JPS6046394A - 連続電気メッキ方法 - Google Patents
連続電気メッキ方法Info
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- JPS6046394A JPS6046394A JP15390183A JP15390183A JPS6046394A JP S6046394 A JPS6046394 A JP S6046394A JP 15390183 A JP15390183 A JP 15390183A JP 15390183 A JP15390183 A JP 15390183A JP S6046394 A JPS6046394 A JP S6046394A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は金属ストリップの連続電気メッキにおいて所定
のメッキ層品質を確保しながらメッキ付着量を所定の範
囲とする操業方法に関する。
のメッキ層品質を確保しながらメッキ付着量を所定の範
囲とする操業方法に関する。
従来技術
従来の連続電気メツキラインの操業においては、メッキ
電流は被メッキ材であるストリップの幅および速度とメ
ッキ付着量との積に比例するという関係に従って設定さ
れ、この設定電流値で操業中にメッキ付着量の実測結果
にもとづいて設定電流値を修正するという方法で行われ
ていた。しかして上記従来の操業においては、メッキ電
流は、ストリップの通板方向に沿って設置されている複
数個の各電極に供給される電流の合耐値のみに着目して
設定および修正がなされるものであって、電極の電流密
度を考慮したものではなかった。しかしながら本発明者
等の研究によれば、連続電気メッキにおいて電極の電流
密度はメッキ層の品質（メッキ外観、メッキ密着性など
）に影響し、所定のメッキ層品質を得るだめの適正な電
流密度範囲が存在し、メッキ電流の設定にあたって電流
密度を考慮することが不可欠であることが明らかになっ
た。
電流は被メッキ材であるストリップの幅および速度とメ
ッキ付着量との積に比例するという関係に従って設定さ
れ、この設定電流値で操業中にメッキ付着量の実測結果
にもとづいて設定電流値を修正するという方法で行われ
ていた。しかして上記従来の操業においては、メッキ電
流は、ストリップの通板方向に沿って設置されている複
数個の各電極に供給される電流の合耐値のみに着目して
設定および修正がなされるものであって、電極の電流密
度を考慮したものではなかった。しかしながら本発明者
等の研究によれば、連続電気メッキにおいて電極の電流
密度はメッキ層の品質（メッキ外観、メッキ密着性など
）に影響し、所定のメッキ層品質を得るだめの適正な電
流密度範囲が存在し、メッキ電流の設定にあたって電流
密度を考慮することが不可欠であることが明らかになっ
た。
発明の目的
本発明は上記の知見にもとづき、所定の品質を確保しつ
つ所定のメッキ伺着量となるように適正な電流密度を維
持しつつ操業する方法を提供することを目的とする。
つ所定のメッキ伺着量となるように適正な電流密度を維
持しつつ操業する方法を提供することを目的とする。
発明の構成作用
この目的を達成するだめの本発明方法は、金属ストリッ
プの連続電気メッキにおいて、メッキ層品質と関連させ
て電流密度の適正範囲を予め定めておき、所定のメッキ
付着量を得るに必要なメッキ電流値を算出し、該算出し
たメッキ電流値から当該操業時の′１ｔ＠基博使用数で
の電流密度を算出し、該算出した′ｉＬ流密流密前記適
正範囲内のときは前記基準使用数の電極を使用してメッ
キし、前記算出した電流密度が前記適正範囲を超えると
きは電極の使用数を基準使用数に対して増減してメッキ
するか址たけストリップ速度の設定値を増減しかつ該増
減したストリップ速度設定値に対応したメッキ電流値を
再算出してメッキ電流設定値を修正してメッキすること
を特徴とするものである。
プの連続電気メッキにおいて、メッキ層品質と関連させ
て電流密度の適正範囲を予め定めておき、所定のメッキ
付着量を得るに必要なメッキ電流値を算出し、該算出し
たメッキ電流値から当該操業時の′１ｔ＠基博使用数で
の電流密度を算出し、該算出した′ｉＬ流密流密前記適
正範囲内のときは前記基準使用数の電極を使用してメッ
キし、前記算出した電流密度が前記適正範囲を超えると
きは電極の使用数を基準使用数に対して増減してメッキ
するか址たけストリップ速度の設定値を増減しかつ該増
減したストリップ速度設定値に対応したメッキ電流値を
再算出してメッキ電流設定値を修正してメッキすること
を特徴とするものである。
以下本発明の詳細な説明する。
電気メッキにおけるメッキ電流がスト−）ツブの幅およ
び速度とメッキ付着量の積に比例することは前に述べた
が、これを式で表わすと次式のようになる。
び速度とメッキ付着量の積に比例することは前に述べた
が、これを式で表わすと次式のようになる。
ここで ■Ａ＝所要メッキ電流（Ａ〕
■ｃ：計算メッキ電流〔Ａ〕
η：電流効率
Ｗニストリップの幅（ｍ〕
■＝ニストリップ速度（２インスピード）（ｍ／５ｅｅ
）Ｃ：メッキ付着量（ｇ／ｍ２） ｋ（＝−）：電気化学当量Ｃｇ／クーロン〕ただし Ｆ
は７アラデ一定数 にはメッキ層の基準組成によシ定まる定数従来のメッキ
操業においては、メッキ付着量目標値とストリップ速度
設定値を前記（１）式に代入して所要メッキ電流値を算
出し、該算出したメッキ電流値を設定していたのである
が、この際電極の電流密度に関しては考慮は払われてい
なかった。
）Ｃ：メッキ付着量（ｇ／ｍ２） ｋ（＝−）：電気化学当量Ｃｇ／クーロン〕ただし Ｆ
は７アラデ一定数 にはメッキ層の基準組成によシ定まる定数従来のメッキ
操業においては、メッキ付着量目標値とストリップ速度
設定値を前記（１）式に代入して所要メッキ電流値を算
出し、該算出したメッキ電流値を設定していたのである
が、この際電極の電流密度に関しては考慮は払われてい
なかった。
本発明者等はメッキ層品質と電流密度との関係について
１すＦ究した結果、種々の組成のメッキ浴のもとての電
流密度とメッキ層品質との関係を明らかにすることがで
き、目標のメッキ層品質を得るだめの電流密度の適正範
囲を得た。その１例を第１図に示す。第１図は、亜鉛−
鉄合金メッキの場合で、メッキ浴組成がＺｎ ８０４
・７Ｈ２０： １２０ ｇ／ Ｌ 。
１すＦ究した結果、種々の組成のメッキ浴のもとての電
流密度とメッキ層品質との関係を明らかにすることがで
き、目標のメッキ層品質を得るだめの電流密度の適正範
囲を得た。その１例を第１図に示す。第１図は、亜鉛−
鉄合金メッキの場合で、メッキ浴組成がＺｎ ８０４
・７Ｈ２０： １２０ ｇ／ Ｌ 。
Ｆｅ ＳＯ４・７Ｈ２０： １００ ｇ／ｌ （Ｄとき
の電流密度の適正範囲（図中太線枠内）をストリップ速
度との関連で示したものである。本発明者等の研究によ
れば、メッキ外観が良好となる電流密度の上限と下限が
存在し、またメッキ密雲性が良好となる電流密度の下限
とストリップ速度の下限とが存在し、メッキ外観とメッ
キ督着性の両者を満足する範囲が第１図の太線枠内で示
すように得られる。
の電流密度の適正範囲（図中太線枠内）をストリップ速
度との関連で示したものである。本発明者等の研究によ
れば、メッキ外観が良好となる電流密度の上限と下限が
存在し、またメッキ密雲性が良好となる電流密度の下限
とストリップ速度の下限とが存在し、メッキ外観とメッ
キ督着性の両者を満足する範囲が第１図の太線枠内で示
すように得られる。
かかる研究結果にもとづいて本発明方法においては、ま
づ前記したようなメッキ層品質と電流密度との関係から
電流密度の適正範囲を予め定めておき、前記（１）式に
よって算出した所要メッキ電流値から当該操業東件にお
ける電極基準使用数での電流密度を次式 ここで ＤＫ＝電流密度［： Ａ／ ｄ ｍ２：］■Ａ
二所要メッキ電流〔Ａ〕 Ｗニストリップの幅〔ｍ〕 Ｎｓ：電極基準使用数 Ｌ：１つの電極のストリップ通板方向の長さ〔ｍ〕によ
シ算出する。そして上記（２）式で算出した電極基準使
用数での電流密度が前記の適正範囲内であるときは基準
使用数通シの数の電極を使用して操業し、前記算出した
電流密度が適正範囲の上限または下限を超えるときは電
極の使用数の増ｌｊＣまたはストリップ速度の増減とメ
ッキｔに流値の修正を行う。
づ前記したようなメッキ層品質と電流密度との関係から
電流密度の適正範囲を予め定めておき、前記（１）式に
よって算出した所要メッキ電流値から当該操業東件にお
ける電極基準使用数での電流密度を次式 ここで ＤＫ＝電流密度［： Ａ／ ｄ ｍ２：］■Ａ
二所要メッキ電流〔Ａ〕 Ｗニストリップの幅〔ｍ〕 Ｎｓ：電極基準使用数 Ｌ：１つの電極のストリップ通板方向の長さ〔ｍ〕によ
シ算出する。そして上記（２）式で算出した電極基準使
用数での電流密度が前記の適正範囲内であるときは基準
使用数通シの数の電極を使用して操業し、前記算出した
電流密度が適正範囲の上限または下限を超えるときは電
極の使用数の増ｌｊＣまたはストリップ速度の増減とメ
ッキｔに流値の修正を行う。
ここで電極使用数とストリップ速度と電流密度の関係に
ついてさらに詳しく説明する。前出の（１）式を（２）
式に代入して整理すると となる。η、に、Ｌ、Ｃを一定とすると、電極使用数Ｎ
ｓｉパラメータとして電流密度ＤＫとストリップ速度Ｖ
は比例関係となる。第１図に例示した電流密度の適正範
囲のなかで前記（３）式の関係を含めた表わしたものが
第２図である。
ついてさらに詳しく説明する。前出の（１）式を（２）
式に代入して整理すると となる。η、に、Ｌ、Ｃを一定とすると、電極使用数Ｎ
ｓｉパラメータとして電流密度ＤＫとストリップ速度Ｖ
は比例関係となる。第１図に例示した電流密度の適正範
囲のなかで前記（３）式の関係を含めた表わしたものが
第２図である。
いま前記（２）式で算出した電流密度が第２図の適正範
囲内である場合（たとえはＡ点）はそのままの条件（使
用電極数：１１１ストリップ速度：１４０ ｍ／ｍｉｎ
）で操業し、適正範囲を超えた３点でりる場合は使用
電極式を１１から１２に増加して電流密度が適正範囲内
のＢ′点になるようにする。
囲内である場合（たとえはＡ点）はそのままの条件（使
用電極数：１１１ストリップ速度：１４０ ｍ／ｍｉｎ
）で操業し、適正範囲を超えた３点でりる場合は使用
電極式を１１から１２に増加して電流密度が適正範囲内
のＢ′点になるようにする。
まだ算出した′電流密度が０点である場合は使用電極数
を１２から１１に減少して電流密度が適正範囲内の０７
点になるようにする。一方電極使用数がすでに最大（ま
たは最小）のときは電流密度調整のために゛成極使用数
を増加（または減少）することはできないので、この場
合は電極使用数はそのる。たとえば算出した電流密度が
Ｄ点である場合はストリップ速度を下降させて電流密度
が適正範囲内のＤ′点になるようにし、かつこの場合は
変更後のストリップ速度に応じた所要メッキ電流値を再
算出してメッキ電流設定値も修正する。
を１２から１１に減少して電流密度が適正範囲内の０７
点になるようにする。一方電極使用数がすでに最大（ま
たは最小）のときは電流密度調整のために゛成極使用数
を増加（または減少）することはできないので、この場
合は電極使用数はそのる。たとえば算出した電流密度が
Ｄ点である場合はストリップ速度を下降させて電流密度
が適正範囲内のＤ′点になるようにし、かつこの場合は
変更後のストリップ速度に応じた所要メッキ電流値を再
算出してメッキ電流設定値も修正する。
つぎに実施例について説明する。第３図は本発明を実施
するための装置構成の例を示す図である。
するための装置構成の例を示す図である。
図においてｌはメッキ槽（本実施例では電気亜鉛メッキ
）であり、２−１１ 、、２−１２ 、・・・・・・＋
２ｎｌ＋２−ｎ２は被メッキ材であるストリップＳを挾
むかたちで配置された電極である。３は各電極（図示し
ていない整流器を含む）に対してメッキ電流を分配する
電流分配回路である。４は設定器（もしくは上位計算機
）５から設定されるメッキ付着量目標値、ストリップ幅
、ストリップ速度設定値、使用電極数、ストリップ速度
下限値と′電流密度上限値および下限値、電流効率など
の設定値および速度検出器６から入力されるストリップ
速度実測値を用いて（ｒ）式および（２）式からメッキ
電流の初期設定値、電流密度を算出し、第１図に示した
電流密度適正範囲を許容限界として該許容限界に入るよ
うに使用Ｌｔ電極数修正値またはストリップ速夏の修正
値とメッキ電流の修正値を計算する演算回路である。７
は演算回路４で算出されたス） ＩＪツブ速度修正値に
もとづいてストリップ速度を制御する速度制御回路であ
る。
）であり、２−１１ 、、２−１２ 、・・・・・・＋
２ｎｌ＋２−ｎ２は被メッキ材であるストリップＳを挾
むかたちで配置された電極である。３は各電極（図示し
ていない整流器を含む）に対してメッキ電流を分配する
電流分配回路である。４は設定器（もしくは上位計算機
）５から設定されるメッキ付着量目標値、ストリップ幅
、ストリップ速度設定値、使用電極数、ストリップ速度
下限値と′電流密度上限値および下限値、電流効率など
の設定値および速度検出器６から入力されるストリップ
速度実測値を用いて（ｒ）式および（２）式からメッキ
電流の初期設定値、電流密度を算出し、第１図に示した
電流密度適正範囲を許容限界として該許容限界に入るよ
うに使用Ｌｔ電極数修正値またはストリップ速夏の修正
値とメッキ電流の修正値を計算する演算回路である。７
は演算回路４で算出されたス） ＩＪツブ速度修正値に
もとづいてストリップ速度を制御する速度制御回路であ
る。
第４図（ａ） 、 （ｂ）は第３図の演算回路４におけ
る演算フローの例を示すフローナヤートであり、第４図
（ａ）はメッキ電流の初期設定値の演算フローを示し、
第４図（ｂ）は該設定値で操業中にストリップ速度の変
動に応じてメッキ電流および／甘たけ電極使用数を修正
するときの演算フローを示す。第３図の設定器５から与
えられるストリップ速度設定値（Ｖｐ ）を（１）式の
Ｖに代入し、更にストリップ幅（Ｗ）とメッキ付着量目
標値（Ｃ）と電気化学尚量（ｋ）と電流効率（η）とを
（１）式に代入して、所要メッキ電流（Ｉｐ）を算出す
る。つぎに第３図の設定器５から与えられるストリップ
幅（ｖｖ）と電極の使用数（Ｎｐ）と電極のストリップ
通根方向長さくＬ）を（２）式に、また、所要メッキ電
流（Ｉｐ）を（２）式のＩＡに代入することによシ、電
流密度（ＤＫＰ ）を算出する。
る演算フローの例を示すフローナヤートであり、第４図
（ａ）はメッキ電流の初期設定値の演算フローを示し、
第４図（ｂ）は該設定値で操業中にストリップ速度の変
動に応じてメッキ電流および／甘たけ電極使用数を修正
するときの演算フローを示す。第３図の設定器５から与
えられるストリップ速度設定値（Ｖｐ ）を（１）式の
Ｖに代入し、更にストリップ幅（Ｗ）とメッキ付着量目
標値（Ｃ）と電気化学尚量（ｋ）と電流効率（η）とを
（１）式に代入して、所要メッキ電流（Ｉｐ）を算出す
る。つぎに第３図の設定器５から与えられるストリップ
幅（ｖｖ）と電極の使用数（Ｎｐ）と電極のストリップ
通根方向長さくＬ）を（２）式に、また、所要メッキ電
流（Ｉｐ）を（２）式のＩＡに代入することによシ、電
流密度（ＤＫＰ ）を算出する。
このＤＫＰが第１図に示す電流密度最適範囲内すなわち
Ｄｘｍ ｉ ｎ≦ＤＫＰ≦Ｄｘｍａｘのときにはメッキ
電流（ＩＰ）を第３図の電流分配回路３に設定する。電
流分配回路３は各電極に総メツキ電流を分配する。（２
）式から算出した電流密度（ＤＫＰ ）がＤＫＰ≦ＤＫ
ｍａｘの範囲を超えるときは（３）式から得られる電
極の使用数算出式 れる電極使用数１’Ｊｐｘを修正設定値として第３図の
電流分配回路３に設定し、Ｎｐｘ個の電極に総メツキ電
流Ｉｐを分配する。またＤＫＰ≧Ｄｘｍｉｎの範囲を超
えるときには（３）式から得られる電極使用数算出式 のＤＫにＤｘｍｉｎを代入し、ＶにＶｐを代入して傅ら
れる電極使用数Ｎｐｘを修正設定値として第３図の電流
分配回路３に設定する。
Ｄｘｍ ｉ ｎ≦ＤＫＰ≦Ｄｘｍａｘのときにはメッキ
電流（ＩＰ）を第３図の電流分配回路３に設定する。電
流分配回路３は各電極に総メツキ電流を分配する。（２
）式から算出した電流密度（ＤＫＰ ）がＤＫＰ≦ＤＫ
ｍａｘの範囲を超えるときは（３）式から得られる電
極の使用数算出式 れる電極使用数１’Ｊｐｘを修正設定値として第３図の
電流分配回路３に設定し、Ｎｐｘ個の電極に総メツキ電
流Ｉｐを分配する。またＤＫＰ≧Ｄｘｍｉｎの範囲を超
えるときには（３）式から得られる電極使用数算出式 のＤＫにＤｘｍｉｎを代入し、ＶにＶｐを代入して傅ら
れる電極使用数Ｎｐｘを修正設定値として第３図の電流
分配回路３に設定する。
一方、電極使用数を修正する方法とは別にストリップ速
度を修正する方法がある。すなわち、電流密度最適範囲
、Ｄｘｍｉｎ≦ＤＫＰ≦Ｄｘｍａｘを超えるときには（
３）式から得られるストリップ速度計算式、１００・η
・ｋ−Ｌ ＶＰＸ ＝□・Ｎ−Ｄｘ ・・・・・・・・・（６）の
ＤＫＫ ＤＫｒｒ＋ａｘ （あるいはＤＫＰ ＜ ＤＫ
ｍｉｍのときＤｘｍｉｎ ）を代入し、’Ｎ Ｋ Ｎｐ
を代入して得られるストリップ速度Ｖｐｘを修正設定値
として第３図の速度制御回路７に設定すると同時に、（
１）式のＶにＶＰＸを代入して倚られるメッキ電流ＩＡ
（ＩＰＸと同じ）を修正設定値として第３図の電流分
配回路３に設定する。この方法は第４図（ａ）のフロー
チャートのＡ部をＢ部に置換すれば実現できる。
度を修正する方法がある。すなわち、電流密度最適範囲
、Ｄｘｍｉｎ≦ＤＫＰ≦Ｄｘｍａｘを超えるときには（
３）式から得られるストリップ速度計算式、１００・η
・ｋ−Ｌ ＶＰＸ ＝□・Ｎ−Ｄｘ ・・・・・・・・・（６）の
ＤＫＫ ＤＫｒｒ＋ａｘ （あるいはＤＫＰ ＜ ＤＫ
ｍｉｍのときＤｘｍｉｎ ）を代入し、’Ｎ Ｋ Ｎｐ
を代入して得られるストリップ速度Ｖｐｘを修正設定値
として第３図の速度制御回路７に設定すると同時に、（
１）式のＶにＶＰＸを代入して倚られるメッキ電流ＩＡ
（ＩＰＸと同じ）を修正設定値として第３図の電流分
配回路３に設定する。この方法は第４図（ａ）のフロー
チャートのＡ部をＢ部に置換すれば実現できる。
上記のメッキ電流の初期設定値の演算はストリップ幅、
メッキ付庸量目標値、ストリップ速度設定値のいづれか
一つでも変ったらその都度行う。
メッキ付庸量目標値、ストリップ速度設定値のいづれか
一つでも変ったらその都度行う。
つぎに操業中のメッキ電流の修正値の演算は、前記初期
設定値のメッキ電流で操業中に、たとえば１００ｍｇ毎
に、第３図の速度検出器６から入力される速度実測値（
Ｖａ）を前記（１）式のＶに代入して所要メッキ電流の
修正値（Ｉｐ ）を算出する。−万その時点での実際の
電極使用数（Ｎａ ）をＮｓに代入し、速度実測値（Ｖ
ａ）を■に代入して、（社）流密度ＤＫＰを算出する。
設定値のメッキ電流で操業中に、たとえば１００ｍｇ毎
に、第３図の速度検出器６から入力される速度実測値（
Ｖａ）を前記（１）式のＶに代入して所要メッキ電流の
修正値（Ｉｐ ）を算出する。−万その時点での実際の
電極使用数（Ｎａ ）をＮｓに代入し、速度実測値（Ｖ
ａ）を■に代入して、（社）流密度ＤＫＰを算出する。
そＬ７て算出した電流密度ＤＫＰが電流密度最適範囲Ｎ
Ｄｉｃｍｉ−ｎ≦ＤＫＰ≦Ｄｘｍａｘ内のときは、所
要メッキ電流の修正値（Ｉｐ）を設定し、範囲を超える
場合には、初期設定の場合と同様な手順で修正設定値（
Ｎ’ＰＸ ）を算出し設定する。
Ｄｉｃｍｉ−ｎ≦ＤＫＰ≦Ｄｘｍａｘ内のときは、所
要メッキ電流の修正値（Ｉｐ）を設定し、範囲を超える
場合には、初期設定の場合と同様な手順で修正設定値（
Ｎ’ＰＸ ）を算出し設定する。
かくして電流密度の範囲を考慮したメッキ電流の設定と
修正が行われる。まだ、メッキ電流に許容限界があると
きでも上記と組合わせて算出すれば電流密度の範囲とメ
ッキ電流許容限界も含めたメッキ電流の設定と修正がで
きる。
修正が行われる。まだ、メッキ電流に許容限界があると
きでも上記と組合わせて算出すれば電流密度の範囲とメ
ッキ電流許容限界も含めたメッキ電流の設定と修正がで
きる。
発明の効果
以上述べたごとく本発明方法はストリップの連続電気メ
ッキにおいてメッキ層の品質（メッキ外観やメッキ密着
性など）に影響を与える電流密度適正範囲を考慮してメ
ッキ電流を設定し、また範囲を超えるときは電極使用数
を修正またはスト’Ｊツブ速度を修正するものであるか
ら、所定のメッキ品質を確保しながら、メッキ付着量を
所定の範囲に制御することができる。
ッキにおいてメッキ層の品質（メッキ外観やメッキ密着
性など）に影響を与える電流密度適正範囲を考慮してメ
ッキ電流を設定し、また範囲を超えるときは電極使用数
を修正またはスト’Ｊツブ速度を修正するものであるか
ら、所定のメッキ品質を確保しながら、メッキ付着量を
所定の範囲に制御することができる。
第１図は電流密度の適正範囲の例を示す図、第２図は電
流密度適正範囲内での電極使用数の修正、ストリップ速
度の修正の方法を説明するだめの図、第３図は本発明の
実施例における装置構成を示す図、第４図（ａ） 、
（ｂ）は本発明における制御フローの具体例を示すフロ
ーチャートである。 １はメッキ槽、２−１〜２−ｎ２は電極、３は電流分配
回路、４は演算回路、５は設定器（もしくは割算機）、
６は速度検出器、７は速度制御回路。 出願力 新日本製鍼株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔 呂 冨 呂 呂 ′″ −− 卵醜佑便ぎ谷 第４図 （ａ）（ｂ）
流密度適正範囲内での電極使用数の修正、ストリップ速
度の修正の方法を説明するだめの図、第３図は本発明の
実施例における装置構成を示す図、第４図（ａ） 、
（ｂ）は本発明における制御フローの具体例を示すフロ
ーチャートである。 １はメッキ槽、２−１〜２−ｎ２は電極、３は電流分配
回路、４は演算回路、５は設定器（もしくは割算機）、
６は速度検出器、７は速度制御回路。 出願力 新日本製鍼株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔 呂 冨 呂 呂 ′″ −− 卵醜佑便ぎ谷 第４図 （ａ）（ｂ）
Claims (1)
- 金属ストリップの連続電気メッキにおいて、メッキ層品
質と関連させて電流密度の適正範囲を予め定めておき、
所定のメッキ付着量を得るに必要なメッキ電流値を算出
し、該算出したメッキ電流値から当該操業時の電極基準
使用数での電流密度を算出し、該算出した電流密度が前
記適正範囲内のときは前記基準使用数の電極を使用して
メッキし、前記算出した電流密度が前記適正範囲を超え
るときは電極の使用数を基準使用数に対して増減してメ
ッキするかまたはストリップ速度の設定値を増減しかつ
該増減したストリップ速度設定値に対応したメッキ電流
値を再算出してメッキ電流設定値を修正してメッキする
ことを特徴とする連続電気メッキ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15390183A JPS6046394A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 連続電気メッキ方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15390183A JPS6046394A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 連続電気メッキ方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6046394A true JPS6046394A (ja) | 1985-03-13 |
| JPS631395B2 JPS631395B2 (ja) | 1988-01-12 |
Family
ID=15572581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15390183A Granted JPS6046394A (ja) | 1983-08-23 | 1983-08-23 | 連続電気メッキ方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6046394A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6046392A (ja) * | 1983-08-23 | 1985-03-13 | Nippon Steel Corp | 連続電気メッキ方法 |
| JPS61231200A (ja) * | 1985-04-04 | 1986-10-15 | Mitsubishi Electric Corp | メツキ電流計算制御装置 |
| JP2010202950A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Nippon Steel Engineering Co Ltd | 電気メッキ電流制御方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4932172A (ja) * | 1972-07-26 | 1974-03-23 | ||
| JPS58130300A (ja) * | 1982-01-28 | 1983-08-03 | Toshiba Corp | 電気めつき制御装置 |
| JPS6046392A (ja) * | 1983-08-23 | 1985-03-13 | Nippon Steel Corp | 連続電気メッキ方法 |
-
1983
- 1983-08-23 JP JP15390183A patent/JPS6046394A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4932172A (ja) * | 1972-07-26 | 1974-03-23 | ||
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Cited By (3)
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| JPS61231200A (ja) * | 1985-04-04 | 1986-10-15 | Mitsubishi Electric Corp | メツキ電流計算制御装置 |
| JP2010202950A (ja) * | 2009-03-05 | 2010-09-16 | Nippon Steel Engineering Co Ltd | 電気メッキ電流制御方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS631395B2 (ja) | 1988-01-12 |
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