JPS6048045B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPS6048045B2
JPS6048045B2 JP9850576A JP9850576A JPS6048045B2 JP S6048045 B2 JPS6048045 B2 JP S6048045B2 JP 9850576 A JP9850576 A JP 9850576A JP 9850576 A JP9850576 A JP 9850576A JP S6048045 B2 JPS6048045 B2 JP S6048045B2
Authority
JP
Japan
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thin film
magnetic
recording medium
magnetic recording
base material
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Expired
Application number
JP9850576A
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English (en)
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JPS5323608A (en
Inventor
紘一 篠原
敏明 国枝
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、磁気記録媒体の改良に関するものて、特に高
保磁力の磁気記録媒体の提供を目的とするものである。
従来、メッキ、蒸着等により、得られる磁性金属または
その合金を薄膜化したタイプの検討がなされているが、
実用的にみるといまだに不満足である。しかし、高密度
記録の要請にこたえうる方向として有望視され、重要な
要素である高い保磁力を持つた磁気記録媒体の開発が待
たれている。本発明は、このような現状に鑑み、金属ま
たは合金またはそれらに目的に応じて添加元素を配合し
た強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体にあ
つて、高い保磁力を有する磁気記録媒体の提供を目的と
する。第1図にその基本構成の一例を示し、第4図に本
発明の磁気記録媒体の製造に有用な装置の一例を示す。
本発明は、第1図に示すように、高分子成形物を基材1
とし磁性金属薄膜2とその基材1の間に非磁性体層を設
ける場合、この非磁性薄膜を2種類の相異なる物質3、
4からなる複合層で形成するもので、また磁性金属薄膜
2を多層構造体とする場合は、各磁性金属薄膜間に設け
た非磁性薄膜を前記複合層で形成するものである。
この場合、第2図に示すように基材1と磁性金属薄膜2
の間にさらに非磁性薄膜としての複合層3、4を形成し
てもよく、第3図に示すように磁性金属薄膜2と磁性金
属薄膜2の間にのみ非磁性薄膜としての複合層3、4を
形成してもよい。
しかも、この複合層3、4は上層4が下層3より結晶化
の進んだ層である方が望ましい。この条件を満たす構成
は、第1非磁性薄膜3をAl、Au、Ag、Sb、In
より選ばれた材料で形成し、第2非磁性薄膜4をSiに
より形成した場合、または第1非磁性薄膜3をAgて形
成し、第2非磁性薄膜4をZnで形成した場合に得られ
る。これらは共晶点が下がることにより、結晶化が低い
基板温度でも進むために起るもので、この結晶化の進ん
だ基J板を用いることで、高い保磁力が得られるもので
、その効果は下記の実施例にみられるように顕著である
。次に第4図に本発明の構成の磁気記録媒体の製造装置
の一例を示す。
真空槽5を例えば3室6、、7、8に分離し必要に応じ
てそれぞれ真空排気装置(図示せず)で各室6、7、8
を真空状態に保持する。原反9より巻き取りローラ10
へローラ11を用いて基材1搬送することで、基材1上
へ蒸発源12により非磁性薄膜となる複合層の第1非磁
性薄膜3を形成し、次に蒸発源13にて複合層の第2非
磁性薄膜4を形成し、最後に蒸発源14により磁性金属
薄膜2を形成する。必要に応じて保護層、または磁性金
属薄膜の多層化は類似の構成にて製造される。15は防
着板であり、16,17,18は蒸発源12,13,1
4に用いられる加熱電源であり、19は絶縁導入端子で
ある。
蒸発源の種類、真空状態等については最適系を選択する
ことて本発明の効果を更に拡大し得るものであるが、特
に限定されるものではない。次に本発明の具体的実施例
について説明する。本発明A基材:ポリエチレンテレフ
タレート10p非磁性薄膜:第1層Au2OOA 第2層SI3OOA 磁性金属薄膜:CO3OOOA 本発明B 基材:ポリエチレンテレフタレート10μ非磁性薄膜:
第1層Ae2OO入 第2層Sl3OOA 磁性金属薄膜:Fe3OOOA 従来例C 基材:ポリエチレンテレフタレート10μ非磁性薄膜:
第1層Si3OOA 磁性金属薄膜:CO3OOOA 従来例D 基材:ポリエチレンテレフタレート10μ非磁性薄膜:
Sl5OOA 磁性金属薄膜:Fe3OOOA 上記各例の保磁力(エルステッド)を測定したところ、
次表のようであつた。
上表からも明らかなように、本発明により、高密度記録
に必要な高保磁力の磁気記録媒体が得られることになり
、情報産業はじめ電子工業界における有価値性は極めて
大なるものがある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による磁気記録媒体の一実施例の断面図
、第2図、第3図はそれぞれ同他の実施例の断面図、第
4図は同磁気記録媒体の製造装置の一例を示す断面正面
図である。 1・・・・・・基材、2・・・・・・磁性金属薄膜、3
,4・・・・非磁性薄膜。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 高分子成形物よりなる基材と、この基材上に形成さ
    れAl、Au、Ag、Sb、Inの群より選ばれた材料
    より第1非磁性薄膜と、この第1非磁性薄膜上に形成さ
    れたSiよりなる第2非磁性薄膜と、この第2非磁性薄
    膜上に磁性金属薄膜を形成してなる磁気記録媒体。
JP9850576A 1976-08-17 1976-08-17 磁気記録媒体 Expired JPS6048045B2 (ja)

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JP9850576A JPS6048045B2 (ja) 1976-08-17 1976-08-17 磁気記録媒体

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JPS5323608A JPS5323608A (en) 1978-03-04
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54145505A (en) * 1978-05-04 1979-11-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd Magnetic recording medium
JPS56124118A (en) * 1980-03-06 1981-09-29 Nec Corp Magnetic recording material
JPS58176224U (ja) * 1982-05-18 1983-11-25 大日本印刷株式会社 磁気記録媒体
JPS59142744A (ja) * 1983-02-02 1984-08-16 Nec Corp 磁気記憶体
JPS59173130U (ja) * 1983-04-30 1984-11-19 大日本印刷株式会社 磁気記録媒体

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JPS5323608A (en) 1978-03-04

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