビニル系共重合体
塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル・ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル・
ビニルアルコール・プロピオン酸ビニル共重合体、塩化
ビニル・酢酸ビニル・マレイン酸共重合体、塩化ビニル
・酢酸ビニル・宋=、4orI側鎖アルキル基共重合体
、たとえばUCC社VROH1VYNCSVYEGX等
’JたUCC社VERR等が挙げられる。
塩化ビニル・ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル・
ビニルアルコール・プロピオン酸ビニル共重合体、塩化
ビニル・酢酸ビニル・マレイン酸共重合体、塩化ビニル
・酢酸ビニル・宋=、4orI側鎖アルキル基共重合体
、たとえばUCC社VROH1VYNCSVYEGX等
’JたUCC社VERR等が挙げられる。
上記共重合体に後に述べる手法により、アクリル系二重
結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入
し放射線感応変性を行ったもの(n) 飽和ポリエステ
ル樹脂 7 # A/ 酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレ
イン酸、マレイン酸誘導体、コハク酸、アジピン酸、セ
バシン酸、のような飽和多塩基酸とエチレングリコール
、ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチルール
プロパン、1.2プロピレングリコール、1.3ブタン
ジオール、ジブ田ピレングリコール、t4ブタンジオー
ル、1.6ヘキサンジオール1ペンタエリスリツト、ソ
ルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコール、t
4シクロヘキサンジメタツールのような多価アルコール
とのエステル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂
又はこれらのポリエステル樹脂をSOlNm等で変性し
た樹脂(パイロン55B)。これらを後に述べる手法に
より放射線感応変性を行なったもの (N)不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するぎり
エステル化合物、例えば第(II)項の熱可塑性樹脂と
して記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か
ら収る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽
和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げ
ることができる。
結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入
し放射線感応変性を行ったもの(n) 飽和ポリエステ
ル樹脂 7 # A/ 酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレ
イン酸、マレイン酸誘導体、コハク酸、アジピン酸、セ
バシン酸、のような飽和多塩基酸とエチレングリコール
、ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチルール
プロパン、1.2プロピレングリコール、1.3ブタン
ジオール、ジブ田ピレングリコール、t4ブタンジオー
ル、1.6ヘキサンジオール1ペンタエリスリツト、ソ
ルビトール、グリセリン、ネオペンチルグリコール、t
4シクロヘキサンジメタツールのような多価アルコール
とのエステル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂
又はこれらのポリエステル樹脂をSOlNm等で変性し
た樹脂(パイロン55B)。これらを後に述べる手法に
より放射線感応変性を行なったもの (N)不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するぎり
エステル化合物、例えば第(II)項の熱可塑性樹脂と
して記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か
ら収る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽
和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げ
ることができる。
飽和がリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分番は第(1)項に記載した各化合物を挙げることが
でき、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸
、フマル酸等を挙げることができる。
成分番は第(1)項に記載した各化合物を挙げることが
でき、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸
、フマル酸等を挙げることができる。
放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在180
〜200°C窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反
応の後、240〜280℃まで昇温し、[15〜1闘)
1g の減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得る
ことができる。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製
造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中1〜40モル
%で好ましくは10〜30モル%である。
酸成分1種以上と多価アルコール成分1種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在180
〜200°C窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反
応の後、240〜280℃まで昇温し、[15〜1闘)
1g の減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得る
ことができる。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製
造時の架橋、放射線硬化性等から酸成分中1〜40モル
%で好ましくは10〜30モル%である。
(ff) ポリビニルアルコールM klj Mポリビ
ニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、ホ
ルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体。これら樹脂
中に含まれる水酸基を後に述べる手法により放射性感応
変性を行なったもの。
ニルアルコール、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、ホ
ルマール樹脂及びこれらの成分の共重合体。これら樹脂
中に含まれる水酸基を後に述べる手法により放射性感応
変性を行なったもの。
(V)エポキシ系樹脂、フェノキシ4N[ビスフェノー
ル人とエピクロルヒドリン、メチルエビフルルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂−シェル化学a(エピコート
152.154.828.1001.1004.100
7)ダウケミカル@(DEN451、DER752、D
ER511、DER531) 、大日本インキ’!l!
(エピクロン400、エビクロン−eoo)、更に上記
ニーζキシの高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ
樹脂(PKHA。
ル人とエピクロルヒドリン、メチルエビフルルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂−シェル化学a(エピコート
152.154.828.1001.1004.100
7)ダウケミカル@(DEN451、DER752、D
ER511、DER531) 、大日本インキ’!l!
(エピクロン400、エビクロン−eoo)、更に上記
ニーζキシの高重合度樹脂であるUCC社製フェノキシ
樹脂(PKHA。
PKHC,PKHH)臭素化ビスフェノールAとエピク
ロルヒドリンとの共重合体、大日本インギ化学工塑fP
!(エビクロン145.152.153.1120)等
。
ロルヒドリンとの共重合体、大日本インギ化学工塑fP
!(エビクロン145.152.153.1120)等
。
これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射線
感応変性を行ったもの (Vl) 繊維素誘導体 各種分子飛の繊維素系誘導体も、また熱可塑性プラスチ
ック成分として効果的である。その中でモ、特に効果的
なものは硝化綿、セルローズアセトブチレート、エチル
セルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルロース等
が好適であり、樹脂中の水#!!基を活性して後に述べ
る手法により放射線感応変性を行なったもの その他、放射性感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ビリビニルビ四すドン1igJ脂及び誘導体(p
vpオレフィン共取共作合体ケリアミド樹脂、メリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スヒロアセタール樹脂、水酸
基を含・有するアクリルエステル及びメタクリルエステ
ルを少くとも一種以上威合成分として含むアクリル系1
1J脂等も有効である。
感応変性を行ったもの (Vl) 繊維素誘導体 各種分子飛の繊維素系誘導体も、また熱可塑性プラスチ
ック成分として効果的である。その中でモ、特に効果的
なものは硝化綿、セルローズアセトブチレート、エチル
セルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルロース等
が好適であり、樹脂中の水#!!基を活性して後に述べ
る手法により放射線感応変性を行なったもの その他、放射性感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ビリビニルビ四すドン1igJ脂及び誘導体(p
vpオレフィン共取共作合体ケリアミド樹脂、メリイミ
ド樹脂、フェノール樹脂、スヒロアセタール樹脂、水酸
基を含・有するアクリルエステル及びメタクリルエステ
ルを少くとも一種以上威合成分として含むアクリル系1
1J脂等も有効である。
さらに上記放射m感応変性熟iil塑性信脂に熱ii)
塑性エラストマー又はプレポリマーをブレンドすること
により、一層IJII靭な塗膜とすることができる。さ
らに、下記に述べるように、これらエラストマーあるい
はプレポリマーが、同様に放射t4 /if!?応性に
変性された場合は、より効果的である。以下に、上記放
射線感応W脂と組み合わせることのできるエラストマー
又はプレポリマーを挙げる。
塑性エラストマー又はプレポリマーをブレンドすること
により、一層IJII靭な塗膜とすることができる。さ
らに、下記に述べるように、これらエラストマーあるい
はプレポリマーが、同様に放射t4 /if!?応性に
変性された場合は、より効果的である。以下に、上記放
射線感応W脂と組み合わせることのできるエラストマー
又はプレポリマーを挙げる。
+1) 、ft’リウレタンエラストマー及びプレボリ
マ−及びテロマー lリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、PETフィル
ムへの接着性が良い点で特に有効である。
マ−及びテロマー lリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、PETフィル
ムへの接着性が良い点で特に有効である。
このようなウレタン化合物の例としては1イソシアネー
トとして、2.4−)ルエンジイソシアネート、λ6−
トルエンジイソシアネート、1.3−キシレンジイソシ
アネート、1.4−キシレンジイソシアネー[、t5−
ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシ
アネート、p−フェニレンジイソシアネート、15’−
ジメチル−4゜41−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、4.4’−ジフエニルメタンジイソシアネート s
、 s l −ジメチルビフェニレンジイソシアネート
、4.4’−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、イソフオロンジイソシアネー
ト、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネーF1デスモ
ジュールL1デスモジュールN等の各種多価イソシアネ
ートと、線状飽和ポリエステル(エチレングリコール、
ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチ四−ルプ
四パン、t4−ブタンジオール、116−ヘキサンジオ
ール、ペンタエリスリッ)、ソルビトール、ネオペンチ
ルグリコール、i、4−シクロヘキサンジメタツールの
様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸1マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、の様な飽和多塩基酸との縮重合によるものン、線
状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、ポリテトラエチレングリコールン
やカプロチクタム、ヒト!キシン含有アクリル酸エステ
ル、ヒドロキシ含有メタアクリル酸エステル等の各種ポ
リエステル類の縮重合物より成るポリウレタンエラスト
マー、プレポリマー、テロマーが有効である。
トとして、2.4−)ルエンジイソシアネート、λ6−
トルエンジイソシアネート、1.3−キシレンジイソシ
アネート、1.4−キシレンジイソシアネー[、t5−
ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシ
アネート、p−フェニレンジイソシアネート、15’−
ジメチル−4゜41−ジフェニルメタンジイソシアネー
ト、4.4’−ジフエニルメタンジイソシアネート s
、 s l −ジメチルビフェニレンジイソシアネート
、4.4’−ビフェニレンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、イソフオロンジイソシアネー
ト、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネーF1デスモ
ジュールL1デスモジュールN等の各種多価イソシアネ
ートと、線状飽和ポリエステル(エチレングリコール、
ジエチレングリコール、グリセリン、トリメチ四−ルプ
四パン、t4−ブタンジオール、116−ヘキサンジオ
ール、ペンタエリスリッ)、ソルビトール、ネオペンチ
ルグリコール、i、4−シクロヘキサンジメタツールの
様な多価アルコールと、フタル酸、イソフタル酸、テレ
フタル酸1マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、の様な飽和多塩基酸との縮重合によるものン、線
状飽和ポリエーテル(ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、ポリテトラエチレングリコールン
やカプロチクタム、ヒト!キシン含有アクリル酸エステ
ル、ヒドロキシ含有メタアクリル酸エステル等の各種ポ
リエステル類の縮重合物より成るポリウレタンエラスト
マー、プレポリマー、テロマーが有効である。
これらのエラストマーを放射線感応変性の各種熱可塑性
プラスチックスとそのまま組合せても良いが、更にウレ
タンヱラストマーの末端のイソシアネート基又は水酸基
と反応1−るアクリル系二重結合又はアリル系二重結合
等を有する単7R(体と反応させることにより、放射m
感応性に変性することは非常に効果的である。
プラスチックスとそのまま組合せても良いが、更にウレ
タンヱラストマーの末端のイソシアネート基又は水酸基
と反応1−るアクリル系二重結合又はアリル系二重結合
等を有する単7R(体と反応させることにより、放射m
感応性に変性することは非常に効果的である。
(II) アクリルニトリル−ブタジェン共重合ヱテス
トマー シンクレアベト四ケミカル社製ポリBDリクィツドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリ四ニト
リルブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは日本ゼ
オン社製ハイカー14!i2J等のエラストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生
じ架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。
トマー シンクレアベト四ケミカル社製ポリBDリクィツドレジ
ンとして市販されている末端水酸基のあるアクリ四ニト
リルブタジェン共重合体プレポリマー、あるいは日本ゼ
オン社製ハイカー14!i2J等のエラストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生
じ架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。
+l) ボリブタジエンエラストマー
シンクレアペトロケミカル社製ピリBDリクィツドレジ
ンR−15等の低分子量末端水酸基を有するプレぎりマ
ーが特に熱可塑性プラスチックとの相溶性の点で好適で
ある。R−15プレポリマーにおいでは分子末端が水酸
基となっている為分子末端を°rクリル系不飽和二重結
合を付加することにより放射線感応性を高めることが可
能であり、バインダーとして更に有利となる。
ンR−15等の低分子量末端水酸基を有するプレぎりマ
ーが特に熱可塑性プラスチックとの相溶性の点で好適で
ある。R−15プレポリマーにおいでは分子末端が水酸
基となっている為分子末端を°rクリル系不飽和二重結
合を付加することにより放射線感応性を高めることが可
能であり、バインダーとして更に有利となる。
またS′#:リプタジエンの環化物日本合成ゴム製CB
IL−M901も熱可塑性プラスチックスとの組合せに
よりすぐれた性能を発揮する。特に、環化されたポリブ
タジェンは、ポリブタジェン本来の有する不飽和結合の
ラジカルにより放射線による架@重合の効率が良く、バ
インダーとして優れた性質を有している。
IL−M901も熱可塑性プラスチックスとの組合せに
よりすぐれた性能を発揮する。特に、環化されたポリブ
タジェンは、ポリブタジェン本来の有する不飽和結合の
ラジカルにより放射線による架@重合の効率が良く、バ
インダーとして優れた性質を有している。
その地熱可塑性エラストマー及びそのプレポリ!−の系
で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、塩
化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化物
(日本合成ゴムIN ClR7旧)、エポキシ変性ゴム
、内部可塑化飽和篩状ポリエステル(iE洋紡バイ四ン
$5OO)、等のエラストマーも下記に述べる放射線感
応変性処理をはとこ次に、放射線感応性バインダー合成
例を説明する。
で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、塩
化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化物
(日本合成ゴムIN ClR7旧)、エポキシ変性ゴム
、内部可塑化飽和篩状ポリエステル(iE洋紡バイ四ン
$5OO)、等のエラストマーも下記に述べる放射線感
応変性処理をはとこ次に、放射線感応性バインダー合成
例を説明する。
)リレンジイソシーアネートのアダクト・の製法1)
塩化ビニル酢酸ビニル共重合系樹脂(放射線感応変性樹
脂)のアクリル変性体の合成ビニライトVAGH750
部とトルエン1250部シクロヘキサノン500部を5
ノ4つロフラスコに仕込み加熱溶解し、80”C昇温後
トリレンジイソシアネートの2−ヒト田キシエチルメタ
アクリレ、 )アダクトを61.4部加え、更にオクチ
ルaスズ0.012部、ハイドロキノン1012部加え
80℃でN、気流中NGO反応率が90%となるまで反
応ぜしぬる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1
250部を加え稀釈する。
塩化ビニル酢酸ビニル共重合系樹脂(放射線感応変性樹
脂)のアクリル変性体の合成ビニライトVAGH750
部とトルエン1250部シクロヘキサノン500部を5
ノ4つロフラスコに仕込み加熱溶解し、80”C昇温後
トリレンジイソシアネートの2−ヒト田キシエチルメタ
アクリレ、 )アダクトを61.4部加え、更にオクチ
ルaスズ0.012部、ハイドロキノン1012部加え
80℃でN、気流中NGO反応率が90%となるまで反
応ぜしぬる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン1
250部を加え稀釈する。
※ トリレンジイソシアネー)(TDI)の2−ヒドロ
キシエチルメタアクリレート(2HEMA)アダクトの
製法 トリレンジイソシアネート548部をN、気流中17の
4つロフラスコ内で80’cに加M後、2−へキサエチ
レンメタアクリレート260部、オクチル酸スズ0.0
7部、ハイド四キノンαo5部を反応缶内の温度が80
〜85℃となるように冷却コントロールしながら滴下終
了後80’Cで3時間攪拌し反応を完結させる。反応終
了後取り出して冷却後白色ペースト状のT%DIの2H
EM人を得た。
キシエチルメタアクリレート(2HEMA)アダクトの
製法 トリレンジイソシアネート548部をN、気流中17の
4つロフラスコ内で80’cに加M後、2−へキサエチ
レンメタアクリレート260部、オクチル酸スズ0.0
7部、ハイド四キノンαo5部を反応缶内の温度が80
〜85℃となるように冷却コントロールしながら滴下終
了後80’Cで3時間攪拌し反応を完結させる。反応終
了後取り出して冷却後白色ペースト状のT%DIの2H
EM人を得た。
b) ブチラール樹脂アクリル変性体の合成(放射線感
応変性樹脂) ブチラールW脂積水化学製BM−8100部をトルエン
1912部、シクロヘキサノン71.4iC5ノ4つ目
フラスコに仕込み加熱溶解し80℃昇温昇温ジトリレン
ジイソシアネート−ヒドロキシエチルメタアクリレート
アダクト を14部加え、更にオクチル酸スズO,[3
15部、ハイド1ゴキノン1015部を加え、80°C
でN2気流中N CO反応率が90%以上となるまで反
応せしめる。反応終了後冷却しメチルエチルケトンにて
稀釈する。
応変性樹脂) ブチラールW脂積水化学製BM−8100部をトルエン
1912部、シクロヘキサノン71.4iC5ノ4つ目
フラスコに仕込み加熱溶解し80℃昇温昇温ジトリレン
ジイソシアネート−ヒドロキシエチルメタアクリレート
アダクト を14部加え、更にオクチル酸スズO,[3
15部、ハイド1ゴキノン1015部を加え、80°C
でN2気流中N CO反応率が90%以上となるまで反
応せしめる。反応終了後冷却しメチルエチルケトンにて
稀釈する。
c) 飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成(放
射線感応変性樹脂) 東洋紡製バイロンRV−200100部をトルエン11
6部、メチルエチルケトン116部に加熱溶解し80℃
昇温後TDIの2HEMAアダクト7を455部加え、
オクチル酸スズαoo7Hg、ハイドロキノン0.00
7部を添加し、NtfA流中8゜℃でNCO反応率9o
%以上となるまで反応せしめる。
射線感応変性樹脂) 東洋紡製バイロンRV−200100部をトルエン11
6部、メチルエチルケトン116部に加熱溶解し80℃
昇温後TDIの2HEMAアダクト7を455部加え、
オクチル酸スズαoo7Hg、ハイドロキノン0.00
7部を添加し、NtfA流中8゜℃でNCO反応率9o
%以上となるまで反応せしめる。
d)工lキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂) シェル化学製エピコート1007 400部を) Ai
:I:−ン50 部、MIKSo部に加熱溶rfI後)
T、N−ジメチルベンジルアミン0. OO6部、ハイ
ドロキノン0003部を添加し80℃とし、アクリル酸
69部を滴下し80℃で0化5以下となるまで反応せし
める。
性樹脂) シェル化学製エピコート1007 400部を) Ai
:I:−ン50 部、MIKSo部に加熱溶rfI後)
T、N−ジメチルベンジルアミン0. OO6部、ハイ
ドロキノン0003部を添加し80℃とし、アクリル酸
69部を滴下し80℃で0化5以下となるまで反応せし
める。
−) ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成(放
射線感応エラストマー) 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
)(Ml)I)系ウレタンプレlリフ−(日本ポリウレ
タン製ニッボラン4o、co)25部部、2 )IEM
A52.5部、ハイドpキノン0.07部、オクチル酸
スズ0.009部を反応缶に入れ、80℃に加熱溶解後
TDIJ五5部を反応缶内の温度が80〜90℃となる
様に冷却しながら滴下し、滴下終了後80℃でNGO反
応率95%以上となるまで反応ゼしめる。
射線感応エラストマー) 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
)(Ml)I)系ウレタンプレlリフ−(日本ポリウレ
タン製ニッボラン4o、co)25部部、2 )IEM
A52.5部、ハイドpキノン0.07部、オクチル酸
スズ0.009部を反応缶に入れ、80℃に加熱溶解後
TDIJ五5部を反応缶内の温度が80〜90℃となる
様に冷却しながら滴下し、滴下終了後80℃でNGO反
応率95%以上となるまで反応ゼしめる。
!) −ζリエーテル系末端つレタン変性エラストマー
アクリル変性体の合成(放射I10感応エラスジマー) 日本ポリウレタン社製がリエーテルPTG−50025
0部、2 HIMA!! 2.5部、ハイドロキノン[
1,007部、オクチル酸スズα009部を反応缶に入
れ80℃に加熱溶解後TDIA&5部を反応缶内の温度
が80〜90℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後80℃でNeo反応率95%以上となるまで反応
せしめる。
アクリル変性体の合成(放射I10感応エラスジマー) 日本ポリウレタン社製がリエーテルPTG−50025
0部、2 HIMA!! 2.5部、ハイドロキノン[
1,007部、オクチル酸スズα009部を反応缶に入
れ80℃に加熱溶解後TDIA&5部を反応缶内の温度
が80〜90℃となるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後80℃でNeo反応率95%以上となるまで反応
せしめる。
g) ポリブタジエンエラス)マーアクリル変性体の合
成(放射線感応エラストマー) シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジエンボリBDリクイットレジンR−15250部
、2 HFjMA32.5部、ハイドロキノン[LOO
7部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入れ、8
0℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内の温度が
80〜90°Cとなるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後80℃でNCO反応率95%以上となるまで反応
せしめる。
成(放射線感応エラストマー) シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジエンボリBDリクイットレジンR−15250部
、2 HFjMA32.5部、ハイドロキノン[LOO
7部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入れ、8
0℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内の温度が
80〜90°Cとなるように冷却しながら滴下し、滴下
終了後80℃でNCO反応率95%以上となるまで反応
せしめる。
また高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間
に架橋を起すものが知られている。分子間に架橋を起す
ものとしては、lリエチレン、ポリプルピレン、ポリス
チレン、lリアクリル酸二、ステル、ポリアクリルアミ
ド、ポリ塩化ビニル、ピリエステル、ポリビニルピロリ
ドンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインが
ある。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変
性を特に施さなくても、架橋反応が起るので、そのまま
放射線架橋用バックコート樹脂として使用可能である。
に架橋を起すものが知られている。分子間に架橋を起す
ものとしては、lリエチレン、ポリプルピレン、ポリス
チレン、lリアクリル酸二、ステル、ポリアクリルアミ
ド、ポリ塩化ビニル、ピリエステル、ポリビニルピロリ
ドンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインが
ある。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変
性を特に施さなくても、架橋反応が起るので、そのまま
放射線架橋用バックコート樹脂として使用可能である。
さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様な樹脂をバックコート用として用いることもで
きる。
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様な樹脂をバックコート用として用いることもで
きる。
また、本発明のバンクコートの架橋に使用する活性エネ
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線
Co@o を線源としたr−線、5r10を線源とした
β−線、xfIs発生器を線源としたX−線等が使用さ
れる。
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線
Co@o を線源としたr−線、5r10を線源とした
β−線、xfIs発生器を線源としたX−線等が使用さ
れる。
特に照射線源としては吸収1IIIlの制御、m造工程
ラインへの増大、電離放IR線のしゃ閉等の見地から放
射線加熱器により放射線を使用する方法が有利である〇 バック層を硬化する際に使用する放射線特性としては、
透過力の面から加速電圧100〜750KV好ましくは
150〜500KVの放射線加速器を用い吸収NII量
をα5〜20メガランドになるように照射するのが好都
合である。
ラインへの増大、電離放IR線のしゃ閉等の見地から放
射線加熱器により放射線を使用する方法が有利である〇 バック層を硬化する際に使用する放射線特性としては、
透過力の面から加速電圧100〜750KV好ましくは
150〜500KVの放射線加速器を用い吸収NII量
をα5〜20メガランドになるように照射するのが好都
合である。
本発明のバック層硬化に際しては、米国エナージーサイ
エンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速
器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーティ
ング加エラインへの導入、加速器内部の2次X線の遮蔽
等に極めて有利である。
エンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速
器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコーティ
ング加エラインへの導入、加速器内部の2次X線の遮蔽
等に極めて有利である。
勿論、従来より放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良い。
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良い。
また、放射線架橋に陥しては、N、ガスHeガス等の不
活性ガス気流中で放射線をパン・りNIIに照射するこ
とが重要であり、空気中で放射線を照射することは、バ
インダー成分の架#@に際し放射線照射により生じた0
1等の影響でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋
反応に働く事を阻害するので極めて不利である。
活性ガス気流中で放射線をパン・りNIIに照射するこ
とが重要であり、空気中で放射線を照射することは、バ
インダー成分の架#@に際し放射線照射により生じた0
1等の影響でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋
反応に働く事を阻害するので極めて不利である。
従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰聞気は、
特に酸素渉度が最大で1%のN、 、H・、CO7等の
不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる0 また、バインダー成分の一部にはアクリル酸、メタクリ
ル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド等の放射線硬
化性単量体を含んでも良い。
特に酸素渉度が最大で1%のN、 、H・、CO7等の
不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる0 また、バインダー成分の一部にはアクリル酸、メタクリ
ル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド等の放射線硬
化性単量体を含んでも良い。
放射線硬化性樹脂には耐摩耗性及び接着性及び柔軟性を
改善するために、さらにポリウレタンエラストマー及び
ポリウレタンプレポリマー、アクリロニトリルブタジェ
ン共重合体エラス) V−、ポリブタジエンエラスシマ
ー、エポキシ横磨、フェノキシ樹脂、繊維素、塊化ビニ
ル・酢酸ビニル共重合体等を併用することもできる。
改善するために、さらにポリウレタンエラストマー及び
ポリウレタンプレポリマー、アクリロニトリルブタジェ
ン共重合体エラス) V−、ポリブタジエンエラスシマ
ー、エポキシ横磨、フェノキシ樹脂、繊維素、塊化ビニ
ル・酢酸ビニル共重合体等を併用することもできる。
バック層が放射線硬化型であると、熱硬化型よりも均一
で強じんなバック層が形成できる。
で強じんなバック層が形成できる。
バック層の存在はジッターを増大させる傾向がある。こ
こにジッターとは記録周波を中心として微少な位相変調
を受けることである。この現象はテープの走行の円滑性
に関連するものと思われる。
こにジッターとは記録周波を中心として微少な位相変調
を受けることである。この現象はテープの走行の円滑性
に関連するものと思われる。
かかるジッターは、脂肪酸または脂肪酸エステル系の潤
滑剤を極く少量存在さぜれば解決できる。
滑剤を極く少量存在さぜれば解決できる。
これらの酸またはエステルは炭素数10〜22のものが
好ましく、例えばラウリン酸、ステアリン、酸、ミリス
チン酸等或いはそれらの混合物が使用できる。またその
使用量はバック層の全重殺の6−以下含有させれば十分
である。
好ましく、例えばラウリン酸、ステアリン、酸、ミリス
チン酸等或いはそれらの混合物が使用できる。またその
使用量はバック層の全重殺の6−以下含有させれば十分
である。
以下、本発明の実施例を詳しく説明する。以下の実施例
では、磁性層として真空蒸着法しこよりコバルト80
wt%及びニッケル20 wt%の斜め蒸着合金磁性膜
をポリエチレンテレフタレート112 ノR面に約15
00人の厚さとなるように蒸着したもノヲ用いた。表面
粗度は約αυj /11nであった。
では、磁性層として真空蒸着法しこよりコバルト80
wt%及びニッケル20 wt%の斜め蒸着合金磁性膜
をポリエチレンテレフタレート112 ノR面に約15
00人の厚さとなるように蒸着したもノヲ用いた。表面
粗度は約αυj /11nであった。
実施例1
バック層として次の樹脂組成を混合した。
重量部
メチルエチルケトン/トルエン(50150) 200
カーポンプフツク(10〜80fflμ)70この混合
物に、ポリイソシアネート(デスモジュールL)を30
重鎖部加えて混合し、上記の磁性層を設けたポリエステ
ルフィルムの裏面に厚さ15μmに塗布し、vJ燥し、
カレンダー加工をし、そして熱硬化し、裁断してビデオ
テープとした。
カーポンプフツク(10〜80fflμ)70この混合
物に、ポリイソシアネート(デスモジュールL)を30
重鎖部加えて混合し、上記の磁性層を設けたポリエステ
ルフィルムの裏面に厚さ15μmに塗布し、vJ燥し、
カレンダー加工をし、そして熱硬化し、裁断してビデオ
テープとした。
上記バック層の表面粗度はカレンダー加工を種々に調整
することにより0.05〜0.4μmのものを得た。
することにより0.05〜0.4μmのものを得た。
上記のテープの表面抵抗を調べると次のようになった。
これに基づき15〜60mμのものと60〜200mμ
のものとを次のように混合したものを上記組成中のカー
ボンブラックと置換えたところ、次の結果を得た。
のものとを次のように混合したものを上記組成中のカー
ボンブラックと置換えたところ、次の結果を得た。
表2
また表面粗度が良好になりそのため電磁特性の低下の影
響が少なくなる。
響が少なくなる。
単独のカーボンブラックではtodB以上の低下があっ
たものが、2種のものの組合せでこれらが改良される事
がわかった。これはバックIτ・フが適当な柔軟性を付
与し、表面性が良くな°つたためであろう。
たものが、2種のものの組合せでこれらが改良される事
がわかった。これはバックIτ・フが適当な柔軟性を付
与し、表面性が良くな°つたためであろう。
上記の事実に基づいて、以下の例ではきト均粒子径10
〜6rJmp及び60〜2 (1rl mμのものの組
合せを用いた。
〜6rJmp及び60〜2 (1rl mμのものの組
合せを用いた。
実施例2
実施例1において、バック層の組成を次のようにした他
は、同じ工程及び条件下に磁性層の表面粗度aoi〜o
、04μm1及びバック層の表面粗度a、05〜?]、
4μmのビデオテープをV造した。
は、同じ工程及び条件下に磁性層の表面粗度aoi〜o
、04μm1及びバック層の表面粗度a、05〜?]、
4μmのビデオテープをV造した。
重量部
混合溶剤(MI RK/ )/lzzン= 171 )
50 D実施@5 重量部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー 壺)2゜混合
溶剤(MIBK/)#:r−ン=1/1 ) 500上
記混合物をボールミル中5時間分散させ、磁性面が形成
されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚15μ
mになるように筒布し、エレクト四カーテンタイプ電子
線加速装置を用いて加速電圧150 KeV s電極電
流10mAS吸収?i!Ht1゜Mrad、Nlガス中
で電子線をバック層に照射し、硬化を行った後カレンダ
ー加工して巻き取り、1/21ビデオ巾に切断した。
50 D実施@5 重量部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー 壺)2゜混合
溶剤(MIBK/)#:r−ン=1/1 ) 500上
記混合物をボールミル中5時間分散させ、磁性面が形成
されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚15μ
mになるように筒布し、エレクト四カーテンタイプ電子
線加速装置を用いて加速電圧150 KeV s電極電
流10mAS吸収?i!Ht1゜Mrad、Nlガス中
で電子線をバック層に照射し、硬化を行った後カレンダ
ー加工して巻き取り、1/21ビデオ巾に切断した。
実施例4
重量部
カーボンブラック” 15ma/ 80n/j ” 5
0アクリル変性ポリエステル樹脂c) 60混合溶剤
300 上記混合物を実施例3と同様にft’1rRLザンプル
を得た。
0アクリル変性ポリエステル樹脂c) 60混合溶剤
300 上記混合物を実施例3と同様にft’1rRLザンプル
を得た。
アクリル変性ポリウレタンエラストマーe) s。
混合溶剤 500
上#8混合物を実施例3と同様に調製し、サンプルを得
た。
た。
比較例1.2
実施例1.3において、2種のカーボンブラックの代り
に平均粒子径soamμのカーボンブラックを全景用い
てサンプルを得た。
に平均粒子径soamμのカーボンブラックを全景用い
てサンプルを得た。
上記実施例について測定したところ次表の結果を得た。
尚、Y−87Nは比較例1をOdBとした相対値である
。
。
2種のカーボンブラックを混合する事により電気抵抗、
くり返し走行性のドルツブアウトが減少した0 比較例はバック面の削れが発生し、バック面が不均一に
なったり、磁性面にバック面の削れが付着したりするた
め、巻きみだしシンチングを発生する。バックコートす
る事により弛磁性1v膜で同順となったカールもとれた
。
くり返し走行性のドルツブアウトが減少した0 比較例はバック面の削れが発生し、バック面が不均一に
なったり、磁性面にバック面の削れが付着したりするた
め、巻きみだしシンチングを発生する。バックコートす
る事により弛磁性1v膜で同順となったカールもとれた
。
上記の実施例1で得られた・背気記録媒体をビデオテー
プの情に裁断し、これをビデオレコーダで5、8 FF
i / 1Illeで駆動し、中心周波数5MHz で
記録再生した場合の81N比をめたところ、バック層の
表面粗度がα4fim以上によると出力低下が太き(S
/N比が1dB以上低下する。一方0.05μm以下で
はバック層の摩擦が大きくなり走行が円滑に行かないこ
とが分った。
プの情に裁断し、これをビデオレコーダで5、8 FF
i / 1Illeで駆動し、中心周波数5MHz で
記録再生した場合の81N比をめたところ、バック層の
表面粗度がα4fim以上によると出力低下が太き(S
/N比が1dB以上低下する。一方0.05μm以下で
はバック層の摩擦が大きくなり走行が円滑に行かないこ
とが分った。
実施例1〜5のものに脂肪##(必要に応じ脂肪酸エス
テル)を添加する事により高温多湿下(40℃、60・
%)で画像ゆらぎの基となるジッターが改良された。
テル)を添加する事により高温多湿下(40℃、60・
%)で画像ゆらぎの基となるジッターが改良された。
採用した測定法は次の通りであった。
1 摩擦係数
走行開始前と40’C,60%RHでの100回走行後
のテープについて、直径4mmの表面を研磨したアルミ
円柱に磁気テープのバラ頌を内側にして180′ の抱
き角で巻きつけ、2仰乍で走行し送り出し何と巻き取り
側のテンションt−測定し計算よりめた。
のテープについて、直径4mmの表面を研磨したアルミ
円柱に磁気テープのバラ頌を内側にして180′ の抱
き角で巻きつけ、2仰乍で走行し送り出し何と巻き取り
側のテンションt−測定し計算よりめた。
2 シンチンダ現象
一般市販のVH8方式VTVTR用いて、テープを40
℃、60%RHで100回走行した後、テープの捲き状
態を目視により観察した。テープ層間にすき曲がなく捲
き状態が良好な場合をQとしそしてテープ層間にすき間
が発生した場合を×とした。
℃、60%RHで100回走行した後、テープの捲き状
態を目視により観察した。テープ層間にすき曲がなく捲
き状態が良好な場合をQとしそしてテープ層間にすき間
が発生した場合を×とした。
五 バンク層の削れ
一般市販のVH8方式VTRを用い、40℃の温度及び
60%相対湿度の環境下で100回走行させた後、削れ
を観察した。
60%相対湿度の環境下で100回走行させた後、削れ
を観察した。
4、 磁性層とバック層の粘着
VHSリールに捲取り、60℃の珀境下に5日間放置し
た時の粘着状況を目視によりl”li価した。
た時の粘着状況を目視によりl”li価した。
粘着のない場合をOとしそして粘着の生じた場合を×と
した。
した。
5、 カール
50rrunX50mmに切断した磁気テープを平滑な
ガラス板状に置きカールの程度を観察した。
ガラス板状に置きカールの程度を観察した。
6 電磁特性
1 中心周波i5MHz で記録再生したときのS /
N0 2、15μsでの値で個/分のドロップアウト。
N0 2、15μsでの値で個/分のドロップアウト。
l 表面粗度
タリステップ(TAYI、0R−HO88ON!t、製
)を用いて得たチャートから20点平均法(Rt・)で
めた。カットオフα17mm、針圧2ダ、針0、 I
X 2.5μmを用いた。
)を用いて得たチャートから20点平均法(Rt・)で
めた。カットオフα17mm、針圧2ダ、針0、 I
X 2.5μmを用いた。
手続補正岩
昭和59年 7月 6日
特許庁長官 志 賀 学 殿
事(’Iの表示 昭和58年特 願第152559 シ
J発明の名称 磁気化@媒体 補正をする者 11件との関係 特許出願人 名称+506)ティーディーケイ株式会社代理人 一氏−M花6ト蜂H−・=−糧−二際−一”ml ’i
IT@T’i7 M知軒I Tr −−□−−−−=
−114n世さt力官υM1寸=fえ明て@−=袖市の
対象 一遣律ドI騨緯−出願人力」i 明細書の発明θ名荊−降昨請永ツ礪咽ト発明の詳細な説
明の欄補正の内容 別紙の通り 1、 明細1第2yttm4行に[カーボンブラック(
10〜SOWμ) 70」とある次にζ“改行して次の
j1クリυ口入する8 [ステアリンM 5 ミリスチン10ミリスチル 2」 2、明細S第29頁第15行に「i合m剤(MIBK/
’トルエンニ1/1) 300Jとある次に、改・行し
て次の通り加入する。
J発明の名称 磁気化@媒体 補正をする者 11件との関係 特許出願人 名称+506)ティーディーケイ株式会社代理人 一氏−M花6ト蜂H−・=−糧−二際−一”ml ’i
IT@T’i7 M知軒I Tr −−□−−−−=
−114n世さt力官υM1寸=fえ明て@−=袖市の
対象 一遣律ドI騨緯−出願人力」i 明細書の発明θ名荊−降昨請永ツ礪咽ト発明の詳細な説
明の欄補正の内容 別紙の通り 1、 明細1第2yttm4行に[カーボンブラック(
10〜SOWμ) 70」とある次にζ“改行して次の
j1クリυ口入する8 [ステアリンM 5 ミリスチン10ミリスチル 2」 2、明細S第29頁第15行に「i合m剤(MIBK/
’トルエンニ1/1) 300Jとある次に、改・行し
て次の通り加入する。
「 ステアリシ醒 5
ミリスチン酸ミリスチル 2」
Claims (1)
- 1 プラスチックフィルムベースの表面に金属薄膜磁性
層を形成した磁気記録媒体において、前記ベースの裏面
には塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合
体、ポリウレタンプレポリマー及びポリイソシアネート
またはこれらとニドiセルp−スとから成る熱硬化バッ
ク層またはアクリル系二重結合、マレイン系二重結合ま
たはアリル系二重結合を有する樹脂より成る放射線硬化
バック層であって、内部に電子顕微鏡撮影にて平均粒子
径10〜60fnμのカーボンブラックと、平均粒子径
60〜200mμのカーボンブラックとを分散し且つ表
面粗度がa、05〜α4fiWLである当該パック層を
形成したことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58152539A JPS6045939A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58152539A JPS6045939A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6045939A true JPS6045939A (ja) | 1985-03-12 |
Family
ID=15542655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58152539A Pending JPS6045939A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6045939A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51113603A (en) * | 1975-03-28 | 1976-10-06 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic tape |
| JPS57169929A (en) * | 1981-04-13 | 1982-10-19 | Tdk Corp | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS57200937A (en) * | 1981-06-05 | 1982-12-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57208636A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-21 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57208635A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-21 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-08-23 JP JP58152539A patent/JPS6045939A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51113603A (en) * | 1975-03-28 | 1976-10-06 | Hitachi Maxell Ltd | Magnetic tape |
| JPS57169929A (en) * | 1981-04-13 | 1982-10-19 | Tdk Corp | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS57200937A (en) * | 1981-06-05 | 1982-12-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57208636A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-21 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57208635A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-21 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
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| JPS62256219A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| US4619868A (en) | Magnetic recording medium | |
| JPS6045937A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6045939A (ja) | 磁気記録媒体 | |
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