JPS6046363A - 防湿性を有する透明薄膜の形成方法 - Google Patents

防湿性を有する透明薄膜の形成方法

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JPS6046363A
JPS6046363A JP15453083A JP15453083A JPS6046363A JP S6046363 A JPS6046363 A JP S6046363A JP 15453083 A JP15453083 A JP 15453083A JP 15453083 A JP15453083 A JP 15453083A JP S6046363 A JPS6046363 A JP S6046363A
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JP
Japan
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film
thin film
oxygen gas
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magnesium oxide
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JP15453083A
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JPS6330988B2 (ja
Inventor
Shigemasa Kawai
河合 重征
Yoshiyuki Fukumoto
福本 義行
Kazu Yamanaka
山中 計
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Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0021Reactive sputtering or evaporation

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野: 本発明は防湿性を有する透明薄膜の形成方法。
特に、基材の種類にかかわらず透明で高め防湿性の薄膜
を形成する方法に関する。
従来技術: 包装材料、特に食品、薬品、化学製品などの包装に用い
られる包装材料は、内容物の変質を防ぐために防湿機能
をもっていることが必要である。
そのために、従来は9例えばベースプラスチックフィル
ムにアルミニラム箔を貼り合わせてアルミニクム箔の防
湿特注を利用することが行われている。この盛合の包装
材料は、防湿性については沙れているがベースプラスチ
ックフィルムの透明性が損われ内容物を透視することが
できない。しかも、フレキシビリティが面端に低減する
ためビンホールを生じるおそれがちる。包装材料の別の
例としては、それ自体が防湿性を有する塩化ビニリデン
系・フッ水系樹脂フィルムかわる。これらフィルムは防
湿性を厳しく要求される用途にはフィルム厚を厚くしな
ければならず、製造作業上にも種々の問題が生じる。
まだ、プラスチックの表面に金属ア/レミをJ1空蒸着
することKより防湿性を向上させる試みがなされている
。しかし、アy4蒸盾膜は不透明で心るだめに、これを
包装材料に使用したときには内容物を?1視することが
できない。しかも、蒸着さしfc アtvミニウムとペ
ースフィルムとの密着強度も比較的低いため、その界面
において剥離の生じるおそれがある。
このような従来の包装材料の欠点を改良すべく。
例えば特公昭51−48511号公報にはプラスチック
フィルムの表面にケイ素酸化物の蒸着層を設けて透明防
湿フィルムを得ることが提案されている。
このケイ累酸化物蒸着フィルムは、ケイ素酸化物が水に
わずかながら溶解するだめ、その防湿性能は経時的に劣
化する。また、特開昭54−152089号公報には金
属、金属酸化物および酸化ケイ素を蒸着したポリエステ
pフイA・ムが開示されている。
この蒸着フィルムは基材にポリエステルフィルムが用い
られたときのみその防湿性能を発現しうるにすぎない。
電子工業分野においても、近年ますます、EL素子や太
陽電池などに透明でしかも高度の耐湿性能を有する膜が
保護膜として要求されつつある。
発明の目的: 本発明の目的は、基材の種類にかかわらず透明でかつ高
防湿性を有する薄膜を形成する方法を提供することにち
る。本発明の他の目的は、基材との密着性にすぐれた薄
膜の形成方法を提供することにある。
発明の要旨: 本発明の薄膜形成方法は、真空槽内に酸素ガスを導入し
つつ金属マグネシウムを加熱し蒸発させて基材上に透明
なマグネシウム酸化物薄膜を形成するものであシ、その
ことにより上記目的が達成される。
用いられる基材としては特に限定されないが透明で柔軟
性に富むポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン、ポリエステ/1/、ポリ塩化ビニリチン、ナイロン
、ポリビニルアルコ−ル素樹脂などでなるフィルムが用
いられる。なお基材は板状であってもよいし,レンズ状
のプラスチック成形体であってもよい。フィルムの厚み
には特に制限はなAが作業性を考慮すると.5μm 〜
300μmが好ましい。この透明フィルムに酸素ガスを
供給し反応蒸着法によりマグネシウム酸化物薄膜を形成
する。具体的には,真空槽内に上記フィルムを配設し真
空槽を真空ポンプで排気しながら酸素ガスを導入し金属
マグネシウムを抵抗加熱。
電子ビーム加熱等の既知の加熱方法によシ加熱する。こ
の加熱によりマグネシウム蒸気を発生させる。このマグ
ネシウム蒸気が導入酸素ガスと反応し基材上にマグネシ
ウム酸化物薄膜が形成される。
導入する暇素ガヌ量は,通常,真空冶の容器.真空ポン
プの排気能力,マグネシウムの蒸発速度などにより適宜
決定されるが,蒸着中の酸素分圧がI X 10−’〜
I X 10−8)−ルとなるよう調整されることが好
ましい。酸素分圧がI X 10 ) − pよシも偲
いと形成されたマグネシウム酸化物薄膜中の酸素量が少
なくなシ着色するために透明性が損なわれる。酸素分圧
IXIOIーールよりも高いと形成されたマグネシウム
酸化物薄膜の膜質がボーフヌとなり防湿性が低下する。
マグネシウム酸化物薄膜は,反応蒸着法のほかに反応性
イオンブレーティング法によっても形成されうる。この
方法により得られる薄膜も前記反応蒸着法による薄膜と
その性能において4’li g4はない。
マグネシウム酸化物薄膜の膜厚としては0.01p1n
〜0.5μmが好ましい。膜厚が0.01μm以下の場
合一様な連続膜になりにくい。そのために防湿性が著し
く低下する。0.5μm以上では形成されたマグネシウ
ム酸化物薄膜にクラックが発生しやすくなり防湿性の低
下をきたす。
実施例: 以下に本発明を実施例に°りいて説明する。
実施例1 厚さl 5 71 F71のポリエチレンテレフタレー
)OPE丁)フィルムをぺ−7・フィルムとし,これ金
具駅檜内に配置する。相内を1xlO−5ト−/しに排
気したのち,巧πj中の酸素ガス分圧が3X10−41
−−#の圧力になるよう酸素ガスを導入した。純ノより
99%の金属マグネシウムを抵抗加2,うによって加熱
し,蒸発源とPETフィルムとの距離が25(耳のとき
にマグネシウム酸化物の成膜速度が約”°°”/ m 
Kになるように蒸着を行なった。そして膜厚が1000
Aと2000Aの2種類の蒸着薄膜を得た。このように
して選られた透明蒸着フィルム透湿度を透明度と共に表
に示す。透湿度は、JISZ0208に基づく40°・
90%RHにおける水蒸気透過率を示す。透明度は目視
観察により測定され、透明度の優れたものを1、良好な
ものを+、不透明なものを−で表示されている。
実施例2 酸素ガス分圧を5X10−4トールに調整したこと以外
は実施例1と同じである。結果を表に示す。
実施例3 ベースフイルレムとして二軸延伸ポリプロピレンフイル
ムを用いたこと以外は実施例2と同じである。結果を表
に示す。
比較例1 真空度5X10 )−tv下で、1γさ15μ7nのP
ETフイルム上にSiOを約looo、Aおよび200
OA +7)二種の膜厚に蒸着した。その透湿度を透明
度と共に表に示す。
比較例2 真空度5 X 1O−5)−ル下で、厚さ15μm0P
ETフイルム上に5i02を約1000人およU 20
00久の0種の膜厚に蒸着をした。その透湿度を透明度
と共に表に示す。
比較例3 蒸着中の酸素分圧が5 X lo−5)−ルの条件で行
なったこと以外はすべて実施例1と同じである。
その結果を表に示す。
発明の効果: 本発明方法で得られる薄膜は、基材フィルムの種類に無
関係に透明でかつ防湿性に:?れている。
その防湿性は、しかも、従来のケイ素19)化物の蒸着
フィルムに比較し序端に向上している。本発明によるマ
グネシウム酸化嘆の基材フィルムへの密着性も良好であ
り、JISD−0202によるill臣試験に合格して
いる。
本発明の透明薄膜をつけた透明グフヌチツクフイルムは
、このように、従来にない優れた防N汁能を有するため
1食品・医桑品・化学某品などの包装材および電子工業
分野におけるEL素子や太陽電池の保護喚として最適で
ある。
以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、真空槽内に酸素ガスを供給しつつ合成マグネシウム
    を加熱し蒸発させて基材上に透明なマグネシヮム酸化物
    薄膜を形成する防湿性を有する透明薄膜の形成方法。 2、前記酸素ガスの供給量を制御することによシ企属マ
    グネシウム蒸り中の酸素分圧をI X lO”〜110
     )−ルとする特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3、前記基材が透明なフVキシグルンートまたはフィル
    ムである特許請求の範囲第1項に記載の方法。
JP15453083A 1983-08-23 1983-08-23 防湿性を有する透明薄膜の形成方法 Granted JPS6046363A (ja)

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JP15453083A JPS6046363A (ja) 1983-08-23 1983-08-23 防湿性を有する透明薄膜の形成方法

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JP15453083A JPS6046363A (ja) 1983-08-23 1983-08-23 防湿性を有する透明薄膜の形成方法

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JPS6046363A true JPS6046363A (ja) 1985-03-13
JPS6330988B2 JPS6330988B2 (ja) 1988-06-21

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JP15453083A Granted JPS6046363A (ja) 1983-08-23 1983-08-23 防湿性を有する透明薄膜の形成方法

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