JPS6043224A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体に関し、特に優れた物理特性と電
磁変換特性を有する高密度記録媒体に関する。
磁変換特性を有する高密度記録媒体に関する。
従来、磁気記録媒体として使用されて来た強磁性粉末と
しては、例えばγーFe203,Co含有γ−Fe20
. 、 Fe,04 、Co含有F es 04 、
C r 02等があった。しかし、これら強磁性粉末の
保磁力および最大残留磁束密度等の磁気特性は高感度高
密度記録用としては不十分であり、約1μm以下の記録
波長の短い信号や、トラック幅の狭い磁気記録にはあま
り適していない。
しては、例えばγーFe203,Co含有γ−Fe20
. 、 Fe,04 、Co含有F es 04 、
C r 02等があった。しかし、これら強磁性粉末の
保磁力および最大残留磁束密度等の磁気特性は高感度高
密度記録用としては不十分であり、約1μm以下の記録
波長の短い信号や、トラック幅の狭い磁気記録にはあま
り適していない。
このように磁気記録媒体に対する要求が厳しく1よるに
つれて、高密度記録に適する磁性を備えた強磁性粉末が
開発され、或いは提案されている。
つれて、高密度記録に適する磁性を備えた強磁性粉末が
開発され、或いは提案されている。
このような磁性粉末はFe,Co,Fc−Co,Fe−
Co−Ni,Co−Ni 等の金属または合金、これら
とAI,Cr,Si等との合金などがある。かかる合金
粉末を用いた磁気記録jjは高密度記←(の目的には高
い保磁力と高い残留磁束密度とをイ■する必要があり、
上記磁性粉末がこれらの基準に合致するように種々の′
tA造方法或いは合金組成を選択する必要がある。
Co−Ni,Co−Ni 等の金属または合金、これら
とAI,Cr,Si等との合金などがある。かかる合金
粉末を用いた磁気記録jjは高密度記←(の目的には高
い保磁力と高い残留磁束密度とをイ■する必要があり、
上記磁性粉末がこれらの基準に合致するように種々の′
tA造方法或いは合金組成を選択する必要がある。
本発明者は種々の合金粉末を用いて磁気記録媒体を製作
したところ、BET法による比表面積が4a−7gで、
イ「た性層の保磁力が1000Qe以上で、しかも磁性
層の表面粗度(タリステップによる測定法においてカッ
ドオフ0.17 mmで20回平均値(R2O) のこ
と。以下同じ)が0.08μ以下のときに、ノイズレベ
ルが充分に低く、高密度・短波長の記録に適する磁気記
録媒体が得られることを見出した。しかし、良く検討し
て見ると、磁気記録媒体をビデオテープ等として巻回し
、或いは走行ごせるとき、磁性Jケの特性が上記の要件
を満たすだけでは所期の効果を連成できず、磁性層を支
持するプラスチック(通常ポリエステル)フィルムの裏
面の特性が磁気記録媒体の物理的及び電気的特性に対し
て密接な関係を有することが分った。そこで、本発明者
はさらにプラスチックフィルム基体の裏面にバック層を
塗布形成することを試みた。その結果、磁気記録媒体の
S/Nが磁性層に用いた合金粉末のBET法による比表
面積、磁性層の表面粗度に関係するだけでなく、バック
層の表面粗度も関係することが分った。またシンチング
現象(急速停止時の巻きゆるみ)、ノミ゛ツク層の摩耗
や摩擦、磁性層と72ツク層の粘着のflfl !、;
tなどがあり、すぐれたノミツク層を用l/)なしす才
を番′f、電磁変換特性、走行性、耐久性などのすく゛
れた磁気記録媒体を提供することができブ、cし)。
したところ、BET法による比表面積が4a−7gで、
イ「た性層の保磁力が1000Qe以上で、しかも磁性
層の表面粗度(タリステップによる測定法においてカッ
ドオフ0.17 mmで20回平均値(R2O) のこ
と。以下同じ)が0.08μ以下のときに、ノイズレベ
ルが充分に低く、高密度・短波長の記録に適する磁気記
録媒体が得られることを見出した。しかし、良く検討し
て見ると、磁気記録媒体をビデオテープ等として巻回し
、或いは走行ごせるとき、磁性Jケの特性が上記の要件
を満たすだけでは所期の効果を連成できず、磁性層を支
持するプラスチック(通常ポリエステル)フィルムの裏
面の特性が磁気記録媒体の物理的及び電気的特性に対し
て密接な関係を有することが分った。そこで、本発明者
はさらにプラスチックフィルム基体の裏面にバック層を
塗布形成することを試みた。その結果、磁気記録媒体の
S/Nが磁性層に用いた合金粉末のBET法による比表
面積、磁性層の表面粗度に関係するだけでなく、バック
層の表面粗度も関係することが分った。またシンチング
現象(急速停止時の巻きゆるみ)、ノミ゛ツク層の摩耗
や摩擦、磁性層と72ツク層の粘着のflfl !、;
tなどがあり、すぐれたノミツク層を用l/)なしす才
を番′f、電磁変換特性、走行性、耐久性などのすく゛
れた磁気記録媒体を提供することができブ、cし)。
バック層によっては磁気テープを1ノールにlj; i
、ilしたときに強い春きしまりが生じ、そのためノく
ツク層の表面凹凸が磁性層に食い込んで磁性表侑iを荒
うt、、コのためノミツク層の特性力(十分に4Jう力
)すれないことが分った。本発明者% &iz” )ツ
ク1qηに耳−に化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコ
ールA 重合体と、ポリウレタン樹脂と1.j? IJ
イソシアネートとより成る熱硬化性配合物、まブこ&j
こ才tらとニトロセルロースとから成るfly硬化性配
合」勿を・ミインダーとしこれに各種充填剤を加えたも
のを用1.=たところ、バック面及び磁性面の削れのX
少、ドロップアウトの減少、シンチング現象、摩擦のさ
、1工少などのすぐれた効果が得られた。し力)し、イ
1゛在気テープのベースであるポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、yyリイミド、Hc
1)アミド等のプラスチックフィルムが約11μ程度以
下という薄いものが用いられる傾向からテープを巻装し
たときの巻締りが益々大きくなり、バック面の粗さが磁
性面へ転写して出力低下の原因となった。
、ilしたときに強い春きしまりが生じ、そのためノく
ツク層の表面凹凸が磁性層に食い込んで磁性表侑iを荒
うt、、コのためノミツク層の特性力(十分に4Jう力
)すれないことが分った。本発明者% &iz” )ツ
ク1qηに耳−に化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコ
ールA 重合体と、ポリウレタン樹脂と1.j? IJ
イソシアネートとより成る熱硬化性配合物、まブこ&j
こ才tらとニトロセルロースとから成るfly硬化性配
合」勿を・ミインダーとしこれに各種充填剤を加えたも
のを用1.=たところ、バック面及び磁性面の削れのX
少、ドロップアウトの減少、シンチング現象、摩擦のさ
、1工少などのすぐれた効果が得られた。し力)し、イ
1゛在気テープのベースであるポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、yyリイミド、Hc
1)アミド等のプラスチックフィルムが約11μ程度以
下という薄いものが用いられる傾向からテープを巻装し
たときの巻締りが益々大きくなり、バック面の粗さが磁
性面へ転写して出力低下の原因となった。
本発明は、」1記の特定の合金磁性粉末を含有する特定
の表面粗度を有する磁性層をプラスチックフィルムベー
スに塗布して成る記録媒体の裏面に、放射線(イオン化
性放射線)硬化型樹脂及び必要ならば所定の充填剤を分
散させたノミツク層によりバック層が磁性面へ成型転写
することがなく、従って出力の大きい磁気記録媒体を提
供するものである。この場合にバック層面の表面粗度が
重要であって0.05〜06μ乳の範囲に選択すべきこ
とが分った。表面粗度が06μmより大きいと上記の裏
型転写の問題が避けられない。また逆に005μm以下
であると走行摩擦、シンチングなどに間p(lが牛じる
。
の表面粗度を有する磁性層をプラスチックフィルムベー
スに塗布して成る記録媒体の裏面に、放射線(イオン化
性放射線)硬化型樹脂及び必要ならば所定の充填剤を分
散させたノミツク層によりバック層が磁性面へ成型転写
することがなく、従って出力の大きい磁気記録媒体を提
供するものである。この場合にバック層面の表面粗度が
重要であって0.05〜06μ乳の範囲に選択すべきこ
とが分った。表面粗度が06μmより大きいと上記の裏
型転写の問題が避けられない。また逆に005μm以下
であると走行摩擦、シンチングなどに間p(lが牛じる
。
本発明の磁気記録媒体におりる磁性J<’2は、保(1
代力(Hc)1ooooe以」二で、含有する合金磁性
粉のBET法による比表面積が4 s m27g以上で
、且つ表面粗度(後述のタリステップによる測定におい
てカットオフ017mmで20点平均(R20)の値、
以下同じ)が008μm以下のものを用いる。保磁力の
好ましい範囲は1000〜20000eであり、これ以
上の範囲では記録時に磁気へラドが飽和しまた消磁が回
動になる。磁性粉の比表面積は大きい程S/N比を改善
する傾向があるが、あまり比表面積が大きいと磁性粉へ
のバインダー中への分散が悪くなりまた効果が飽和する
傾向を有することが分った。一方、’A j+’+i
flt 1Bが小さいと短波長の記録感度が上昇する。
代力(Hc)1ooooe以」二で、含有する合金磁性
粉のBET法による比表面積が4 s m27g以上で
、且つ表面粗度(後述のタリステップによる測定におい
てカットオフ017mmで20点平均(R20)の値、
以下同じ)が008μm以下のものを用いる。保磁力の
好ましい範囲は1000〜20000eであり、これ以
上の範囲では記録時に磁気へラドが飽和しまた消磁が回
動になる。磁性粉の比表面積は大きい程S/N比を改善
する傾向があるが、あまり比表面積が大きいと磁性粉へ
のバインダー中への分散が悪くなりまた効果が飽和する
傾向を有することが分った。一方、’A j+’+i
flt 1Bが小さいと短波長の記録感度が上昇する。
上記の特性を自足させうる磁性合金としてはCOl F
e−Co、Fe−Co−Ni 、 c o−Ni ブエ
と 、 !たこれにCr、AI%Si等を添加した微
粉末が用いられる。これらは金f’s 塩をBH,?の
貰元剤で1:、+!。
e−Co、Fe−Co−Ni 、 c o−Ni ブエ
と 、 !たこれにCr、AI%Si等を添加した微
粉末が用いられる。これらは金f’s 塩をBH,?の
貰元剤で1:、+!。
武運元した微粉末、酸化鉄表面をSi化合物で被覆した
後、H,ガス中で乾式、、117.L元したj穴粉末、
戊いは合金を低圧アルゴン中で蒸発させた微粉末などで
、軸比1:5〜1:10を有し、残留磁束密度Br=2
[]00〜3000ガウX+7)もノテ、且つ上記保磁
力及び表面積の条件を憫たすものである。
後、H,ガス中で乾式、、117.L元したj穴粉末、
戊いは合金を低圧アルゴン中で蒸発させた微粉末などで
、軸比1:5〜1:10を有し、残留磁束密度Br=2
[]00〜3000ガウX+7)もノテ、且つ上記保磁
力及び表面積の条件を憫たすものである。
合金磁性粉は各種ノミインダーを用いて磁性塗料とする
ことができるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダー及
び放射線硬化系ノミインダーが好適であり、その他添加
剤として分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用
いることができる。BIT表面積比が48が7gの磁性
粉を用いるため、分散性に問題があるので分散剤として
は界面活性剤や有機チタンカップリング剤などを用いる
と良い。
ことができるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダー及
び放射線硬化系ノミインダーが好適であり、その他添加
剤として分散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用
いることができる。BIT表面積比が48が7gの磁性
粉を用いるため、分散性に問題があるので分散剤として
は界面活性剤や有機チタンカップリング剤などを用いる
と良い。
バインダーとしては塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルア
ルコール共重合体、ポリウレタンプレポリマー及びポリ
イソシアネートより成るバインダー、或いはこれにさら
にニトロセルロースを加えたノミインダー、その他公知
の熱硬化性バインダー、或いはイオン化エネルギーに感
応するアクリル系二重結合やマレイン系二重結合などを
樹脂の基として含有する放射線硬化型バインダーなどが
使用できる。
ルコール共重合体、ポリウレタンプレポリマー及びポリ
イソシアネートより成るバインダー、或いはこれにさら
にニトロセルロースを加えたノミインダー、その他公知
の熱硬化性バインダー、或いはイオン化エネルギーに感
応するアクリル系二重結合やマレイン系二重結合などを
樹脂の基として含有する放射線硬化型バインダーなどが
使用できる。
通常の方法に従って、合金磁性粉末を72インダー及び
所定の溶剤並びに各l添加剤と混合して磁性塗料とし、
これをポリエステルベース等の基体に塗布し、熱硬化ま
たは放射線硬化して磁性1+iJを形成し、カレンダー
加工し、さらにノミツク層を同様に形成し、そしてさら
にカレンダー加工を行7.cって所定の表面粗度のもの
に仕上げる。
所定の溶剤並びに各l添加剤と混合して磁性塗料とし、
これをポリエステルベース等の基体に塗布し、熱硬化ま
たは放射線硬化して磁性1+iJを形成し、カレンダー
加工し、さらにノミツク層を同様に形成し、そしてさら
にカレンダー加工を行7.cって所定の表面粗度のもの
に仕上げる。
本発明においてポリエステルベース等のプラスチックフ
ィルムベースの裏面に形成するノミツク層は放射線硬化
性樹脂組成物である。
ィルムベースの裏面に形成するノミツク層は放射線硬化
性樹脂組成物である。
バンク層の表面粗度は0.05〜06μmにすることが
望まれる。表面粗度はバック層の材料と相俟ってテープ
の走行性及び耐摩耗性を改善するだりでなく、磁性層と
の粘着及びシンチング現象を減じ、さらに磁性層の表面
粗度と相関してバック層の表面Nl1度が06μm以下
のときS/Nを改善することが分った。表面粗度が00
5μm以下になるとシンチング現象、粘着性、走行性に
問題が生じることが分った。
望まれる。表面粗度はバック層の材料と相俟ってテープ
の走行性及び耐摩耗性を改善するだりでなく、磁性層と
の粘着及びシンチング現象を減じ、さらに磁性層の表面
粗度と相関してバック層の表面Nl1度が06μm以下
のときS/Nを改善することが分った。表面粗度が00
5μm以下になるとシンチング現象、粘着性、走行性に
問題が生じることが分った。
本発明のバック層に用いる放射線硬化型樹脂は放射線硬
化性二重結合を有するアクリル系二重結合、マレイン系
二重結合、或いはアリル系二重結合を有する樹脂である
。
化性二重結合を有するアクリル系二重結合、マレイン系
二重結合、或いはアリル系二重結合を有する樹脂である
。
本発明のメックに’tを用いると、テープ状に裁断して
巻装したときの巻きしまりが少なくなり、そのためバッ
ク層表面の粗さが磁性面に転写するおそれがなく電磁特
性が改善され、また粘着性も大11ttlに改932れ
てシンチング現象が抑制される。バックj・1〆;は強
じんで、熱硬化性樹脂によるバック層よりも耐摩耗性が
高く、摩擦係数も少ない。
巻装したときの巻きしまりが少なくなり、そのためバッ
ク層表面の粗さが磁性面に転写するおそれがなく電磁特
性が改善され、また粘着性も大11ttlに改932れ
てシンチング現象が抑制される。バックj・1〆;は強
じんで、熱硬化性樹脂によるバック層よりも耐摩耗性が
高く、摩擦係数も少ない。
バック層が放射線硬化型であると、熱硬化型のものより
も均一で強じんなバック層が形成でき、しかも熱硬化時
の裏型転写(磁性面に、?ツク面の粗さが転写される現
象)もないので有利である。
も均一で強じんなバック層が形成でき、しかも熱硬化時
の裏型転写(磁性面に、?ツク面の粗さが転写される現
象)もないので有利である。
さらに、製造上、磁性面、バック面がいずれも放射線硬
化される場合には連続硬化が可能であり、上記の裏型転
写がないのでドロップアウトが防止できる。その上、放
射線硬化は省エネルギー対策、製造時の人員の減少にも
役立ち、コストの低減につながる。特性面では熱硬化時
の巻きしまりによるドロップアウトの外に、ロール状に
巻かれたときの内外径の個所の圧力のちがいにより磁気
テープの長さ方向の距離による出力差が生じることもな
くなる。これは、ベース厚が11μ以下と薄くなり、ま
た金属磁性粉の硬度が1− Fe、Q3フ:cどの磁性
酸化物よりも小さい、ために磁性層の表面硬度が小さく
巻きしまりの影響を受け易いためであるが、放射線硬化
型のバック層ではこの影響を取除くことができ、内外径
での出力差やドロップアウトの差を除くことができる。
化される場合には連続硬化が可能であり、上記の裏型転
写がないのでドロップアウトが防止できる。その上、放
射線硬化は省エネルギー対策、製造時の人員の減少にも
役立ち、コストの低減につながる。特性面では熱硬化時
の巻きしまりによるドロップアウトの外に、ロール状に
巻かれたときの内外径の個所の圧力のちがいにより磁気
テープの長さ方向の距離による出力差が生じることもな
くなる。これは、ベース厚が11μ以下と薄くなり、ま
た金属磁性粉の硬度が1− Fe、Q3フ:cどの磁性
酸化物よりも小さい、ために磁性層の表面硬度が小さく
巻きしまりの影響を受け易いためであるが、放射線硬化
型のバック層ではこの影響を取除くことができ、内外径
での出力差やドロップアウトの差を除くことができる。
本発明で用いる放射線硬化性または感応性樹脂は放射線
によりラジカルを発生して架橋を行うような、分子鎖中
に不飽和2重結合を2個以上含むものであり、これはま
た熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによっても可
能である。なお、磁性Rが放射線感応性(硬化型)樹脂
をバインダーとして用いる場合はバック層の樹脂として
記載する以下のものを用いることができるものと理解す
べきである。
によりラジカルを発生して架橋を行うような、分子鎖中
に不飽和2重結合を2個以上含むものであり、これはま
た熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによっても可
能である。なお、磁性Rが放射線感応性(硬化型)樹脂
をバインダーとして用いる場合はバック層の樹脂として
記載する以下のものを用いることができるものと理解す
べきである。
放射線感応変性の具体例としては、ラジカル重合性を有
する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸あ
るいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重
結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、
マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の放射
線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を分子中に導
入することである。
する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸あ
るいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重
結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、
マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の放射
線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を分子中に導
入することである。
その池数射線照射により架橋重合する不飽和二重結合で
あれば用いる事が出来る。
あれば用いる事が出来る。
放射線感応樹脂に変性できる熱可塑性樹脂を以下に示す
。
。
(I) 塩化ビニール系共重合体
塩化ビニール−酢酸ビニール−ビニールアルコール共重
合体、塩化ビニール−ビニルアルコール共重合体、塩化
ビニール−ビニルアルコール−プロピオン酸ビニール共
重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸共重
合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−末端OHg+t1
鎖アルキル基共重合体、たとえばUCC社VROH1V
YNC,VYEGX等またIJCC社VERHのマレイ
ン酸導入型等が挙げられる。
合体、塩化ビニール−ビニルアルコール共重合体、塩化
ビニール−ビニルアルコール−プロピオン酸ビニール共
重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−マレイン酸共重
合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−末端OHg+t1
鎖アルキル基共重合体、たとえばUCC社VROH1V
YNC,VYEGX等またIJCC社VERHのマレイ
ン酸導入型等が挙げられる。
上記共重合体に後に述べる手法により、アクリル系二重
結合、マレイン酸系ニアfi結合、アリル系二重結合を
導入し放射線感応変性を行ったもの (I[) 飽和ポリエステル樹脂 フタル醒、インフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、
マレイン酸誘導体、コノ・り酸、アジピン酸、セバシン
酸、のような飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、クリセリン、トリメチロールプロパ
ン、12プロピレングリコール、t3ブタンジオール、
ジエチレングリコール、14ブタンジオール、t6ヘキ
サンジオール、ペンタエリスリット、ソルビトール、グ
リセリン、ネオペンチルグリコール、t4シクロヘキサ
ンジメタツールのような多価アルコールとのエステル結
合にょシ得られる飽和ポリエステル樹脂又はこれらのポ
リエステル樹脂をSO3Na等で変性した樹脂(バイロ
ン56S)。これらを後に述べる手法にょシ放射線感応
変性を行なったもの (III) 不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第(IN)項の熱可塑性樹脂と
して記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か
ら成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽
和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙け
ることができる。
結合、マレイン酸系ニアfi結合、アリル系二重結合を
導入し放射線感応変性を行ったもの (I[) 飽和ポリエステル樹脂 フタル醒、インフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、
マレイン酸誘導体、コノ・り酸、アジピン酸、セバシン
酸、のような飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、クリセリン、トリメチロールプロパ
ン、12プロピレングリコール、t3ブタンジオール、
ジエチレングリコール、14ブタンジオール、t6ヘキ
サンジオール、ペンタエリスリット、ソルビトール、グ
リセリン、ネオペンチルグリコール、t4シクロヘキサ
ンジメタツールのような多価アルコールとのエステル結
合にょシ得られる飽和ポリエステル樹脂又はこれらのポ
リエステル樹脂をSO3Na等で変性した樹脂(バイロ
ン56S)。これらを後に述べる手法にょシ放射線感応
変性を行なったもの (III) 不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第(IN)項の熱可塑性樹脂と
して記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か
ら成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽
和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙け
ることができる。
飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルプール
成分は第(I)項に記載した各化合物を挙けることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合として社マレイン酸、
フマル酸等を挙げることができる。
成分は第(I)項に記載した各化合物を挙けることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合として社マレイン酸、
フマル酸等を挙げることができる。
放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂のル2法は、多塩
基酸成分1種以上と多価フルコール成分1種以上にマレ
イン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在18
0〜200℃窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反
応の稜、240〜280℃まで昇温し、05〜1 mm
、Hg の減圧下縮合反応によpポリエステルイ立J刃
Fi k (Uることがてきる。マレイン酸やフマル酸
等の含有゛■1−X−は、製造時の架橋、放射線硬化性
等から酸成分中1〜40モルヴで好ましくは10〜60
モル饅である。
基酸成分1種以上と多価フルコール成分1種以上にマレ
イン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在18
0〜200℃窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反
応の稜、240〜280℃まで昇温し、05〜1 mm
、Hg の減圧下縮合反応によpポリエステルイ立J刃
Fi k (Uることがてきる。マレイン酸やフマル酸
等の含有゛■1−X−は、製造時の架橋、放射線硬化性
等から酸成分中1〜40モルヴで好ましくは10〜60
モル饅である。
0vlホリビニルアルコール系4ΩJllt?ポリビニ
ルアルコール、ブチラールMI+ JIM 、アセター
ル樹お旨、ホルマール樹11M及びこれらの成分の共重
合体。これら樹脂中に金塊れる水酸基を後に述べる手法
により放射線感応化変性を行なったもの。
ルアルコール、ブチラールMI+ JIM 、アセター
ル樹お旨、ホルマール樹11M及びこれらの成分の共重
合体。これら樹脂中に金塊れる水酸基を後に述べる手法
により放射線感応化変性を行なったもの。
■ エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂
ビスフェノールAとエピクロルヒドリン、メチルエピク
ロルヒドリンの反応によるエポキシ樹脂−シエル化学製
(エピコー)152,154゜828.1001.10
04’、1007 )ダウケミカル製(DEN431.
DER732,DER511。
ロルヒドリンの反応によるエポキシ樹脂−シエル化学製
(エピコー)152,154゜828.1001.10
04’、1007 )ダウケミカル製(DEN431.
DER732,DER511。
DER331L大日本インキ製(エピクロン400、エ
ピクロン−aOO)、更に上記エポキシの高重合K 4
ft脂であるUCC社製フェノキシ樹脂(pKnA、P
KHC,PKHH)臭素化ビスフェノールAとエピクロ
ルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工業製(エ
ピクロン145゜152、153.1120 )等。
ピクロン−aOO)、更に上記エポキシの高重合K 4
ft脂であるUCC社製フェノキシ樹脂(pKnA、P
KHC,PKHH)臭素化ビスフェノールAとエピクロ
ルヒドリンとの共重合体、大日本インキ化学工業製(エ
ピクロン145゜152、153.1120 )等。
これら@脂中に含ま・れるエポキシ基を利用して、放射
線感応変性を行ったもの (ロ)繊維素誘導体 各釉分子月゛の輸維素糸誘導体も、また熱可塑性プラス
チック成分として効果的である。その中でも、特に効果
的なものL硝化綿、セルローズアセトブチレート、エチ
ルセルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルロース
等が好適であシ、樹脂中の水酸基を活性して後に述べる
手法により放射線感応変性を行なったもの その他、放射性感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体(PVPオ
レフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステル及びメタクリルエステルを少く
とも一種以上重合成分として含むアクリル系樹脂等も有
効である。
線感応変性を行ったもの (ロ)繊維素誘導体 各釉分子月゛の輸維素糸誘導体も、また熱可塑性プラス
チック成分として効果的である。その中でも、特に効果
的なものL硝化綿、セルローズアセトブチレート、エチ
ルセルローズ、ブチルセルローズ、アセチルセルロース
等が好適であシ、樹脂中の水酸基を活性して後に述べる
手法により放射線感応変性を行なったもの その他、放射性感応変性に用いることのできる樹脂とし
ては、多官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル
樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂及び誘導体(PVPオ
レフィン共重合体)、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂
、フェノール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含
有するアクリルエステル及びメタクリルエステルを少く
とも一種以上重合成分として含むアクリル系樹脂等も有
効である。
さらに上記放射線感応変性熱可塑性樹脂に熱可塑性エラ
ストマー又はプレポリマーをブレンドすることにより、
一層強靭な塗膜とすることができる。さらに、下記に述
べるように、これらニジストマーあるいはプレポリマー
が、同様に放射線E・\応性に変性された場合は、より
効果的である。以下に、上記放射線感応樹脂と組み合わ
せることのできるエラストマー又はプレポリマーを徐け
る。
ストマー又はプレポリマーをブレンドすることにより、
一層強靭な塗膜とすることができる。さらに、下記に述
べるように、これらニジストマーあるいはプレポリマー
が、同様に放射線E・\応性に変性された場合は、より
効果的である。以下に、上記放射線感応樹脂と組み合わ
せることのできるエラストマー又はプレポリマーを徐け
る。
(I) ポリウレタンエラストマー及びプレポリマー及
びテロマー ポリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、PETフィル
ムへの接着性が良い点で特に有効である。
びテロマー ポリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、PETフィル
ムへの接着性が良い点で特に有効である。
このようなウレタン化合物の例としては、インシアネー
トとして、Z4−トルエンジイソシアネート、2.6−
)ルエンジイソシアネート、1.3−キシレンジイン
シアネート、1.4−キシレンジイソシアネート、15
−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソ
シアネート、p−フエニレンジイソシアネー)、3.3
’−ジメチル−44I−ジフエニルメタンジイソシアネ
ート、44I−ジフェニルメタンジイソシアネート、3
.3’−ジメチルビフェニレyジインシアネー)、44
’−ビフェニレンジインシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、イン7オ四ンジイソシアネート、ジシ
クロヘキシルメタンジイソシアネー:・、デ2.モジュ
ールL1デスモジュールN等の各種多価イソシアネート
と、線状飽和ポリエステル(エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、14−ブタンジオール、16−ヘキサンジオール、
ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリ
コール、14−シクロヘキサンジメタツールの様な多価
アルコールと、7タル酸、インフタル酸、テレフタル酸
、マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、の
機力飽和多塩基酸との縮重合によるもの)、線状飽和ポ
リエーテル(ポリエチレングリコール、ポリフロピレン
ゲリコール、ポリテトラエチレングリコール)やカプロ
ラクタム、ヒドロキシン含有アクリル酸エステル、ヒド
ロキシ含有メタクリルエステル等の各柚ポリニスデル類
の縮% 合物より成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマー、テロマーが有効である。
トとして、Z4−トルエンジイソシアネート、2.6−
)ルエンジイソシアネート、1.3−キシレンジイン
シアネート、1.4−キシレンジイソシアネート、15
−ナフタレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソ
シアネート、p−フエニレンジイソシアネー)、3.3
’−ジメチル−44I−ジフエニルメタンジイソシアネ
ート、44I−ジフェニルメタンジイソシアネート、3
.3’−ジメチルビフェニレyジインシアネー)、44
’−ビフェニレンジインシアネート、ヘキサメチレンジ
イソシアネート、イン7オ四ンジイソシアネート、ジシ
クロヘキシルメタンジイソシアネー:・、デ2.モジュ
ールL1デスモジュールN等の各種多価イソシアネート
と、線状飽和ポリエステル(エチレングリコール、ジエ
チレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、14−ブタンジオール、16−ヘキサンジオール、
ペンタエリスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリ
コール、14−シクロヘキサンジメタツールの様な多価
アルコールと、7タル酸、インフタル酸、テレフタル酸
、マレイン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、の
機力飽和多塩基酸との縮重合によるもの)、線状飽和ポ
リエーテル(ポリエチレングリコール、ポリフロピレン
ゲリコール、ポリテトラエチレングリコール)やカプロ
ラクタム、ヒドロキシン含有アクリル酸エステル、ヒド
ロキシ含有メタクリルエステル等の各柚ポリニスデル類
の縮% 合物より成るポリウレタンエラストマー、プレ
ポリマー、テロマーが有効である。
これらのエラストマーを放射線感応変性の各種熱可塑性
プラスチックスとそのまま組合せても良いが、更にウレ
タンエ′ラストマーの末端のインシアネート基又は水酸
基と反応するアクリル系二重結合又はアリル系二重結合
活を有する単量体と反応させることにより、放射線感応
性に変性するととは非常に効果的でおる。
プラスチックスとそのまま組合せても良いが、更にウレ
タンエ′ラストマーの末端のインシアネート基又は水酸
基と反応するアクリル系二重結合又はアリル系二重結合
活を有する単量体と反応させることにより、放射線感応
性に変性するととは非常に効果的でおる。
(n) アクリルニトリル−ブタジェン共重合エンスト
ブー シンクレアベトロケミカル社製ポリBDリクイツドレン
ジとして市販されている末端水酸基のおるアクリ、ロニ
トリルブタジエン共重合体プレポリマー、あるいは日本
上オン社製ハイカー1452J等のニジストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によpラジカルを生
じ架橋及び重合させるニジストマー成分として適する。
ブー シンクレアベトロケミカル社製ポリBDリクイツドレン
ジとして市販されている末端水酸基のおるアクリ、ロニ
トリルブタジエン共重合体プレポリマー、あるいは日本
上オン社製ハイカー1452J等のニジストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によpラジカルを生
じ架橋及び重合させるニジストマー成分として適する。
(ト) ポリブタジエンエジストマー
シツクレアペトロケミカル社製ポリBDリクイツドレジ
ンR−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性プラスチックとの相溶性の点で好適で
ある。R−15プレポリマーにおいては分子末端が水酸
基となっている為分子末端をアクリル系不飽和二重結合
を付加することによシ放射紳感応性を高めることが可能
であシ、バインダーとして更に有利とガる。
ンR−15等の低分子量末端水酸基を有するプレポリマ
ーが特に熱可塑性プラスチックとの相溶性の点で好適で
ある。R−15プレポリマーにおいては分子末端が水酸
基となっている為分子末端をアクリル系不飽和二重結合
を付加することによシ放射紳感応性を高めることが可能
であシ、バインダーとして更に有利とガる。
1だ、ポリブタジェンの環化物日本合成ゴム製CBR−
M901も熱可塑性プラスチックスとの組合せによシす
ぐれた性能を発揮する。特に、環化されたポリブタジェ
ンは、ポリブタジェン本来の有する不飽和結合のラジカ
ルにより放射線による架橋重合の効率が良く、バインダ
ーとして優れた性質を有している。
M901も熱可塑性プラスチックスとの組合せによシす
ぐれた性能を発揮する。特に、環化されたポリブタジェ
ンは、ポリブタジェン本来の有する不飽和結合のラジカ
ルにより放射線による架橋重合の効率が良く、バインダ
ーとして優れた性質を有している。
その他熱可塑性エラストマー及びそのプレポリマーの系
で好適なものとしては−、スチレン−ブタジェンゴム、
塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化
物(日本合成ゴム製CI R701)、エボキ7変性ゴ
ム、内部可2)す化飽和線状ポリエステル(東洋紡バイ
ロン#5oo)、等のエラストマーも下記に述べる放射
線感応変1〈」−処理をほどこすことにより有効に利用
できる。
で好適なものとしては−、スチレン−ブタジェンゴム、
塩化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化
物(日本合成ゴム製CI R701)、エボキ7変性ゴ
ム、内部可2)す化飽和線状ポリエステル(東洋紡バイ
ロン#5oo)、等のエラストマーも下記に述べる放射
線感応変1〈」−処理をほどこすことにより有効に利用
できる。
次に、放射&!感応性バインダー合成例を説明する。
トリレンジインシアネートのアダクトの製11a) 塩
化ビニール酢酸ビニール共重合系樹Jfr’ (力、’
i射線感応変性樹脂)のアクリル変性体の合成ビニライ
トVAGH750部とトルエン1250部シクロヘキサ
ノン500部を514つロフラスコに仕込み加熱溶解し
、80℃昇温昇温ジトリレンジインシアネート−ヒドロ
キシエチルメタアクリレートアダクトを614部加え、
更にオクチル酸スズ0012部、ハイドロキノン0.0
12 部加え80℃でN2気流中NCO反応率が90%
となる首で反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエ
チルケト71250部を加え稀釈する。
化ビニール酢酸ビニール共重合系樹Jfr’ (力、’
i射線感応変性樹脂)のアクリル変性体の合成ビニライ
トVAGH750部とトルエン1250部シクロヘキサ
ノン500部を514つロフラスコに仕込み加熱溶解し
、80℃昇温昇温ジトリレンジインシアネート−ヒドロ
キシエチルメタアクリレートアダクトを614部加え、
更にオクチル酸スズ0012部、ハイドロキノン0.0
12 部加え80℃でN2気流中NCO反応率が90%
となる首で反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエ
チルケト71250部を加え稀釈する。
※トリレンジインシアネート(TDI)の2−ヒドロキ
シエチルメタアクリレート(2HEMA)アダクトの製
法 トリレンジインシアネート648部をN、気流中11の
4つロフラスコ内で80°Cに加熱後、2−へキサエチ
レンメタアクリレ−[260部、オクチル酸スズ0.0
7部、ハイドロキノンo、 o s 部を反応缶内の温
此が80〜85℃となるように冷却コントロールしなが
ら滴下終了後80℃で5時間攪拌し反応を完結させる。
シエチルメタアクリレート(2HEMA)アダクトの製
法 トリレンジインシアネート648部をN、気流中11の
4つロフラスコ内で80°Cに加熱後、2−へキサエチ
レンメタアクリレ−[260部、オクチル酸スズ0.0
7部、ハイドロキノンo、 o s 部を反応缶内の温
此が80〜85℃となるように冷却コントロールしなが
ら滴下終了後80℃で5時間攪拌し反応を完結させる。
反応終了抜取シ出して冷却後白色ペースト状のTDIの
2HEMAを得だ。
2HEMAを得だ。
b)ブチラール樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応
変性樹脂) ブチラール樹脂積水化学製BM−8100部をトルエン
1912部シクロへギザノン71. /I 7’l(ニ
514つ目フラスコに仕込み加熱溶解し80℃昇温後ト
、リレンジイソシアネートの2−ヒドロキシエチルメタ
アクリレートアダクト′°゛を7.4部加え、更にオク
チル酸スズ0015部、ハイドロキノン0、015部を
加え、80℃でN2気流中NCO反応率が90%以上と
在る寸で反応せしめる。反応終了後冷却しメチルエチル
ケトンにて稀釈する。
変性樹脂) ブチラール樹脂積水化学製BM−8100部をトルエン
1912部シクロへギザノン71. /I 7’l(ニ
514つ目フラスコに仕込み加熱溶解し80℃昇温後ト
、リレンジイソシアネートの2−ヒドロキシエチルメタ
アクリレートアダクト′°゛を7.4部加え、更にオク
チル酸スズ0015部、ハイドロキノン0、015部を
加え、80℃でN2気流中NCO反応率が90%以上と
在る寸で反応せしめる。反応終了後冷却しメチルエチル
ケトンにて稀釈する。
C)飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合ル゛給(
放射線感応変性樹脂) 東洋紡製バイロンRV−200100部をトルエン11
6部、メチルエチルケト7116部に加熱溶解し80℃
列温後TD、Iの211部MAアダクーを655部加え
、オクチル酸スズ0007部、ハイドロキノン0.00
7部を添加し、N2%流中80℃でNC0反応率90%
以上と々るまて反応せしめる。
放射線感応変性樹脂) 東洋紡製バイロンRV−200100部をトルエン11
6部、メチルエチルケト7116部に加熱溶解し80℃
列温後TD、Iの211部MAアダクーを655部加え
、オクチル酸スズ0007部、ハイドロキノン0.00
7部を添加し、N2%流中80℃でNC0反応率90%
以上と々るまて反応せしめる。
d)エポキシ樹脂アクリル変性体の合成(放射線感応変
性樹脂) シェル化学製エピコー)1007 400部をトルエン
50部MEI(50部に加熱溶解後NN−ジメチルベン
ジルアミン0. OO’6部、ハイドロキノン0.00
3部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を滴下し8
0℃で酸化5以下となるまで反応せしめる。
性樹脂) シェル化学製エピコー)1007 400部をトルエン
50部MEI(50部に加熱溶解後NN−ジメチルベン
ジルアミン0. OO’6部、ハイドロキノン0.00
3部を添加し80℃とし、アクリル酸69部を滴下し8
0℃で酸化5以下となるまで反応せしめる。
e) ウレタンニジストマーアクリル変性体の合成(放
射線感応ニジストマー) 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
)(MDI)系ウレタンプレポリマー(日本ボリウレク
ン製ニツボラン4040)250部、2 I−IEMA
52.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸
スズ0009部を反応缶に入れ、80℃に加熱溶解後T
DI 43.5部を反応缶内の温度が80〜90℃とな
る様に冷却しながら滴下し、滴下終了後80℃でNC0
反応率95−以上となるまで反応せしめる。
射線感応ニジストマー) 末端インシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
)(MDI)系ウレタンプレポリマー(日本ボリウレク
ン製ニツボラン4040)250部、2 I−IEMA
52.5部、ハイドロキノン0.07部、オクチル酸
スズ0009部を反応缶に入れ、80℃に加熱溶解後T
DI 43.5部を反応缶内の温度が80〜90℃とな
る様に冷却しながら滴下し、滴下終了後80℃でNC0
反応率95−以上となるまで反応せしめる。
f)ポリエーテル系末端ウレタン変性ニジストマーアク
リル変性体の合成(放射線感応エラストマー) 日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−50025
0部、2 HEMA 32.5部、ハイドロキノン00
07部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入れ8
0℃に加熱溶解後I’ D I 43.5部を反応缶内
の温度が80〜90°Cとなるように冷却し寿から滴下
し、滴下終了後80℃でNCO反応率95係以上となる
まで反応せしめる。
リル変性体の合成(放射線感応エラストマー) 日本ポリウレタン社製ポリエーテルPTG−50025
0部、2 HEMA 32.5部、ハイドロキノン00
07部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に入れ8
0℃に加熱溶解後I’ D I 43.5部を反応缶内
の温度が80〜90°Cとなるように冷却し寿から滴下
し、滴下終了後80℃でNCO反応率95係以上となる
まで反応せしめる。
g) ポリブタジェンエラストマーアクリ/l、 ′に
軸体の合成(放射線感応ニジストマー) シンクレアペトロケミカル社製低分子−帛末f「11水
酸基ポリブタジエンポリBDリクイツトレジンR−15
250部、2 HEMA 32.5部、ハイドロキノン
0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に
入れ、80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内
の温度が80〜90℃となるように冷却しガから滴下し
、滴下終了後80°CでNCO反応率95チ以上となる
まで反応せしめる。
軸体の合成(放射線感応ニジストマー) シンクレアペトロケミカル社製低分子−帛末f「11水
酸基ポリブタジエンポリBDリクイツトレジンR−15
250部、2 HEMA 32.5部、ハイドロキノン
0.007部、オクチル酸スズ0.009部を反応缶に
入れ、80℃に加熱溶解後TDI43.5部を反応缶内
の温度が80〜90℃となるように冷却しガから滴下し
、滴下終了後80°CでNCO反応率95チ以上となる
まで反応せしめる。
また高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間
に架橋を起すものが知られている。分子間に架橋を起す
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルビルリド
ンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインがあ
る。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性
を特に施さガくても、架橋反応が起るので、そのませ放
射線架橋用バックコート樹脂として使用可能である。
に架橋を起すものが知られている。分子間に架橋を起す
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルビルリド
ンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインがあ
る。この様な架橋型ポリマーであれば上記のような変性
を特に施さガくても、架橋反応が起るので、そのませ放
射線架橋用バックコート樹脂として使用可能である。
さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無浴剤
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様ガ樹脂をノくツクコート用として用いることも
できる。
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様ガ樹脂をノくツクコート用として用いることも
できる。
また、本発明のバックコートの架橋に使用する活性エネ
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、
COoo を線源としだγ−線、Sr 90 を線源と
したβ−線、X線発生器を線源としたX−線等が使用さ
れる。
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、
COoo を線源としだγ−線、Sr 90 を線源と
したβ−線、X線発生器を線源としたX−線等が使用さ
れる。
特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、−電離放射線のしゃ閉等の見地から放射線加
熱器によシ放射線を使用する方法が有利である。
への導入、−電離放射線のしゃ閉等の見地から放射線加
熱器によシ放射線を使用する方法が有利である。
バック層を硬化する際に使用する放射線特性としては、
透過力の面から加速電圧100〜750KV好ましくは
150〜300KVの放射線加速器を用い吸収線量を0
5〜20メガランドになるように照射するのが好都合で
ある。
透過力の面から加速電圧100〜750KV好ましくは
150〜300KVの放射線加速器を用い吸収線量を0
5〜20メガランドになるように照射するのが好都合で
ある。
本発明のバック層硬化に際しては、米国エナージーサイ
エンス社にて製造されている低Kl smタイプの放射
線加速器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコ
ーティング加エラインへの導入、加速器内部の2次X線
の遮蔽等に極めて有利である。
エンス社にて製造されている低Kl smタイプの放射
線加速器(エレクトロカーテンシステム)等がテープコ
ーティング加エラインへの導入、加速器内部の2次X線
の遮蔽等に極めて有利である。
勿論、従来よシ放射線加速材として広く活用されている
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良い。
ところのファンデグラフ型加速器を使用しても良い。
また、放射線架橋に際しては、N、ガスH,eガス等の
不活性ガス気流中で放射線をバック層に照射することが
重要であ)、空気中で放射線を照射することは、バイン
ダー成分の架橋に際し放射線照射により生じfco s
等の影響でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋反
応に働く事を阻害するので極めて不利である。
不活性ガス気流中で放射線をバック層に照射することが
重要であ)、空気中で放射線を照射することは、バイン
ダー成分の架橋に際し放射線照射により生じfco s
等の影響でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋反
応に働く事を阻害するので極めて不利である。
従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で1俤のN、、、He。
特に酸素濃度が最大で1俤のN、、、He。
CO2笠の不活性ガス算囲気に保つことが重要となる。
その他側用可能hバインダー成分としては、単量体とし
てアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタク
リルアミド等がある。二重結合のあるバインダーとして
は種々のポリエステル、ポリオール、ポリウレタン等を
アクリル系二重結合を有する化合物で変性することがで
きる。必要に応じて多価アルコールと多価カルボン酸を
配合することによって種々の分子量のものもできる。放
射綜感応樹脂としては上記内容は一部を記したにすぎな
い。これらのものが混合されていてもかまわない。
てアクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタク
リルアミド等がある。二重結合のあるバインダーとして
は種々のポリエステル、ポリオール、ポリウレタン等を
アクリル系二重結合を有する化合物で変性することがで
きる。必要に応じて多価アルコールと多価カルボン酸を
配合することによって種々の分子量のものもできる。放
射綜感応樹脂としては上記内容は一部を記したにすぎな
い。これらのものが混合されていてもかまわない。
また、本発明でバック層中に上記結合材とともに使用さ
れる充填材としては、導電性のある1)グラファイト、
カーポアブラックまた2)無機充填材としてはS A0
21 TiO2+ A120s + Cr、Os +S
IC9CaCO,、酸化亜鉛、ゲーサイト。
れる充填材としては、導電性のある1)グラファイト、
カーポアブラックまた2)無機充填材としてはS A0
21 TiO2+ A120s + Cr、Os +S
IC9CaCO,、酸化亜鉛、ゲーサイト。
αF e * Os + タルク、カオリン、Ca5O
< +窒イヒ硼素、テフロン粉末、フッ化黒鉛、二硫化
モリフ。
< +窒イヒ硼素、テフロン粉末、フッ化黒鉛、二硫化
モリフ。
デンがわる。この様々充填材の使用量は1)に関しては
バインダー100重量部に対して20〜200部、又2
)に関しては10〜300部が適当であり、充填材量が
あまり多くなると、塗j漢力;もろくカシ、かえってド
ロップアウトが多くなるという欠点が生じる。
バインダー100重量部に対して20〜200部、又2
)に関しては10〜300部が適当であり、充填材量が
あまり多くなると、塗j漢力;もろくカシ、かえってド
ロップアウトが多くなるという欠点が生じる。
さらに、との様なバック層を設けるべきvIl気テーテ
ーしては、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピュ
ーター用テープ、エンドレステーフ′磁気ディスク等が
あるが、中でも、ドロツブアラ) l)c最も重要な°
特性の1つであるビデオテープ・コンピューター用テー
プを用いることはかなシ有効である。
ーしては、オーディオテープ、ビデオテープ、コンピュ
ーター用テープ、エンドレステーフ′磁気ディスク等が
あるが、中でも、ドロツブアラ) l)c最も重要な°
特性の1つであるビデオテープ・コンピューター用テー
プを用いることはかなシ有効である。
以下本発明の実施例を詳しく説明する。
磁性層1
湿式還元法によυ種々の合金粉末を製造した。にれらは
軸比(短軸/長軸)が115〜1/10の針状粒子よジ
成シ、残留磁束密度2000〜3000ガウス、保磁力
10DD 〜20000e :BET表面積比45〜7
0 m2/lを有するものであった。
軸比(短軸/長軸)が115〜1/10の針状粒子よジ
成シ、残留磁束密度2000〜3000ガウス、保磁力
10DD 〜20000e :BET表面積比45〜7
0 m2/lを有するものであった。
これらの磁性粉を次の配合比で通常の方法で混合した。
重量部
F’e−Co−Ni合金粉末 100
塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール A5共重
合体(米国UCC社製VAGH) ポリウレタンプレポリマー 10 (バイエル社製デスモコール22) メチルエチルケトン/トルエフ″(1/1) 250ミ
リスチン酸 2 ソルビタンステアレート 2 この混合物にポリイソシアネート(/クイエル社製デス
モジュールし)!IO重量部加えて磁性塗料とし、ポリ
エステルフィルムに3.5μの厚さで形成し、カレンダ
ー加工した。
合体(米国UCC社製VAGH) ポリウレタンプレポリマー 10 (バイエル社製デスモコール22) メチルエチルケトン/トルエフ″(1/1) 250ミ
リスチン酸 2 ソルビタンステアレート 2 この混合物にポリイソシアネート(/クイエル社製デス
モジュールし)!IO重量部加えて磁性塗料とし、ポリ
エステルフィルムに3.5μの厚さで形成し、カレンダ
ー加工した。
磁性層2
磁性層1と同様な磁性合金粉末及びベースを用い、次の
混合物 @基部 Fe−Co−Ni合金粉末 100 ポリビニルブチラール樹脂 b) 10アクリル二重結
合導入ウレタン e)10メチルエチルケトン/トルエ
ン(ζ0150)、 250をポリエステルフィルムに
3−μのIVさに塗布17、電子線硬化とカレンダー加
工を行った。
混合物 @基部 Fe−Co−Ni合金粉末 100 ポリビニルブチラール樹脂 b) 10アクリル二重結
合導入ウレタン e)10メチルエチルケトン/トルエ
ン(ζ0150)、 250をポリエステルフィルムに
3−μのIVさに塗布17、電子線硬化とカレンダー加
工を行った。
磁性層3
磁性層2の製造法と同じ方法を用い、次の糸ft成を用
いて記録媒体を製造した。
いて記録媒体を製造した。
沖杯部
Fe−Co−Ni合金粉末 100
飽和ポリエステル樹脂 5
ウレタンエラストマー f)10
混合溶剤 250
実施例1
カーボンブラック(81mμ) so部アクリル変性ポ
リウレタンエラストマー e ) 2 、、D部混合溶
剤(MI BK/ )ルエy=171 ) 30 o部
上記混合物をボールミル中5時間混合させ、磁性面が形
成されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚1.
5μになるように塗布し、エレクトロカーテンタイプ電
子線加速装置を用いて加速電圧150 KeV、電極電
流10mA、吸収線量1゜Mrad 1N wガス中で
電子線をバック層に照射し、硬化を行った後カレンダー
加工して巻き取シ、1/21ビデオ巾に切断した。
リウレタンエラストマー e ) 2 、、D部混合溶
剤(MI BK/ )ルエy=171 ) 30 o部
上記混合物をボールミル中5時間混合させ、磁性面が形
成されているポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚1.
5μになるように塗布し、エレクトロカーテンタイプ電
子線加速装置を用いて加速電圧150 KeV、電極電
流10mA、吸収線量1゜Mrad 1N wガス中で
電子線をバック層に照射し、硬化を行った後カレンダー
加工して巻き取シ、1/21ビデオ巾に切断した。
実施例2
AI、0.(粒径2oomμ) so部アクリル変性塩
ビー酢ビービニルアルコール共重合体a) 30部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー e) 20部
混合溶剤 300部 上記混合物を実施例1と同様に調製した。
ビー酢ビービニルアルコール共重合体a) 30部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー e) 20部
混合溶剤 300部 上記混合物を実施例1と同様に調製した。
実施例3
カーボンブラック(81mμ) 25部CaCO3(4
0mμ) 25部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー e) 30部
混合溶剤 300部 上記混合物を実施例1と同様に調製した。
0mμ) 25部 アクリル変性ポリウレタンエラストマー e) 30部
混合溶剤 300部 上記混合物を実施例1と同様に調製した。
上記の磁性層1.2.3と実施例1.2.3及σ比較例
1のバック層とを適当に組合わせてその形成順序を変え
て記録媒体を作った。ただし各層の形成ごとにカレンダ
ー加工を実施した。測定結果を次表に示す。表中■、■
は形成順序を示す。
1のバック層とを適当に組合わせてその形成順序を変え
て記録媒体を作った。ただし各層の形成ごとにカレンダ
ー加工を実施した。測定結果を次表に示す。表中■、■
は形成順序を示す。
結果の検討
上記の実施例1のビデオテープ(ただし巻きしまりの少
ない部分)の表面粗度について検討した。
ない部分)の表面粗度について検討した。
第1図はビデオテープを3.8 tn / m@cで駆
動し、中心周波数4.5 MHzで記録・再生した場合
のS/N比(相対値)を示す。ただし曲線の添字は磁性
層の表面粗度である。これから分るように、磁性層の表
面粗度がQ、08μm以下で、バック層の表面粗度が0
.6μm以下のときにS/N比を高く保つことができる
。実施例2、乙についても全く同様であった。次に、走
行摩擦しこついて検討したところ、バック層の表面粗度
0,05μm以下ではが擦が大きいことが分った。
動し、中心周波数4.5 MHzで記録・再生した場合
のS/N比(相対値)を示す。ただし曲線の添字は磁性
層の表面粗度である。これから分るように、磁性層の表
面粗度がQ、08μm以下で、バック層の表面粗度が0
.6μm以下のときにS/N比を高く保つことができる
。実施例2、乙についても全く同様であった。次に、走
行摩擦しこついて検討したところ、バック層の表面粗度
0,05μm以下ではが擦が大きいことが分った。
実施例1について・磁性層の表面粗度がα08μ以下で
且つバンク層の表面粗度が0−05〜06μmの範囲に
あるものについて、合金粉末のBET比表面積とS/N
との関係を調べたところ第2図に示す結果を得た。ただ
し55dBを基準とした。
且つバンク層の表面粗度が0−05〜06μmの範囲に
あるものについて、合金粉末のBET比表面積とS/N
との関係を調べたところ第2図に示す結果を得た。ただ
し55dBを基準とした。
これからBET値48m”7g以上のときにすぐれた特
性が得られることが分る。他の実施例も同様であった。
性が得られることが分る。他の実施例も同様であった。
また、上記表面粗度の範囲にあるとシンチング現象、粘
着及び鯖耗性が改善されることが分った。
着及び鯖耗性が改善されることが分った。
さらに、巻きしまりを測定したところ、40℃、80%
REではすべて良好であったが、高温多湿下(50℃、
80%RH)ではシンチングは比較例も含めてすべて良
好であったが、バンク面の削れが熱硬化型の場合、放射
線硬化型よりも大きいことが分った。これは後者の方が
強じんな塗膜となるためである。ドロップアウトは放射
線硬化型の場合は熱硬化型よりも裏型転写がないために
良くなることが分った。またそのため出力も大きくなる
ことが分る。磁性面及びバンク面が放射線硬化の場合に
はさらに利点がある。表中のA、Hのグループを比較す
ると、Bの場合は初めに形成されるバック層のために薄
いペースが補強されてベースのヤング率が大きくなり、
Aの場合よりも巻きしまりによる悪影響が防がれること
が分る。さらに、DのグループではM既定行中に硬化が
行われるために巻きしまりによる影響が全くない。さら
に、脂肪酸(場合により脂肪酸エステル−)を入れる小
により、たとえば実施例D−1に添加各々6重Ia部入
れると画像上で問題となるジッターの発生が押えられた
。また摩擦係数が添加前の0.22から015となり、
走行性がスムーズになった事に起因するのであろう。
REではすべて良好であったが、高温多湿下(50℃、
80%RH)ではシンチングは比較例も含めてすべて良
好であったが、バンク面の削れが熱硬化型の場合、放射
線硬化型よりも大きいことが分った。これは後者の方が
強じんな塗膜となるためである。ドロップアウトは放射
線硬化型の場合は熱硬化型よりも裏型転写がないために
良くなることが分った。またそのため出力も大きくなる
ことが分る。磁性面及びバンク面が放射線硬化の場合に
はさらに利点がある。表中のA、Hのグループを比較す
ると、Bの場合は初めに形成されるバック層のために薄
いペースが補強されてベースのヤング率が大きくなり、
Aの場合よりも巻きしまりによる悪影響が防がれること
が分る。さらに、DのグループではM既定行中に硬化が
行われるために巻きしまりによる影響が全くない。さら
に、脂肪酸(場合により脂肪酸エステル−)を入れる小
により、たとえば実施例D−1に添加各々6重Ia部入
れると画像上で問題となるジッターの発生が押えられた
。また摩擦係数が添加前の0.22から015となり、
走行性がスムーズになった事に起因するのであろう。
次しこ、第3〜4図に示すようしこ、表のA、B。
D−1についてバック面の表面粗度が0.671mとな
ると、製造時ロール状巻装体の最内側になる部分から得
たテープはY−3/Nが表面粗度の良好なものに比べる
と1. Od 、8以上の出力低下となりテープ走行方
向に出力変動が仇じることが分る。
ると、製造時ロール状巻装体の最内側になる部分から得
たテープはY−3/Nが表面粗度の良好なものに比べる
と1. Od 、8以上の出力低下となりテープ走行方
向に出力変動が仇じることが分る。
また0、 05 /Z m以下の2表面粗度で番ま出力
変動が1、5 d Bとなり好ヂしくない。このように
表面粗度による影響は巻きしまりと関連して大きいもの
となる。A、B、、D−1を比較すると、B、Dの方が
AよりもY−8/Nの低下が少なく、またDは裏型転写
がないのでバック面の表面粗度の影響もないのでBより
もさらにすぐれている。このように、表面粗度を特定の
値にすることにより、巻きしまりの影響も少なくなる。
変動が1、5 d Bとなり好ヂしくない。このように
表面粗度による影響は巻きしまりと関連して大きいもの
となる。A、B、、D−1を比較すると、B、Dの方が
AよりもY−8/Nの低下が少なく、またDは裏型転写
がないのでバック面の表面粗度の影響もないのでBより
もさらにすぐれている。このように、表面粗度を特定の
値にすることにより、巻きしまりの影響も少なくなる。
なお上記の測定は次のようにして行った。
1 摩擦係数
直径4篩の表面を研磨したアルミ円柱に磁気テープのバ
ック面を内側【こして180°の抱き角で巻きつけ、2
clII/秒で走行し送り出し側と巻き取り側のテンシ
ョンを測定し計算よりめた。
ック面を内側【こして180°の抱き角で巻きつけ、2
clII/秒で走行し送り出し側と巻き取り側のテンシ
ョンを測定し計算よりめた。
2 シンチング現象
一般市販のVH8方式VTRを用いて、テープ全長を早
送りした後早戻しを行ない、残り50 mの所で停止し
、更に早戻しを最後まで行なう。然る後、テープの巻き
状態を目視により観察した。
送りした後早戻しを行ない、残り50 mの所で停止し
、更に早戻しを最後まで行なう。然る後、テープの巻き
状態を目視により観察した。
テープ層間にすき間がなく巻き状態が良好な場合を良好
としそしてテープ層間にすき間がつ6生した場合を不良
とした。
としそしてテープ層間にすき間がつ6生した場合を不良
とした。
3・ バック層の磨耗
一般市販(7)VH8方弐VTHE用い、40 ”C(
7)温度及び80%相対湿度の環境化で100回非行き
せた後方セットケース内の汚れを銭振した。汚れのある
場合を不良としてそして汚れない場合を良好とした。
7)温度及び80%相対湿度の環境化で100回非行き
せた後方セットケース内の汚れを銭振した。汚れのある
場合を不良としてそして汚れない場合を良好とした。
4. 磁性層とバンク層の粘着
VHSリールに巻取り、60°Cの環境下6二5日間放
置した時の粘着状況を目視により評価した。
置した時の粘着状況を目視により評価した。
粘着のない場合を良好としそして粘着の生じた場合を不
良とした。
良とした。
5、 表面粗度
タリステップ(TAYLOR−HOBSON社@)を用
いて得たチャートから20点平均法でめた。
いて得たチャートから20点平均法でめた。
カットオフ0.17m5、針圧27り、針0. I X
2.511mを用いた。
2.511mを用いた。
6巻き締り
250m巻きのテープを50℃、80%、7日間保存後
とり出し、磁性面の表面粗度及びY−S/Nを測定した
。
とり出し、磁性面の表面粗度及びY−S/Nを測定した
。
第1図は磁気記録媒体の磁性層及びバツク層の表面粗度
とS/Nの関係を示すグラフ、第2図は合金磁牲粉末の
BET比褒面積とS/Nの関係な示すグラフ、第6図は
ロール内側部分のテープの特性を示すグラフ、及び第4
図はロール内側部分のテープの出力変動を示すグラフで
ある。 同 倉 橋 暎 1、− 手続袖正書 昭和58年9月16日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 事件の表示 昭和58年 特願第149655 号発明
ノ名称 磁気記録媒体 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 (306)ティーディーケイ株式会社代理人 〒]、03 住 所 東京都中央区日本橋3丁目13番11号油脂工
業会館補正の対象 補正の内容 別紙の通り :)1’):1中、’、 41(21’kH、’ハj
ifQ )i:T(F) 4’、l、i 正’J’ ル
。
とS/Nの関係を示すグラフ、第2図は合金磁牲粉末の
BET比褒面積とS/Nの関係な示すグラフ、第6図は
ロール内側部分のテープの特性を示すグラフ、及び第4
図はロール内側部分のテープの出力変動を示すグラフで
ある。 同 倉 橋 暎 1、− 手続袖正書 昭和58年9月16日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 事件の表示 昭和58年 特願第149655 号発明
ノ名称 磁気記録媒体 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 (306)ティーディーケイ株式会社代理人 〒]、03 住 所 東京都中央区日本橋3丁目13番11号油脂工
業会館補正の対象 補正の内容 別紙の通り :)1’):1中、’、 41(21’kH、’ハj
ifQ )i:T(F) 4’、l、i 正’J’ ル
。
Claims (1)
- (1) 強磁性合金粉末を樹脂バインダー中に分散した
磁性層をプラスチツクフィルムベースに被着して成る磁
気記録媒体において、前記合金粉末はBET法で4 f
3 m27g以上の表面積を有し、磁性P、17の保磁
力が10000e以上であり、磁性R・マの表面粗度が
0.08 lt以下であり、さらに前記ベースの裏面に
は放射線感応性促脂より成る放射線硬化バック層が形成
され、前記ノミツク層は表面粗度が0.05〜0.6μ
mに定められていることを特徴とする、磁気記録媒体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58149655A JPS6043224A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | 磁気記録媒体 |
| US06/632,115 US4547419A (en) | 1983-08-18 | 1984-07-18 | Magnetic recording medium |
| DE3430364A DE3430364C3 (de) | 1983-08-18 | 1984-08-17 | Magnetisches Aufzeichnungsmedium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58149655A JPS6043224A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6043224A true JPS6043224A (ja) | 1985-03-07 |
Family
ID=15479959
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58149655A Pending JPS6043224A (ja) | 1983-08-18 | 1983-08-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4547419A (ja) |
| JP (1) | JPS6043224A (ja) |
| DE (1) | DE3430364C3 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62219318A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Sony Corp | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6028024A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-13 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS6028023A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-13 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS6045936A (ja) * | 1983-08-22 | 1985-03-12 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS6059528A (ja) * | 1983-09-12 | 1985-04-05 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS6066317A (ja) * | 1983-09-20 | 1985-04-16 | Tdk Corp | 磁気記録媒体 |
| JPS60109020A (ja) * | 1983-11-17 | 1985-06-14 | Tdk Corp | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| US4699819A (en) * | 1984-07-31 | 1987-10-13 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
| JPH0715746B2 (ja) * | 1985-01-17 | 1995-02-22 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPH0719364B2 (ja) * | 1985-02-28 | 1995-03-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JP2500934B2 (ja) * | 1985-03-27 | 1996-05-29 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPH0744099B2 (ja) * | 1985-04-19 | 1995-05-15 | 鐘淵化学工業株式会社 | 軟質磁性材料組成物 |
| JPH0736210B2 (ja) * | 1985-05-15 | 1995-04-19 | 富士写真フイルム株式会社 | クリ−ニングテ−プ |
| JPH0766526B2 (ja) * | 1985-06-17 | 1995-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPS62192041A (ja) * | 1986-02-19 | 1987-08-22 | Hitachi Ltd | 光記録円板 |
| JPH01211226A (ja) * | 1988-02-17 | 1989-08-24 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気ディスク |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2556188C3 (de) * | 1975-12-13 | 1979-07-05 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Flexible Mehrschichtmagnetogrammträger |
| JPS57150129A (en) * | 1981-03-12 | 1982-09-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS57169929A (en) * | 1981-04-13 | 1982-10-19 | Tdk Corp | Magnetic recording medium and its manufacture |
| JPS57200938A (en) * | 1981-06-05 | 1982-12-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57200937A (en) * | 1981-06-05 | 1982-12-09 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
| JPS58119609A (ja) * | 1982-01-11 | 1983-07-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS58130435A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| DE3302411A1 (de) * | 1983-01-21 | 1984-07-26 | Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen | Vorrichtung zum befuellen von anodenkoerben in galvanisieranlagen mit anodenmaterial |
-
1983
- 1983-08-18 JP JP58149655A patent/JPS6043224A/ja active Pending
-
1984
- 1984-07-18 US US06/632,115 patent/US4547419A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-08-17 DE DE3430364A patent/DE3430364C3/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62219318A (ja) * | 1986-03-20 | 1987-09-26 | Sony Corp | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3430364C3 (de) | 1999-10-21 |
| US4547419A (en) | 1985-10-15 |
| DE3430364A1 (de) | 1985-03-07 |
| DE3430364C2 (de) | 1995-11-16 |
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| JPH0612564B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
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| JPS6057529A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6043222A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS6076522A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0413766B2 (ja) |