JPS6046448A - Ｎｍｒ映像方法および装置 - Google Patents
Ｎｍｒ映像方法および装置Info
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- JPS6046448A JPS6046448A JP59083608A JP8360884A JPS6046448A JP S6046448 A JPS6046448 A JP S6046448A JP 59083608 A JP59083608 A JP 59083608A JP 8360884 A JP8360884 A JP 8360884A JP S6046448 A JPS6046448 A JP S6046448A
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- G—PHYSICS
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- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
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- G01R33/483—NMR imaging systems with selection of signals or spectra from particular regions of the volume, e.g. in vivo spectroscopy
-
- G—PHYSICS
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、資料スライスの少なくとも一部のＮＭＲ（核
磁気共鳴）スペクトルを得る方法およびそれを実行する
ための装置に関するものである。
磁気共鳴）スペクトルを得る方法およびそれを実行する
ための装置に関するものである。
特に投影再構成映像技術を利用する曳断層映像はよく知
られている。そのような技術では一連の自由誘導減衰（
ｆｒｅｅ １ｎｄｕｃｔｉｏｎ ｄｅｃａｙ以下ＦＩ以
下−ＩＤが通常適当な高周波パルスシーケンスで得られ
、一方磁界傾度（ｇｒａｄｉｅｎｔ）は映像平面中の多
数の角を通って回転される（その映像平面は既知の手段
により設定されるとする）。各角位置は与えられだＦＩ
Ｄに対応する。その結果生じたＦＩＤはそれからフーリ
エ変換されて映像を再構成するために使用される一連の
投影を生じる。上述の方法の難点は磁界傾度が資料スラ
イスの映像中の特定の化学シフトろ を広くさせる必要があることでてり、それ故資料スライ
ス、特に人体のような生体資料のスライスの典型的な映
像においては種々の化学シフトが充分解像できない欠点
がある。それは共振間の分離が各投影中の傾度によって
生じる広巾化よシ少いからである。Ｂｅｎｄｓ １氏外
によってＪ＊ Ｍａｇｎ、 Ｒｅ５ｏｎ ｒ ３８ 、
３４３貞（１９８０）に発表された、およびＬａｕｔｅ
ｒｂｕｒ氏外によってＪ、 Ａｍｅｒ、 Ｃｈｅｍ、
Ｓｏｃ、 、 ９７ ＋ ６８６６貞（１９７５）に発
表された方法は選択的励起或は信号減算技術を含んでい
るが特に複雑な技術に応用可能であるものではなく、資
料によって生成されるべき従来知られている型式のスペ
クトルが要求されるものである。さらに個々の点のス波
りトルを得る［感受点（ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ−ｐｏｉｎ
ｔ）Ｊ法が知られているが、それは多数の点から別々の
データを得る必要があり、したがって非常に時間のかか
る方法である。強調（ｅｍｐｈａｓｉｚｉｎｇ）Ｔ２（
スピン−スピン緩和）差およびＴＩ （スピン−格子緩
和）差を用いる方法もＮＭＲ映像において知られている
。しかしながらこれらの方法は資料スライスの映像中の
所定の点或は区域の実際のスペクトルは何も生成しない
。
られている。そのような技術では一連の自由誘導減衰（
ｆｒｅｅ １ｎｄｕｃｔｉｏｎ ｄｅｃａｙ以下ＦＩ以
下−ＩＤが通常適当な高周波パルスシーケンスで得られ
、一方磁界傾度（ｇｒａｄｉｅｎｔ）は映像平面中の多
数の角を通って回転される（その映像平面は既知の手段
により設定されるとする）。各角位置は与えられだＦＩ
Ｄに対応する。その結果生じたＦＩＤはそれからフーリ
エ変換されて映像を再構成するために使用される一連の
投影を生じる。上述の方法の難点は磁界傾度が資料スラ
イスの映像中の特定の化学シフトろ を広くさせる必要があることでてり、それ故資料スライ
ス、特に人体のような生体資料のスライスの典型的な映
像においては種々の化学シフトが充分解像できない欠点
がある。それは共振間の分離が各投影中の傾度によって
生じる広巾化よシ少いからである。Ｂｅｎｄｓ １氏外
によってＪ＊ Ｍａｇｎ、 Ｒｅ５ｏｎ ｒ ３８ 、
３４３貞（１９８０）に発表された、およびＬａｕｔｅ
ｒｂｕｒ氏外によってＪ、 Ａｍｅｒ、 Ｃｈｅｍ、
Ｓｏｃ、 、 ９７ ＋ ６８６６貞（１９７５）に発
表された方法は選択的励起或は信号減算技術を含んでい
るが特に複雑な技術に応用可能であるものではなく、資
料によって生成されるべき従来知られている型式のスペ
クトルが要求されるものである。さらに個々の点のス波
りトルを得る［感受点（ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ−ｐｏｉｎ
ｔ）Ｊ法が知られているが、それは多数の点から別々の
データを得る必要があり、したがって非常に時間のかか
る方法である。強調（ｅｍｐｈａｓｉｚｉｎｇ）Ｔ２（
スピン−スピン緩和）差およびＴＩ （スピン−格子緩
和）差を用いる方法もＮＭＲ映像において知られている
。しかしながらこれらの方法は資料スライスの映像中の
所定の点或は区域の実際のスペクトルは何も生成しない
。
〔発明の概要〕
本発明は、現在存在している聴断層映像走査器に比較的
容易に適用することができ、資料スライスの映像中の任
意の与えられた点のスペクトル、資料スライスの映像の
成る区域内の選択された核磁気共鳴の強度分布、或は与
えられた区域の全体のＮＭＲスペクトルを生成すること
のできる方法を提供するものである。
容易に適用することができ、資料スライスの映像中の任
意の与えられた点のスペクトル、資料スライスの映像の
成る区域内の選択された核磁気共鳴の強度分布、或は与
えられた区域の全体のＮＭＲスペクトルを生成すること
のできる方法を提供するものである。
本発明の方法は使用者が資料スライスの少なくとも一部
のＮＭＲスペクトルを得ることを広く許容するものであ
る。本発明の方法では既知の方法で資料スライスのｎ個
（ｎ）１ ）の投影を得る。各投影は次いでその点に対
しΔｆだけシフトされる（その点から、真の化学シフト
から生じる信号の周波数オフセット）。本発明の１実施
態様においてはｎは１よυはるかに大きな数（： ｎ：
＞１ ）とされ、シフトされた投影は単に加え合わされ
る。別の実施態様においてはシフトされた投影の第１の
セットに沿った複数場所における整列した位置の強度が
比較され、そこにおける差が選択されたしきい値内であ
る時その強度は平均される。そこにおける差がしきい値
よシ大きい時には強度の下が取られる。それによって合
成された点スペクトルがその点に対して生成される。
のＮＭＲスペクトルを得ることを広く許容するものであ
る。本発明の方法では既知の方法で資料スライスのｎ個
（ｎ）１ ）の投影を得る。各投影は次いでその点に対
しΔｆだけシフトされる（その点から、真の化学シフト
から生じる信号の周波数オフセット）。本発明の１実施
態様においてはｎは１よυはるかに大きな数（： ｎ：
＞１ ）とされ、シフトされた投影は単に加え合わされ
る。別の実施態様においてはシフトされた投影の第１の
セットに沿った複数場所における整列した位置の強度が
比較され、そこにおける差が選択されたしきい値内であ
る時その強度は平均される。そこにおける差がしきい値
よシ大きい時には強度の下が取られる。それによって合
成された点スペクトルがその点に対して生成される。
第１のセット中のシフトされた投影の数はｎよシ小さい
ことが好ましい。さらに、そのような場合に本発明の方
法では追加的に合成された点スペクトルに沿った複数の
場所における整列した位置の強度および第１のセットの
外側の投影を比較し、差が選択されたしきい値内にある
時に対応する点の強度を平均する。差がしきい値よシ大
きい時には強度の下のものが取られる。
ことが好ましい。さらに、そのような場合に本発明の方
法では追加的に合成された点スペクトルに沿った複数の
場所における整列した位置の強度および第１のセットの
外側の投影を比較し、差が選択されたしきい値内にある
時に対応する点の強度を平均する。差がしきい値よシ大
きい時には強度の下のものが取られる。
このようにして第１の反覆された点スペクトルをその点
に対して生成することができる。
に対して生成することができる。
本発明の別の実施態様においては、ｎは３よシ大きくさ
れ、シフトされた投影に沿った複数の場所における整列
された位置の強度はシフトされた投影の選択された複数
のセットそれぞれ内で比較され、比較は前のような方法
で行われ、それによってその点に対する複数の合成され
た点スペクトルが生成される。さらにその少なくとも２
つの第１のセットの合成されたスペクトルに沿った複数
の場所における整列された位置の強度が前述のような方
法で比較され、その点に対する第１の反覆された点スペ
クトルが生成される。
れ、シフトされた投影に沿った複数の場所における整列
された位置の強度はシフトされた投影の選択された複数
のセットそれぞれ内で比較され、比較は前のような方法
で行われ、それによってその点に対する複数の合成され
た点スペクトルが生成される。さらにその少なくとも２
つの第１のセットの合成されたスペクトルに沿った複数
の場所における整列された位置の強度が前述のような方
法で比較され、その点に対する第１の反覆された点スペ
クトルが生成される。
さらに別の実施態様においてはｎは７よシ大きい。この
実施態様においてはさらに１番目の反覆されたスペクト
ルおよび前の比較されない合成された点スペクトルに沿
った複数の場所における整列された位置の強度が比較さ
れ、比較は前述のような方法で行われてそれによシｉ＋
１番目の反覆された点スペクトルが生成される。
実施態様においてはさらに１番目の反覆されたスペクト
ルおよび前の比較されない合成された点スペクトルに沿
った複数の場所における整列された位置の強度が比較さ
れ、比較は前述のような方法で行われてそれによシｉ＋
１番目の反覆された点スペクトルが生成される。
それぞれの場合にｉ番目の反覆されたス４クトルとして
前の反覆から得られた反覆スペクトルを使用して前の過
程が複数回縁り返される。したがりて、例えば第２の反
覆された点スペクトルは前述の方法で比較されてその点
に対する第３の反覆されたスペクトルを生成する。第３
の反覆されたスペクトルはそれからさらに比較されて第
４の反覆された点スペクトルを生成し以下同様に行われ
る。
前の反覆から得られた反覆スペクトルを使用して前の過
程が複数回縁り返される。したがりて、例えば第２の反
覆された点スペクトルは前述の方法で比較されてその点
に対する第３の反覆されたスペクトルを生成する。第３
の反覆されたスペクトルはそれからさらに比較されて第
４の反覆された点スペクトルを生成し以下同様に行われ
る。
第１のセット中のシフトされた投影の数はに１であり、
そのシフトされた投影のそれぞれは３６０°Ａ１の角度
だけ隣シのものと離れている。
そのシフトされた投影のそれぞれは３６０°Ａ１の角度
だけ隣シのものと離れている。
さらに一般的に云えば各セットにおけるシフトされた投
影の数はｋｌであシ、各シフトされた投影は隣接するシ
フトされた投影と３６０°Ａｌ離れている。ｋｌ＝４が
好ましい。
影の数はｋｌであシ、各シフトされた投影は隣接するシ
フトされた投影と３６０°Ａｌ離れている。ｋｌ＝４が
好ましい。
反覆されたスペクトルの少なくとも幾つかは例えばＣＲ
Ｔ表示装置或はゾロツタによって有用に表示される。
Ｔ表示装置或はゾロツタによって有用に表示される。
本発明のさらに別の実施態様によれば各過程は１つの区
域の複数の点のそれぞれに対して約シ返されてすれによ
ってその区域に対する反覆された点スペクトルを生成す
る。その区域内の選択された核磁気共鳴の強度分布は計
算され、表示される。代シに別の実施態様の方法では各
過程はその区域に対する反覆された点スペクトルを生成
するように１つの区域における複数の各点に対して繰り
返されることができ、それに続いて区域のスペクトルを
生成するように点スペクトルが加えられ、次いで表示さ
れる。
域の複数の点のそれぞれに対して約シ返されてすれによ
ってその区域に対する反覆された点スペクトルを生成す
る。その区域内の選択された核磁気共鳴の強度分布は計
算され、表示される。代シに別の実施態様の方法では各
過程はその区域に対する反覆された点スペクトルを生成
するように１つの区域における複数の各点に対して繰り
返されることができ、それに続いて区域のスペクトルを
生成するように点スペクトルが加えられ、次いで表示さ
れる。
本発明はまた映像スライスの少なくとも一部の鳳スペク
トルを得るための装置を提供する。
トルを得るための装置を提供する。
装置は周知の形式のＮＭＲ［層映像走査器を備えている
（基本的には必要な磁界コイル、高周波送信および受信
コイルおよび関連するハードウェアよシ成る）。装置は
また表示装置および走査器と表示装置との間に接続され
た適当にプログラムされたデジタルコンｅユータ装置を
備え、それは走査器を動作させ、上述の方法を実行する
。
（基本的には必要な磁界コイル、高周波送信および受信
コイルおよび関連するハードウェアよシ成る）。装置は
また表示装置および走査器と表示装置との間に接続され
た適当にプログラムされたデジタルコンｅユータ装置を
備え、それは走査器を動作させ、上述の方法を実行する
。
本発明の方法は、線形の磁界傾度Ｇｘ、ｙ（θ）の存在
において、その具の化学シフトから映像表面中の任意の
点ＰＸ、ｙ（ただし映像平面は既知の手段によってすで
に設定されているとする）から生じる信号の周波数の偏
移（Δｆ）は次式で与えられることに基くものである。
において、その具の化学シフトから映像表面中の任意の
点ＰＸ、ｙ（ただし映像平面は既知の手段によってすで
に設定されているとする）から生じる信号の周波数の偏
移（Δｆ）は次式で与えられることに基くものである。
Δｆ＝］ｔ１ Ｇ工、ア（の〔工。。８θ＋ア、ｌ靜〕
ここでｒはジャイロマグネティックレシオで１） ’）
％ Ｇｘ＋ｙ（のはＸおよびｙ軸に沿って与えられた
２つの線形磁界傾度の合成したものである（０はＸ軸に
対する磁界傾度の方向である）。
ここでｒはジャイロマグネティックレシオで１） ’）
％ Ｇｘ＋ｙ（のはＸおよびｙ軸に沿って与えられた
２つの線形磁界傾度の合成したものである（０はＸ軸に
対する磁界傾度の方向である）。
したがって、資料の映像平面上の与えられた地点に庶し
て複数の投影が得られる場合にはその点における全ての
物質からの信号はΔｆだけ各投影をシフトすることによ
って簡単にそれらのそれぞれの化学シフト周波数に沿っ
て整列される０簡単な場合にはその点に対して利用でき
る充分多数のシフトされた投影を与えることによって、
シフトされた投影は簡単に加えられてその点に対す仝Ｎ
ＭＲスペクトル（すなわち点スペクトル）を生じること
ができる。その点の外部からの共鳴は一般にベースライ
ンに沿って広がる。
て複数の投影が得られる場合にはその点における全ての
物質からの信号はΔｆだけ各投影をシフトすることによ
って簡単にそれらのそれぞれの化学シフト周波数に沿っ
て整列される０簡単な場合にはその点に対して利用でき
る充分多数のシフトされた投影を与えることによって、
シフトされた投影は簡単に加えられてその点に対す仝Ｎ
ＭＲスペクトル（すなわち点スペクトル）を生じること
ができる。その点の外部からの共鳴は一般にベースライ
ンに沿って広がる。
第１図を参照すると３個のベンゼンを含む管の投影に対
して、成る点における与えられた物質に対する化学７７
トが種々の投影においてどのようにしてΔｆシフトされ
るかが示されている。本発明の方法は、基本的には投影
が特定の管或は地点に対してΔｆシフトされる時にその
管からの信号は整列し、一方残りのものはランダムに変
化するという事実を利用するものである。しかしながら
、関心のある地点の外側の信号はそのような信号が特に
強いと、投影が単に加え合わされただけの場合には影響
を与える。
して、成る点における与えられた物質に対する化学７７
トが種々の投影においてどのようにしてΔｆシフトされ
るかが示されている。本発明の方法は、基本的には投影
が特定の管或は地点に対してΔｆシフトされる時にその
管からの信号は整列し、一方残りのものはランダムに変
化するという事実を利用するものである。しかしながら
、関心のある地点の外側の信号はそのような信号が特に
強いと、投影が単に加え合わされただけの場合には影響
を与える。
そのような影響による変化は以下記載するような方法で
投影を比較し、以下記載するように反覆法を使用するこ
とによって最小にされる。
投影を比較し、以下記載するように反覆法を使用するこ
とによって最小にされる。
その第１のセットの異なる投影の比較において、そのセ
ットの投影上の整列した位置（すなわち化学シフト）の
強度が投影に沿った複数の位置において比較される。強
度における差が選択されたしきい値（それはゼロを含み
、特定の用途に応じて使用者が決定できる）内にある時
には対応する位置の強度の平均が用いられる。
ットの投影上の整列した位置（すなわち化学シフト）の
強度が投影に沿った複数の位置において比較される。強
度における差が選択されたしきい値（それはゼロを含み
、特定の用途に応じて使用者が決定できる）内にある時
には対応する位置の強度の平均が用いられる。
それにおける差がしきい値より大きい時に強度の下が取
られる。このようにして合成された反覆した点スペクト
ルをその点に対して生成することができる。しかしなが
ら通常前記影響による変化を最小にするためにさらに反
覆する必要がある。これは前述のような方法で４つのシ
フトされた投影の複数の選択されたセットのそれぞれの
内部において４つの９０度離れてシフトされ、た投影に
沿りて複数の場所における整列した位置の強度を比較す
ることによってその点に 一対する複数の合成された点
スペクトル（任意の特定の合成した点スペクトルＰｍと
して示す）をまず得ることによって達成されることが好
ましい。その点に対する少なくとも２つの合成された点
スペクトルの第１のセット上の整列した位置は投影に対
するのと類似した方法で比較され、それによってその点
に対する第２の反覆された点スペクトルが生成される。
られる。このようにして合成された反覆した点スペクト
ルをその点に対して生成することができる。しかしなが
ら通常前記影響による変化を最小にするためにさらに反
覆する必要がある。これは前述のような方法で４つのシ
フトされた投影の複数の選択されたセットのそれぞれの
内部において４つの９０度離れてシフトされ、た投影に
沿りて複数の場所における整列した位置の強度を比較す
ることによってその点に 一対する複数の合成された点
スペクトル（任意の特定の合成した点スペクトルＰｍと
して示す）をまず得ることによって達成されることが好
ましい。その点に対する少なくとも２つの合成された点
スペクトルの第１のセット上の整列した位置は投影に対
するのと類似した方法で比較され、それによってその点
に対する第２の反覆された点スペクトルが生成される。
その点に対する第２またはよシ高次の反覆された点スペ
クトルは前述の方法で第１の或はさらに一般的に云えば
１番目の反覆されたスペクトルにおける整列された位置
を、前の比較されない合成されたスペクトルと比較する
ことによって得ることができ、それによってその点に対
する第２の反覆されたスにクトル、或は一般的に云えば
ｉ＋１番目の反覆されたその点に対するスペクトルを生
成する。最初に９０度等間隔で離れた４つの投影の利用
は前述の投影から信号を弁別するのに役立つ。
クトルは前述の方法で第１の或はさらに一般的に云えば
１番目の反覆されたスペクトルにおける整列された位置
を、前の比較されない合成されたスペクトルと比較する
ことによって得ることができ、それによってその点に対
する第２の反覆されたスにクトル、或は一般的に云えば
ｉ＋１番目の反覆されたその点に対するスペクトルを生
成する。最初に９０度等間隔で離れた４つの投影の利用
は前述の投影から信号を弁別するのに役立つ。
を少くするように使用できることに留意すべきである。
したがってｉ番目の反覆スペクトルにおける対応する位
置が前の比較されない第１の反覆された点スペクトルと
比較されるときには、差がしきい値内にある時に強度の
平均値をｉ番目の反覆されたスペクトルに単に加えるこ
とが可能である。そのような方法においてスケールを維
持するには合成された強度は２で割らなければならない
。差がしきい値よシ大である時対応する位置からの強度
の下のものである合成された強度も同様に２で割らなけ
ればならない。
置が前の比較されない第１の反覆された点スペクトルと
比較されるときには、差がしきい値内にある時に強度の
平均値をｉ番目の反覆されたスペクトルに単に加えるこ
とが可能である。そのような方法においてスケールを維
持するには合成された強度は２で割らなければならない
。差がしきい値よシ大である時対応する位置からの強度
の下のものである合成された強度も同様に２で割らなけ
ればならない。
第２図乃至第５図で説明される実施例で使用される方法
について以下説明する。その方法はプログラム制御デジ
タルコンピュータにおいて実行される。（Ｓｉ） 、
（Ｐｍ）等におけるカッコはスペクトルの強度を示す。
について以下説明する。その方法はプログラム制御デジ
タルコンピュータにおいて実行される。（Ｓｉ） 、
（Ｐｍ）等におけるカッコはスペクトルの強度を示す。
■ 第１の反覆ステップ
（１）全区域または映像の大きさを決定する。
（ｉｉ） ｘおよびｙ−ａらびに長さおよび幅の項にお
ける関心のある区域を決定する。
ける関心のある区域を決定する。
（ｉｉｏ １つの点に対するΔｆを計算する。
（ψ 各投影をΔｆシフトし、コアメモリに蓄積する。
０ それぞれ隣接する投影と９０度離れている４個のシ
フ、トされた投影のセットに沿った１つの場所における
整列された位置の強度を４個の値の最低のものを計算す
ることによって比較する。
フ、トされた投影のセットに沿った１つの場所における
整列された位置の強度を４個の値の最低のものを計算す
ることによって比較する。
（ｖＤ （ａ） （ｖ）の結果をその点に対する合成さ
れた第１の反覆された点スペクトルに加算する。
れた第１の反覆された点スペクトルに加算する。
（ｂ） もしも最低値が外側にあればベースラインしき
い値は０としてセットする。
い値は０としてセットする。
ｕｌ） （Ｖ）からｃ１／）を投影に沿った全ての所望
位置が反覆されるまで反覆し、全ての所望位置に対して
Ｍの結果を合成スペクトルＰｍとして蓄積する。
位置が反覆されるまで反覆し、全ての所望位置に対して
Ｍの結果を合成スペクトルＰｍとして蓄積する。
０Ｉ１１１全ての投影が反覆されるまで（Ｉｉｉ）乃至
ＱＯを繰シ返す。
ＱＯを繰シ返す。
（沁 関心のある区域の全ての点が反覆されるまでＧ１
１）乃至＆ｉ）を繰シ返す。
１）乃至＆ｉ）を繰シ返す。
■追加の反覆
（１）その点に対して１番目の反覆スペクトルに沿った
位置において整列された位置の、前の比較されないＰｍ
における強度が比較され、その強度差が計算される。す
なわち、その位置における強度差＋ （Ｓｉ）−（Ｐｍ
） ｌ ＝δが計算される。もしもその位置におけるＳ
ｌまたはＰｍにおける最低強度がベースラインぶり小で
あればしきい値は０にセットされる。
位置において整列された位置の、前の比較されないＰｍ
における強度が比較され、その強度差が計算される。す
なわち、その位置における強度差＋ （Ｓｉ）−（Ｐｍ
） ｌ ＝δが計算される。もしもその位置におけるＳ
ｌまたはＰｍにおける最低強度がベースラインぶり小で
あればしきい値は０にセットされる。
（１１） もしも（１）におけるδがしきい値より大き
ければその位置における（Ｓｉ）および（Ｐｍ）の下を
取シその点に対するｉ ＋ １番目の反覆スペクトルに
加え、正しいスケールのため２で除算する。
ければその位置における（Ｓｉ）および（Ｐｍ）の下を
取シその点に対するｉ ＋ １番目の反覆スペクトルに
加え、正しいスケールのため２で除算する。
ＧｉＤ δがしきい値内であれば、（Ｓｔ）および（Ｐ
ｍ）の平均をその点の１＋１番目の反覆スペクトルに加
え、正しいスケールのために２で除算する。
ｍ）の平均をその点の１＋１番目の反覆スペクトルに加
え、正しいスケールのために２で除算する。
（功 それに沿った全ての所望位置が反覆されるまでＳ
ｔに沿った次の位置に対して（１）乃至６１０を繰シ返
す。
ｔに沿った次の位置に対して（１）乃至６１０を繰シ返
す。
（ψ 全てのＰｍが反覆されるまで（１）乃至４功を繰
υ返す。
υ返す。
付−関心のある区域の全一ての点が反覆されるまで（ｉ
）乃至（ψを繰シ返す。
）乃至（ψを繰シ返す。
＆ｉ） 全ての反覆が完了するまで（１）乃至（Ｖ）を
繰シ返す。
繰シ返す。
上述の方法によって行われる反覆の数はプログラムによ
って自動的に制限されることができ、或は使用者は反覆
の各過程において合成された点スペクトルを見て結果と
して生じたスペクトルに本質的に変化がない時に停止す
るようにしてもよい。その代シに合成された点スペクト
ルものを含んでいる。
って自動的に制限されることができ、或は使用者は反覆
の各過程において合成された点スペクトルを見て結果と
して生じたスペクトルに本質的に変化がない時に停止す
るようにしてもよい。その代シに合成された点スペクト
ルものを含んでいる。
資料管 内 容 第５図中の指示
１ １．１．２−）リクロロエタン ｌ２丁２ 水 ２
−二
３ エチルアセテート ３，３．３
４ アセトン ４
５ アセトン ５
５ ・ジメチルサルフオキサイド 百
６ ｐ−ジオクサン（ｄｉｏｘａｎｅ） ６６ 不純物
６，６ ７ ジメチルサルフオキサイド ７ ７２の異なる投影のＦＩＤ （自由誘導減衰）は全部で
７３分間で資料スライス対して得られた。
６，６ ７ ジメチルサルフオキサイド ７ ７２の異なる投影のＦＩＤ （自由誘導減衰）は全部で
７３分間で資料スライス対して得られた。
実験は自家製のオックスフォードインスッルメント狭？
ア線輪に基いた２ ７０ ＭＨｚスベクトロメータオよ
びエコレット１１８０／２９３Ｂパルスプログラマによ
って行われた。この実験における他の実験パラメータに
は次のものが含まれている。
ア線輪に基いた２ ７０ ＭＨｚスベクトロメータオよ
びエコレット１１８０／２９３Ｂパルスプログラマによ
って行われた。この実験における他の実験パラメータに
は次のものが含まれている。
スペクトル幅＝±５００ Ｈｚ ニブロックの大きさく
すなわち整列した投影或はスにクトルに沿って反覆され
た位置の数）＝５１２場所；取得数＝４；パルス幅＝４
マイクロ秒；取得時間＝２５７ミリ秒；パルス間の緩和
減衰（ｒｅｌａｘａｔｉｏｎｄｅｃａｙ ） ＝ １５
秒；磁界傾度＝ Ｉ ０７ｃｍ、磁界傾度制御とデータ
処理の両者はアセンブリ語で書かれたソフトウェアによ
って行われる。ベースラインしきい値はゼロにセットさ
れ、一方ＩＩ （１１）に対するしきい値δは反覆スペ
クトルの６．２５チにセットされる。７２の投影角のフ
ーリエ変換はさらに２分を要した。第３図のトレース１
乃至７の計算は、まず６管の中心に位置する０、２ｍｍ
Ｘ帆２１訓の点に基いた反覆点スペクトルであシ、全体
で約７秒を要した。第３図に示されるようにトレース２
，４．５および７は許容できるものであるが、管１，３
および６のそれらは実質上影響を受けている。右のトレ
ースに示されるようにこれらの影響は上述の方法を使用
した第２の反覆ステツブによって完全に消去される。第
３図から明らかなように良好な化学的シフトおよび空間
的分解能は上述の方法によって得られる。例えば第３図
の水からメチルアセテート中のメチレン部分の分解能を
注意されたい（トレース３および２）。
すなわち整列した投影或はスにクトルに沿って反覆され
た位置の数）＝５１２場所；取得数＝４；パルス幅＝４
マイクロ秒；取得時間＝２５７ミリ秒；パルス間の緩和
減衰（ｒｅｌａｘａｔｉｏｎｄｅｃａｙ ） ＝ １５
秒；磁界傾度＝ Ｉ ０７ｃｍ、磁界傾度制御とデータ
処理の両者はアセンブリ語で書かれたソフトウェアによ
って行われる。ベースラインしきい値はゼロにセットさ
れ、一方ＩＩ （１１）に対するしきい値δは反覆スペ
クトルの６．２５チにセットされる。７２の投影角のフ
ーリエ変換はさらに２分を要した。第３図のトレース１
乃至７の計算は、まず６管の中心に位置する０、２ｍｍ
Ｘ帆２１訓の点に基いた反覆点スペクトルであシ、全体
で約７秒を要した。第３図に示されるようにトレース２
，４．５および７は許容できるものであるが、管１，３
および６のそれらは実質上影響を受けている。右のトレ
ースに示されるようにこれらの影響は上述の方法を使用
した第２の反覆ステツブによって完全に消去される。第
３図から明らかなように良好な化学的シフトおよび空間
的分解能は上述の方法によって得られる。例えば第３図
の水からメチルアセテート中のメチレン部分の分解能を
注意されたい（トレース３および２）。
もちろん上述のことから成る区域において複数のそれぞ
れの点に対する点スペクトルが一度得られたならばその
区域の選択された共振の強度分布を計算するのにコンピ
ュータを使用することは一直線である。
れの点に対する点スペクトルが一度得られたならばその
区域の選択された共振の強度分布を計算するのにコンピ
ュータを使用することは一直線である。
第４図および第５図を参照すると、特に第５図は前の実
験から得られたデータから計算された輪郭プロットを示
し、それはｙ軸に沿ったラインスペクトルおよびＸ軸に
沿ったそれぞれ厚さ約帆４簡を表わしている。各スペク
トルは第４図に示すようなインターバルで取られている
。
験から得られたデータから計算された輪郭プロットを示
し、それはｙ軸に沿ったラインスペクトルおよびＸ軸に
沿ったそれぞれ厚さ約帆４簡を表わしている。各スペク
トルは第４図に示すようなインターバルで取られている
。
そのときａ乃至ｄの輪郭プロットは４つのディメンショ
ンを示すＮＭＲスペクトルすなわちＸお −よびｙ空間
座標、化学的シフトおよび強度に対応している。
ンを示すＮＭＲスペクトルすなわちＸお −よびｙ空間
座標、化学的シフトおよび強度に対応している。
上述の説明から当業者に明らかなように、本発明の技術
的範囲を逸脱することなく本発明の実施に際して多くの
変更、変形が可能である。
的範囲を逸脱することなく本発明の実施に際して多くの
変更、変形が可能である。
したがって本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載
によって定められるべきものである。
によって定められるべきものである。
第１図はベンゼンを含む３本の管の一連のＮＭＲ投影を
その投影の下方のその映像と共に示すものであシ、第２
図は７本の毛細管から成シ、それぞれ異なる化合物を含
んで配置されたテス）動 ト資料のＸ−７平真におけるスライスを示し、第３図は
第２図のスライスの高分解能ＮＭＲスペクトルを底部に
従来の方法によるものを示し、その上に本発明の方法に
よるものを示している。 第４図は第５図に示す資料スライスに沿ったラインスペ
クトルの間隔を示し、第５図は底部に通常の方法で得ら
れた第一４図の資料の高分解能ＮＭＲスペクトルを示し
、ａ乃至ｄに第４図のｙ軸に沿ったラインスペクトルを
示す。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦図面の削コシ（
内容に変更なし） ４万１ ５こ 忍べ 手続補正書動式） ％式％ １、事件の表示 特願昭５’９−０８３６０８号 ２、発明の名称 ＮＭＲ映像方法および装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ユニパーシティ・オブ・プリテラシュ・コロンビア４、
代理人 昭和５９年７月３１日 ６、補正の対象
その投影の下方のその映像と共に示すものであシ、第２
図は７本の毛細管から成シ、それぞれ異なる化合物を含
んで配置されたテス）動 ト資料のＸ−７平真におけるスライスを示し、第３図は
第２図のスライスの高分解能ＮＭＲスペクトルを底部に
従来の方法によるものを示し、その上に本発明の方法に
よるものを示している。 第４図は第５図に示す資料スライスに沿ったラインスペ
クトルの間隔を示し、第５図は底部に通常の方法で得ら
れた第一４図の資料の高分解能ＮＭＲスペクトルを示し
、ａ乃至ｄに第４図のｙ軸に沿ったラインスペクトルを
示す。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦図面の削コシ（
内容に変更なし） ４万１ ５こ 忍べ 手続補正書動式） ％式％ １、事件の表示 特願昭５’９−０８３６０８号 ２、発明の名称 ＮＭＲ映像方法および装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 ユニパーシティ・オブ・プリテラシュ・コロンビア４、
代理人 昭和５９年７月３１日 ６、補正の対象
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）、ｎ）１として資料スライスのｎ個の投影を得て
、資料スライス中の成る点に対して投影をΔｆシフトさ
せ、その点に対する点スペクトルを生成する如くシフト
された投影を合算することを特徴とする資料スライスの
少なくとも一部に対するＮＭＲスペクトルを得る方法。 （２）ｎ）１として資料スライスのｎ個の投影を得て、
資料スライス中の成る点に対して投影をΔｆシフトさせ
、シフトされた投影の第１のセットに沿って複数の場所
における整列された位置の強度を比較し、そこにお妙る
差が選択されたしきい値内である時にその強度を平均し
、そこにおける差がしきい値よシ大きい時に強度の下を
取ってその点に対する合成された点スペクトルを生成す
ることを特徴とする資料スライスの少なくとも一部のＮ
ＭＲスペクトルを得る方法。 （３）第１のセット中のシフトされた投影の数はｎよシ
小であり、合成された点スペクトルに沿った複数の場所
における整列された位置の強度と第１のセットの外側の
投影を比較し、それにおける差が選択されたしきい値内
であればその強度を平均し、それにおける差がしきい値
より大である時には強度の下を取ってその点に対する第
１の反覆された点スペクトルを生成する特許請求の範囲
第２項記載の方法。 （４）第１のセットにおけるシフトされた投影の数がｋ
ｌであり、そのシフトされた投影のそれぞれは隣シのシ
フトされた投影と３６００７’ｋｃ、だけ離れている特
許請求の範囲第２項または第３項記載の方法。 （５） 反覆されたスペクトルの少なくとも幾つかは表
示される特許請求の範囲第２項または第３項記載の方法
。 （６）成る区域に対して反覆されたスペクトルを生成す
るようにその区域の複数の点のそれぞれに対して各過程
を反覆し、その区域内の選択された共鳴の強度分布を計
算し、その区域内の選択された共鳴の強度分布を表示す
る特許請求の範囲第２項または第３項記載の方法。 （７）ｎ）３として資料スライスのｎ個の投影を得て、
資料スライス中の成る点に対して投影をΔｆシフトさせ
、シフトされた投影の複数の選択されたセットのそれぞ
れ内のシフトされた投影に沿った複数の場所における整
列された位置の強度を比較し、対応する位置の強度にお
ける差が選択されたしきい値内の時にその強度を平均し
、そζにおける差がしきい値よシ大きい時に強度の下を
取シそれによってその点に対する複数の合成されたスペ
クトルを生成し、そこにおける２以上の第１のセットの
合成されたスペクトルに沿った複数の場所における整列
された位置の強度を比較し、対応する位置の強度の差が
選択されたしきい値内である時にはその強度を平均し、
差がしきい値より大きい時には強度の下を取ってそれに
よってその点に対する第１の反覆されたスペクトルを生
成することを特徴とする資料スライスの少なくとも一部
の聴スペクトルを得る方法。 （８） ｎ）７であり、ｉ番目の反覆されたスペクトル
に沿った複数の場所における整列された位置の強度およ
び前の比較されない合成された点スペクトルをそれぞれ
比較し、それにおける差がしきい値より小さい時には対
応する位置の強度を平均し、差がしきい値よシ大きい時
には強度の下を取ってその点に対するｉ＋１番目の反覆
されたスペクトルを生成し、この過程を複数回反覆し、
それぞれの場合において反覆されたスペクトルとして前
め反覆からの反覆ス（クトルが使用される特許請求の範
囲第７項記載の方法。 （９）各セットにおけるシフトされた投影の数がｋｉで
あシ、そのシフトされた投影のそれぞれは隣シのシフト
された投影と３６ ｏ７′に、だけ離れている特許請求
の範囲第７項または第８項記載の方法。 αＱ ｋｌが４である特許請求の範囲第９項記載の方法
。 αつ 反覆されたスペクトルの少なくとも幾つかは表示
される特許請求の範囲第７項乃至第１０項の何れか１項
記載の方法。 （６）成る区域に対して反覆されたスペクトルを生成す
るようにその区域の複数の点のそれぞれに対して各過程
を反覆し、その区域内の選択された共鳴の強度分布を計
算し、その区域内の選択された共鳴の強度分布を表示す
る特許請求の範囲第７項乃至第１０項の何れか１項記載
の方法。 （６） その区域に対して反覆されたスペクトルを生成
する如く成る区域における複数のそれぞれの点に対して
各過程を反覆し、その区域のスペクトルを生成する如く
その区域に対する点スペクトルを加え合わせてその区域
のスペクトルを表示する特許請求の範囲第９項または第
１゜表示装置と、 前記走査器と表示装置との間に接続されて前記走査器を
動作させるデジタルコンピュータ装置とを具備し、この
デジタルコンピュータ装置は、ｎ ） ３として資料ス
ライスのｎ個の投影を得て、資料スライス中の成る点に
対して投影をΔｆシフトさせ、シフトされた投影の複数
の選択されたセットのそれぞれの内のシフトされた投影
に沿った複数の場所における整列された位置の強度を比
較し、対応する位置の強度における差が選択されたしき
い値内の時にその強度を平均し、そこにおける差がしき
い値よシ大きい時に強度の下を取シそれによってその点
に対する複数の合成されたスペクトルを生成し、そこに
おける２以上の第１のセットの合成のスペクトルに沿っ
た複数の場所における整列された位置の強度を比較し、
対応する位置の強度の差が選択されたしきい値内である
時にはその強度を平均し、差がしきい値より大きい時に
は強度の下を取ってそれによってその点に対する第１の
反覆されたスペクトルを生成し、その少なくとも幾つか
のものを表示する動作を行わせることを特徴とする映像
スライスの少なくとも一部の聴スペクトルを得るための
装置。 αＱ デジタルコンピュータ装置が成る区域に対して反
覆されたスペクトルを生成するようにその区域の複数の
点のそれぞれに対して各過程を反覆し、その区域内の選
択された共鳴の強度分布を計算し、その区域内の選択さ
れた共鳴の強度分布を表示させる如く動作を行わせる特
許請求の範囲第１４項記載の装置。 （１，＊ Ｊが４である特許請求の範囲第１５項記載の
装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US488415 | 1983-04-25 | ||
| US06/488,415 US4520316A (en) | 1983-04-25 | 1983-04-25 | NMR imaging technique |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6046448A true JPS6046448A (ja) | 1985-03-13 |
Family
ID=23939629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59083608A Pending JPS6046448A (ja) | 1983-04-25 | 1984-04-25 | Ｎｍｒ映像方法および装置 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4520316A (ja) |
| JP (1) | JPS6046448A (ja) |
| KR (1) | KR870001227B1 (ja) |
| CA (1) | CA1205134A (ja) |
| DE (1) | DE3415349A1 (ja) |
| FR (1) | FR2544863A1 (ja) |
| GB (1) | GB2139765B (ja) |
| IL (1) | IL71626A0 (ja) |
| IT (1) | IT1213278B (ja) |
| SE (1) | SE8402213L (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63192427A (ja) * | 1987-02-04 | 1988-08-09 | 株式会社日立製作所 | Ｎｍｒスペクトロスコピックイメージング装置 |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59146641A (ja) * | 1983-02-10 | 1984-08-22 | 株式会社日立製作所 | 医用核磁気共鳴イメ−ジング装置の関心領域撮影方式 |
| GB8415078D0 (en) * | 1984-06-13 | 1984-07-18 | Picker Int Ltd | Nuclear magnetic resonance imaging |
| US4618827A (en) * | 1984-09-10 | 1986-10-21 | General Electric Company | Method for high-spatial-resolution spectroscopic NMR imaging of chemically-shifted nuclei |
| US4789832A (en) * | 1987-01-14 | 1988-12-06 | Jeol Ltd. | Three-dimensional NMR spectroscopy |
| US4882679A (en) * | 1987-11-27 | 1989-11-21 | Picker International, Inc. | System to reformat images for three-dimensional display |
| US5170347A (en) * | 1987-11-27 | 1992-12-08 | Picker International, Inc. | System to reformat images for three-dimensional display using unique spatial encoding and non-planar bisectioning |
| NL8801234A (nl) * | 1988-05-11 | 1989-12-01 | Philips Nv | Werkwijze en inrichting voor het bepalen van spectrumparameters van een aan spectroscopische signalen gerelateerd spectrum. |
| US4933639A (en) * | 1989-02-13 | 1990-06-12 | The Board Of Regents, The University Of Texas System | Axis translator for magnetic resonance imaging |
| EP1158307A1 (en) * | 2000-04-18 | 2001-11-28 | F.Hoffmann-La Roche Ag | Method for increasing the throughput of NMR spectrometers |
| KR100442088B1 (ko) * | 2001-11-08 | 2004-08-02 | 박종현 | 수지용기의 마개접합을 위한 실링체 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4362993A (en) * | 1979-08-10 | 1982-12-07 | Picker International Limited | Imaging systems |
| GB2076541B (en) * | 1980-05-21 | 1984-05-31 | Emi Ltd | Nmr imaging apparatus and methods |
| JPS574541A (en) * | 1980-06-12 | 1982-01-11 | Toshiba Corp | Nuclear magnetic resonance apparatus |
| JPS6051056B2 (ja) * | 1980-06-13 | 1985-11-12 | 株式会社東芝 | 核磁気共鳴装置 |
| JPS576347A (en) * | 1980-06-13 | 1982-01-13 | Toshiba Corp | Nuclear magnetic resonator |
| US4409550A (en) * | 1981-05-15 | 1983-10-11 | President And Fellows Of Harvard College | NMR Sodium images |
| US4443760A (en) * | 1982-07-01 | 1984-04-17 | General Electric Company | Use of phase alternated RF pulses to eliminate effects of spurious free induction decay caused by imperfect 180 degree RF pulses in NMR imaging |
-
1983
- 1983-04-25 US US06/488,415 patent/US4520316A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-04-19 SE SE8402213A patent/SE8402213L/xx not_active Application Discontinuation
- 1984-04-24 IT IT8448090A patent/IT1213278B/it active
- 1984-04-24 KR KR1019840002174A patent/KR870001227B1/ko not_active Expired
- 1984-04-25 IL IL71626A patent/IL71626A0/xx unknown
- 1984-04-25 FR FR8406501A patent/FR2544863A1/fr not_active Withdrawn
- 1984-04-25 GB GB08410588A patent/GB2139765B/en not_active Expired
- 1984-04-25 JP JP59083608A patent/JPS6046448A/ja active Pending
- 1984-04-25 DE DE19843415349 patent/DE3415349A1/de not_active Withdrawn
- 1984-04-25 CA CA000452716A patent/CA1205134A/en not_active Expired
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63192427A (ja) * | 1987-02-04 | 1988-08-09 | 株式会社日立製作所 | Ｎｍｒスペクトロスコピックイメージング装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2544863A1 (fr) | 1984-10-26 |
| IT1213278B (it) | 1989-12-14 |
| CA1205134A (en) | 1986-05-27 |
| US4520316A (en) | 1985-05-28 |
| SE8402213D0 (sv) | 1984-04-19 |
| GB8410588D0 (en) | 1984-05-31 |
| GB2139765B (en) | 1987-10-21 |
| SE8402213L (sv) | 1984-10-26 |
| GB2139765A (en) | 1984-11-14 |
| DE3415349A1 (de) | 1985-01-24 |
| IT8448090A0 (it) | 1984-04-24 |
| KR850000680A (ko) | 1985-02-28 |
| IL71626A0 (en) | 1984-07-31 |
| KR870001227B1 (ko) | 1987-06-22 |
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