JPS6046552A - 画像形成材料 - Google Patents

画像形成材料

Info

Publication number
JPS6046552A
JPS6046552A JP15532083A JP15532083A JPS6046552A JP S6046552 A JPS6046552 A JP S6046552A JP 15532083 A JP15532083 A JP 15532083A JP 15532083 A JP15532083 A JP 15532083A JP S6046552 A JPS6046552 A JP S6046552A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
image
metal
layer
resin layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15532083A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Taguchi
貴雄 田口
Koji Kumagai
熊谷 廣次
Takeo Kodaira
小平 武雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP15532083A priority Critical patent/JPS6046552A/ja
Publication of JPS6046552A publication Critical patent/JPS6046552A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/91Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ることにより像形成可能な画像形成材料に関し、特に製
版用に供し得る画像形成材料に関するものである。
支持体上に、金属系薄層と感光性樹脂層を順次設け、光
パターンを露光し、非画像部の感光性樹脂層を現1象に
より除去し、同時にあるいはその後、露出部の金属系薄
層を腐食除去して像形成することのできる画像形成材料
は数多く発表されている。
特に製版用に供し得るものは、高解像力、高階調という
優れた画像特性の他に、現在一般に使用されている銀塩
を用いたフィルムに比べて、他コスト、銀資源枯渇の回
避、処理の簡便さなどから、特に有用である。
これらの画像形成材料は、二種類に大別することができ
る。一つは感光性樹脂層を有機溶剤で現像するもので、
他方は、アルカリ又は酸のような水溶液で現像するもの
である。前者は、感光性樹脂層を構成する感光性樹脂の
選択性が広く、金属系薄層の腐食液に対する耐性の強い
ものであるが、一方、廃液の処理が困難であること、処
理時間が長くなること、さらに、感光性樹脂層の現像残
液が、金属系薄層腐食の際に画像むらの原因になること
などの、欠点を有し、実際には使用できない。
それに反し後者は、前記のような欠点は解消される。し
かし、水系、すなわち酸またはアルカリ水溶液で現像可
能な感光性樹脂は、一般に強すぎる食の際に、硬化1−
だ感光性樹脂層が腐食液により膨潤したり剥脱したりし
て、画像が劣化することがある。また製版の工程中に「
減力」という作業がある。これは一度形成された網点画
像の一部を修正する作業で、金属系薄層用の腐食液を修
正個所に作用させることに・より行い、金属系薄層が硬
化した感光性樹脂の存在により横方向のみから腐食され
るものである。この作業は、より速い腐食速度が要求さ
れるため、従来、硬化した感光性樹脂層の耐腐食液性と
一食速度の両方を満足する条件を見出すことができなか
った。
これらの画像形成材料はさらに、二分される。
一方は金属系薄層の材料として、アルミニウムまたはア
ルミニウム合金を使用するもので、他方は、それ以外の
化合物を用いるものである。前者は特に、腐食速度が遅
い。この欠点を補うため、特開昭50−139720号
では、アルミニウムにアルミニウムよりイオン化傾向の
小さい金属を含有させることにより、速い腐食速度を得
ようという試みが提案されている。しかしこの効果は充
分でなく若干腐食速度を増すだけで実用に供するもので
はない。また特開昭52−99101号では処理液にM
 (B r Os ) p 、 M m (r On 
) p(Mは1〜3価の金属、m:1,2,3,5、n
:3,4.(S、P:1.2.3)を添加し腐食速度を
向上させるという試みが提案されているが、この効果も
充分でなく、またこれらの添加剤は酸化剤であり、危険
性を有すること、また酸化剤とアルカリ剤の二成分とな
るため、酸化力低下などによる処理液濃度管理に問題が
あった。また、特開昭51−135641号で□は、感
光性樹脂層とアルミニウム薄層の間に、シランカップリ
ング剤層を設け、金属系薄層の腐食中におこる感光性樹
脂層の剥離を防止しようとしている。しかし効果が小さ
いばかりか、シランカップリング剤層の存在により腐食
が遅れるという現象がみられる。特願昭57−2347
96号では、アルミニウムの腐食に、フッ素化合物と酸
化銅と硝酸の混合物を用いて、充分な腐食速度を得てい
るが、フッ素化合物などの毒性が、作業環境上好ましく
ない。
一方、金属系薄層にアルミニウム、またはアルミニウム
化合物以外の化合物を用いるものには、特公昭57〜2
9694号のようにセレン、テルル、モリブデンなどを
用いたものがあるが、これらは、テルルなとカルコゲナ
イドの腐食廃液の毒性が問題であるばかりか、腐食液の
次亜塩素酸塩も、爆発性があり作業上問題であった。
以上のように、支持体上に、金属系薄層と感光性樹脂層
を順設した画像形成材料において、硬化した感光性樹脂
層が膨潤あるいは溶解しないような弱い酸あるいはアル
カリに迅速に溶解し、しかも腐食形状が均一でなめらか
であり、さらに腐食廃液や処理液に毒性や危険性のない
ものは、現在のところない。
本発明者等は、これらの欠点に鑑み、支持体上に金属系
薄層と感光性樹脂層を順設してなる画像形成材料の構成
要素、すなわち支持体層、金属系薄層、感光性樹脂層の
うち、金属系薄層について検討を行い、画像形成処理時
間が短かく、現像、減力時における感光性樹脂層の剥離
がない、等の優れた特性を有する画像形成材料を見出し
、本発明を完成した。
すなわち本発明は、支持体上に金属系薄層と感光性樹脂
層を順設してなり、画像露光後、感光性樹脂層を酸性あ
るいはアルカリ性処理液で現像し、その後あるいは同時
に非画像部の金属系薄層を酸性あるいはアルカリ性処理
液で腐食することにより像形成可能な画像形成材料にお
いて金属系薄層がアモルファス金属であることを特徴と
する画像形成材料である。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明の適用されうる金属系画像形成材料の構成は、+
11支持体層、(2)アルカリまたは酸性溶液軒高の金
属系薄層、13)アルカリ、または酸性現像可能の感光
性樹脂層の少くとも3層を順次積層してなるものである
支持体としては、透明で可とう性のあるフィルムが好ま
しく、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、
ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリカーボネート、酢酸セルロースなどが使用できる。
アルカリまたは酸性溶液可溶の金属系薄層はアモルファ
ス金属から成る。アモルファス金属としては、テモルフ
ァス薄層形成可能のものが使用できる0 アモルファス金属とは、結晶構造をもたない金属で、一
般には、液体急冷法、スパッタリング法。
いる。また結晶性がないため、結晶質に基づく構造上の
欠陥、すなわち結晶粒界、転位、積層欠陥などがな(、
化学的には非常に均一な性質をもっている。腐食に関し
て言えば、結晶質金属では表面に化学的に不均一な場所
があり、局部的に腐食が進行してしまう性質があるが、
アモルファス金属では、均質−相に構成元素が混ざり合
っている固溶体のため、腐食液に接する金属は均一に腐
食される。一方、アモルファス金属は、その組成を調節
することにより腐食速度を大幅に変えることができる。
つまり、ある組成では、極めて高い耐食性を示し、また
ある組成では、結晶性金属よりも非常に速い腐食速度を
示すのである。本発明はアモルファス金属のもつこの均
一性と高腐食性を用いるもので、弱い酸あるいはアルカ
リで、迅速に均一な腐食を可能にするものである。
アモルファス金属は大別して、金属−金属型と金属−半
金属型があり、特に金属−半金属型で、金属が一成分で
あるものが、腐食速度が高(好ましい。金属 金属型が
形成されうる成分としては。
B e 、 M f 、 A#、Ca 、Ti 、V、
Fe、Co、Ni 、Cu。
Z n + ’G a 、 S r + Y + Z 
r + N b r Rh 、 P d + A P 
+ S b HHf ITa、R,e、ir、Pi、A
、u、、Pb、La、Ce、Pr、Nd。
Sn 、Eu 、Gd 、Tb 、Dy、Ho、Er 
、Lu、Th、Uが例示され、金に一半金属型が形成さ
れうる成分としては]”(、C,Ae、Si 、P、T
i 、V、Cr、Mn、Fe。
Co、Ni 、Cu、Ge、A、s、Zr、Nb、Mo
、R,h、Pd。
A、P、Sn、Te、Hf、Ta、W、Ir、Pt、A
u、’l。
Laが例示される。半金属元素としてはSi、B。
C,P が例示され、Co−P、N1−P、N1−B、
Fe−P 、 N i −8i −B 、 N i −
Ah−B 、 Ee −P−C、Fe −P−8i 、
 Fe−P−C、Fe−B−8i 、 Fe −A#−
B、 C。
−A#−B 、 Co −8i −B 、 Fe −B
 、A/i?−Ca などが特に好ましい。金属系薄層
の作製には、真空蒸着法、スパッタリング法、めっき法
、気相化学反応法(、CVD法)液体急冷法が使用でき
るが、ある面積に均一に設置しなければならないこと、
支持体が樹脂であり、あまり高温にできないことから。
真空蒸着法、スパッタリング法、気相化学反応法が最も
好ましい。層厚は薄すぎると遮光性が不足し画像部と弁
面1象部の濃度差が小さくなり、厚すぎるとエツチング
に時間がかがり処理時間が長くなる。また支持体との接
着性を向上させるため、金属系薄層を設ける前に、支持
体に対し、プラズマ処理、火災処理を施したり、下引き
層を設けることもできる。
一方、感光性樹脂Ql構成する感光性樹脂は、アルカリ
現像または、酸現像の可能なものならばなんでもよい。
一般に知られているジアゾ系、ジアジド系、シンナモイ
ル系、アクリロイル系の感光性樹脂が用いられる。まず
アルカリ現像の可能なものをあげれば、ジアゾ系として
はキノンジアジド類とノボラック樹脂を組み合わせた系
が、ジアジド系としては1部分けん化ポリ酢酸ビニルを
無水アジドフタル酸でエステル化させたポリマーや、ポ
リビニルアルコールなP−アジドベンズアルデヒドとフ
ェノール性水酸基をもつアルデヒド類でアセタール化さ
せたものなどが例示される。
またシンナモイル系としては、ポリビニルアルコ−ルの
ケイ皮酸二塩基酸混合エステルや、スナレンー無水マレ
イン酸共重合体のケイ皮酸エステルなどが例示される。
またアクリロイル系としては。
(1)ペンタエリスリトールトリアクリレートのヨウな
フリーラジカルで連鎖重合するエチレン系不飽和化合物
と(2)スチレン−マレイン酸共重合体のような、アル
カリ可溶の高分子結合剤と(3)ペンゾフェノンーミヒ
ラーズケトンや、ジメチルアミノアセトフェノンのよう
なフリーラジカル発生剤を混合した系が例示される。次
に酸現像の可能なものとしては、アクリロイル系である
、T’+ 1ペンタエリスリトールトリアクリレートの
ようなフリーラジカルで連鎖重合するエチレン系不飽和
化合物と(2)2−メチル−2−(N、N−ジメチルア
ミノ)メチル−1,6−ブロパンジオールーテルフタル
酸共重合体のような4級化できる塩基性窒素を含有する
高分子物質、(31ペンゾフエノンーミヒラーズケトン
のようなフリーラジカル発生剤を混合した系が例示され
る。
以上のような構成の金属系画像形成材料を用いる画像形
成方法は、まず(1)金属系画像形成材料の感光面と透
過型原稿を密着し、(2)原稿側から光照射する。そし
て(3)アルカリ性または酸性水溶液により感光性樹脂
層の溶解性部を溶解し、同時にあるいはその後、露出し
た部分の金属系薄層を腐食し金属画像を得る。そして最
後に(4)水洗、乾燥する。また形成された画像が網点
画像であり、修正を要する場合、(5)アルカリまたは
酸水溶液である減力液に浸漬するか、筆あるいはスポイ
トなどで減力液を修正部に接触させることにより、金属
系薄層を横方向に腐食して網点面積を減少させ、しかる
後(6)水洗、乾燥する。
該画1象形成材料の現像および/または網点減力に用い
る処理液は、単純な酸またはアルカリの水溶液が使用す
ることができる。酸としては、塩酸。
硝酸、硫酸、りん酸などの鉱酸、および弱塩基どの塩が
例示され、またアルカリとしては、カリウム、ナトリウ
ム、ルビジウム、セシウム、カルシウム、マグネシウム
、バリウドの水酸化物、炭酸塩、りん酸塩、はう酸塩な
どが例示される。
更に感光性樹脂層の現隊性、あるいは減力速度な向上さ
せるために、硬化した感光性樹脂を溶解しないが、膨潤
させる溶剤を添加することができる。適用される溶剤と
しては、炭素数1〜5のノルマルまたはイソのアルコー
ル類またはエチレングリコールの炭素数1〜4のモノあ
るいはジエステルなどのセロソルブ便が好ましい。
以上かかる画像形成材料を用いて、画像形成な行うと、
金属系薄層の腐食がきわめて速いために。
処理時間が大幅に短縮される。また、単純な酸あるいは
アルカリの水溶液が使用できるために、作業環境が改善
され、廃液による環境汚染の心配から開放され、また処
理液の能力劣下に対する管理が容易になる。酸またはア
ルカリの強度が比較的弱い第件で、金属系薄層が溶解す
るため、現1象における金属系薄層の腐食中に、感光性
樹脂層が。
侵食され膜剥れするという現1象もな(なり、減力にお
いてもあまり強くない処理液でも、速(・腐食速度が得
られるため、感光性樹脂層の剥膜なしに迅速に減力な行
うことができる。またアモルファス金属の構造的均一性
からどのような種類の酸あるいはアルカリ性液でも腐食
が均一に行われるため、゛網点の「むら」 「がさつき
」のない良好な画@な得ることができる。
この発明を以下に実施例を用いてさらに詳細に説明する
〔実施例1〕 100μ厚ノポリエチレンテレフタレートフイルム上に
RF−スパッタリングによ リs ”65Bs5に01
μ設置した。続いて表置に示す組成の感光液な調製した
この感光液すNl65B35層上にバーコーターにより
、乾燥膜厚で1.5μ塗布した。続いて、感光性樹脂層
上に更にけん化度88%1重合度500ののPVAの5
 wt%水溶液なバーコーターにより乾燥膜厚で約2μ
塗布した。このようにして得られた感光性フィルムの感
光膜面と、150線/インチの網点画1象な有するフィ
ルムの両縁膜面を密着し。
m 隊1flllから、オーク社ジェットライト6kW
(超光圧水釧灯)で露光した。この感光性フィルムな0
.25 wt%KOH水溶液を50Cに保ったバットに
浸漬し、軽くスポンジでこすった。感光性樹脂め未露光
部が溶解すると同時に、露光したNl65B35層が溶
解し良好な画像が形成された。処理に要した時間は約1
5秒であった。
〔実施例2〕 実施例1で得られた画像k HCl 1 wt%水溶液
20Cに浸?Nした。30秒後とり出し、乾燥後網点面
積な、東洋インキ製造社ビーーバンクにより測定した。
その結果、浸漬前52.5%であった部分が(40,7
%に減力されていた。また100倍の顕微鏡で観察した
ところ、エツジがシャープで、「がさつき」や「むら」
のない良好な画像であった。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1) 支持体上に金属系薄層と感光性樹脂層を順設し
    てなり、画像露光後、感光性樹脂層を一酸性あアルカリ
    性処理液で腐食することにより所望の金属系画像を支持
    体上に形成可能な画像形成材料において、金属系薄層が
    アモルファス金属からなることを特徴とする画像形成材
    料。 (2+ アモルファス金属が、Co−P、 N i −
    P、 N i−B、 Fe −P、 N i −8i 
    −B、 N i−A、、eB、 F e−P −C,F
     e−P−8i、 P e −P −C,F e −B
    −8i、 F e −A、、e−B、 Co −AJ3
    −13、Co−8i −B、 F e−B%A−6−C
    aであることを特徴とする特許請求範囲第1項記載の画
    像形成材料。 (3) アモルファス金属が、真空蒸着法、スパッタリ
    ング法、あるいは気相化学反応法によって形成されたこ
    とを特徴とする特許請求範囲第1項記載の画像形成材料
JP15532083A 1983-08-25 1983-08-25 画像形成材料 Pending JPS6046552A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15532083A JPS6046552A (ja) 1983-08-25 1983-08-25 画像形成材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15532083A JPS6046552A (ja) 1983-08-25 1983-08-25 画像形成材料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6046552A true JPS6046552A (ja) 1985-03-13

Family

ID=15603308

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15532083A Pending JPS6046552A (ja) 1983-08-25 1983-08-25 画像形成材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6046552A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0450845A (ja) * 1990-06-14 1992-02-19 Toyo Ink Mfg Co Ltd レリーフ樹脂印刷版
WO2009041916A1 (en) * 2007-09-28 2009-04-02 Agency For Science, Technology And Research A method of generating a pattern on a substrate

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0450845A (ja) * 1990-06-14 1992-02-19 Toyo Ink Mfg Co Ltd レリーフ樹脂印刷版
WO2009041916A1 (en) * 2007-09-28 2009-04-02 Agency For Science, Technology And Research A method of generating a pattern on a substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4008084A (en) Metallic image forming material
EP1097405B1 (en) Composition for stripping photoresist and organic materials from substrate surfaces
US4069076A (en) Liquid lamination process
US4080246A (en) Novel etching composition and method for using same
US5964951A (en) Rinsing solution
HK76585A (en) Positive-working radiation-sensitive composition
JPH05221178A (ja) 平版印刷版の製造方法およびその方法により製造された平版印刷版
SE423003B (sv) Desensibiliseringslosning och anvendning derav for att behandla en framkallad, ljuskenslig diazotryckplat
US4504571A (en) Method of peel development
EP0043084B1 (de) Flexible, laminierbare lichtempfindliche Schicht
JPH01128062A (ja) 網状化低抗性フォトレジスト被覆
JPS60158442A (ja) ポジ型フオトレジスト用現像剤
IL33863A (en) Light sensitive compositions
US3958994A (en) Photosensitive diazo steel lithoplate structure
US4094679A (en) Process for reducing halftone dot images
JPS5850342B2 (ja) キンゾクガゾウケイセイザイリヨウ
US4808513A (en) Method of developing a high contrast, positive photoresist using a developer containing alkanolamine
JPS6046552A (ja) 画像形成材料
US4259369A (en) Image hardening process
JPS62181191A (ja) 平版印刷原版の製造方法
EP0345305A1 (en) Image-reversible dry-film photoresists
US4980271A (en) Developer compositions for lithographic printing plates with benzyl alcohol, potassium toluene sulfonate and sodium (xylene or cumene) sulfonate
US5094934A (en) Method of developing a high contrast, positive photoresist using a developer containing alkanolamine
US3064562A (en) Acrylic acid monomer coatings for metal bases
US5066568A (en) Method of developing negative working photographic elements