JPS6047478A - ジヨセフソン接合素子 - Google Patents

ジヨセフソン接合素子

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Publication number
JPS6047478A
JPS6047478A JP58154844A JP15484483A JPS6047478A JP S6047478 A JPS6047478 A JP S6047478A JP 58154844 A JP58154844 A JP 58154844A JP 15484483 A JP15484483 A JP 15484483A JP S6047478 A JPS6047478 A JP S6047478A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
josephson junction
nitride
junction element
tunnel barrier
barrier layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP58154844A
Other languages
English (en)
Inventor
Juichi Nishino
西野 寿一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、論理回路あるいは記憶回路を構成するスイッ
チング素子などに用いられるジョセフソン接合素子の構
造に関するものである。
〔発明の背景〕
ジョセフソン接合素子のトンネル障壁層の材料としては
、これまで超′亀尋電極の材料自材の酸化Wahるいは
アモルファスsi、ht等の酸化物が用いられてきた3
、特に超電導亀惚の材料がNbである場合、°Nbの酸
化物、アモルファスSiやAAの酸化物をトンネル障壁
層とする素子は、トンネル障壁層中の酸素がNb中へ拡
散してNbの酸化物を形成するため、ジョセフソン嵌合
素子の特性が変化するという欠点がめった。
従来、ジョセフソン接合素子の2つの超T(l導′電極
間の絶縁層用材料としては、SiO又は8 ichなど
のシリコンの酸化物が用いられていた。従って絶縁層中
の酸素の影響で3ジョセフソン接合素子の特性が変化す
るために、再現性と均一性の良い特性をMするジョセフ
ソン接合素子を作線することが離しいという欠点があっ
た。
〔発明の目的〕
本発明の目的は絶縁物およびトンネル障壁層の材料に酸
化物を用いないことによシ、ジョセフソン接合の特性変
化を除去し、再現性と均一性の良い特性を有するジョセ
フソン接合素子を提供することにある。
〔発明の概袂〕
本発明においては、トンネル障壁層および絶縁物層の材
料として、電気的な絶縁性が良く、シかも防電率がN 
b 20 sに比べて小さいAAの窒化物を用いること
によシ、酸素の拡散によるジョセフソン接合素子の特性
変化を防止し、しかも素子の電気Wiを減少させること
によってスイッチング速高を向上させて、再現性及び均
一性に渡れた特性を有し、しかも高速動作に適したジョ
セフソン接合素子の作製を可能にした点に特徴がある。
〔発明の実施例〕
以下、本発明を実施例を参照して詳細に説明する。M1
図に示したように温度1100cで純酸素によシ熱酸化
し7’cSi基板1上に第1の超電導電極の材料である
Nbを約3QQnmの厚さに高周波スパッタリング法に
よって成膜する。このNb膜をホトレジストをマスクと
したArイオンビームエツチング法によって加工し第1
の超電導電極2とする。次にAtの窒化物を反応性高周
波スパッタリング法によって約400nmO薄J漠とし
て形成し、これを同様にArイオンビームエツチングに
よって加工し絶縁物層3とする。下部′1極2の底面を
Arイオンのスパッタリングによってクリーニングした
後、P3縁物層3と同様の手j胆でAAの窒化物?厚さ
約1〜10nmの薄膜として成膜しトンネル障壁層4と
する。続いて真空を破ることなく同゛−の装置でNbよ
9成る厚さ約600nmの薄膜を形成しArイオンビー
ムエツチング法によって加工し上部電極5とした。以上
によって本発明のジョセフソン接合素子を作製すること
ができた。このジョセフソン接合素子を用いて論理回路
あるいは記憶回路を作製したところ、素子の特性変化が
ほとんど無く、シかもスイッチング速度が向上している
ため、歩留υ、信頼性を向上させ、さらに回路の動作速
度を改善して、超高速のジョセフノン集積回路を実現す
ることができた。
なお、本実施例では、2つの超電導電極の材料としてN
bを用いたが、Pbあるいはpb金合金さらにNbN等
を用いた場合でも同様の改善を得ることかできた。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、トンネル障壁層の材
料として、熱的に安定で、しかも酸素の拡散源とならな
いAAO鷺化物を用いるので、熱サイクルや経時変化に
よる劣化が少なく、かつ電流電圧特性の再現性と均一性
を向上させ、しかもスイッチング速度を改善できるとい
う効果がある。
【図面の簡単な説明】
1・・・Si基板、2・・・下部電極、3・・・絶縁物
層、4第 1 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、超電導体よ構成る第1および第2の超電導電極がト
    ンネル障壁j―を介して結合された構成を有スルジョセ
    フソン接合素子において、該トンネル障壁層はA4の窒
    化物を用いて成ることを特徴とするジョセフソン接合素
    子。 2、特許請求の範囲第1項に記載のジョセフソン接合素
    子において、前記第1および第2の超電導電極を電気的
    に絶縁する目的で使用される絶縁膜の材料はAtの窒化
    物を用いて成ることを特徴とするジョセフソン接合素子
    。−
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63209185A (ja) * 1987-02-26 1988-08-30 Agency Of Ind Science & Technol 超電導回路装置
JPS63245975A (ja) * 1987-04-01 1988-10-13 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 超電導体装置
JPS63261769A (ja) * 1987-04-18 1988-10-28 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 酸化物超電導材料の作製方法
JPS63261771A (ja) * 1987-04-18 1988-10-28 Semiconductor Energy Lab Co Ltd ジヨセフソン型装置の作製方法
JPS63261770A (ja) * 1987-04-18 1988-10-28 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 酸化物超電導材料の作製方法
US10542667B2 (en) 2017-01-02 2020-01-28 Lg Electronics Inc. Lawn mower robot

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