JPS60500106A

JPS60500106A - アクリルオ−バコ−トを備えた光学記録用のコ−トされた媒体

Info

Publication number: JPS60500106A
Application number: JP59500555A
Authority: JP
Inventors: メイア，トーマス; ボーリング，ノーマン・エル; ランコート，ジエームズ・デイー
Original assignee: バロ−ス・コ−ポレ−ション
Priority date: 1982-12-17
Filing date: 1983-12-16
Publication date: 1985-01-24
Also published as: EP0128218A4; US4584259A; EP0128218A1; WO1984002395A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

アクリルオーバコートを備えた光学記録用のコー１へされた媒体本発明は新規な高密度情報記憶媒体に関し、特に光学データ記録に適する記録層を含む媒体であって記録の特性を高めるだめのコーティングと保護オーバコート手段を有するものに関する。発明の背景ディジタルデータの光学ストレージは比較的新しい技術であって、特ＦＡな（ＯＤＤ、”光学ディジタルデータ″）媒体たとえばＯＤＤディスクを用いかつ光学技術を利用するディジタル情報の記憶と再生に関する技術である。類似のものとして、従来、そのようなデータは今日の高速ディジタル］ンピュータにおいて一般に用いられているテープまたはディスクのような磁気媒体にストアされている。ここで述べられているのはディジタルデータのための感度の良い光学記録媒体を作成する試みであって、その媒体は酸化または環境による劣化に耐えるものであって、また感度が改善されかつ寿命を延長することができ、ざらに現在のものよりも製造の手間が簡略化されるものである。そのような媒体のための種々のタイプの保護オーバコーティングが、特に“調整された媒体″に関して技術音速によって提案されてきた（たとえば、゛ダークミラー″効果を用いる媒体；たとえば、３ｅｌ１等の米国特許第４，２２２．０７１号；ｚ’ｅｃｈによる光学記憶媒体のレビューである゛光学情報ストレージ” 、５ＰＪＥ　“＼１０：１，１７７．１９７９、、ｐ、５６以下；　Ｆ３　ａ、ｒｔｏｉ　ｉｎｊによる光学記録媒体のレビューである゛光学記憶材料と方法” 　、　Ｓ　Ｐ　Ｊ、Ｅ　Ｖｏｌｌ−１２３、１９７７（＋）、２以下；　ＣｏｃＭａｎとＦ　ｅｒｒｉｅ；ｒによる″リアルタイム高密度データストレージのための金属フィルム中の溶融孔”　、　ＳＰ　ＩＥ　Ｐｒｏｃｅｅｄｊｎｇｓ４Ａｕｇｕｓｔ　１９７７、　ｐ、、１７〜３２：および後述の仙の引例を参照）。長期の記録保存寿命：光学データ記憶技術は魅力的である。なビならばそれは大きな記憶容量の可能性があるからである。ここで考慮されるような光学データディスクは長期の保存か命にわたって情報をストアすることがめられ、その目標はデータ処理（ＤＰ）装置に関する典型的なあるいは最も厳しい動作条件において５〜１０年また（Ｊそれ以上である。技術音速はそれを目指して長い間努力してきたか、そのような長期の寿ω（ユ当該技術分野において未だ達成されてい−ない目標である。本発明はそのような保存寿命により適した改良されたＯＤＤ媒体を目指しており、すなわら特に゛光学マス（質量）メモリ″やそのような応用に適した媒体であって、改善されたオーバコートおよび／またはスペーサ手段に重点が置かれている。したがってここでの特徴として、我々は好ましい長期の記録保存寿命を示すレコードのために新規なスペーυおよび７才たはオーバコートの構造と材料の利用を意図している。すなわら、そのレコードは典型的なりＰス１〜レージと使用の間の酸化または環境による劣化に対して高い抵抗を示すものである。したがって、長期の保存寿命にわたって記録された情報の“ロス″はほとんどまたは全くなくて″゛読出パするのに十分安定な反射能を備えている。そのような実際的な記憶媒体またはそれに関連するシステムは未だ提供され得ず、特に゛良好な″感度もめられる場合は尚更である。本発明はこの目標を目指す手段を示すものである。新規な゛′スペーサ層″：さらにここでの顕著な態様によれば、スペーサ層（たとえば、そのような゛ダークミラー″構造において）は好ましくは反射体層上に蒸着される″軟質パッド° ′を含み、その上には次に吸収体く記録）層が重ねられる。このスペーサ層はそのように析出されたフルオロポリマーからなっており、それは意図された続出書込波長に対して透過性が高く、また反射体層から吸収体層を隔離することによって良好な熱的かつ機械的絶縁を提供するくさもなくば、通常その反射体は高伝導性金属であるので、それはヒートシンクとして作用して記録エネルギを吸収体層から漏逸させ、その効率を減する）。し′たがって、以後にさらに述べられるように、−例として我々はポリテトラフルオロエチレン（ＰＴ’ＦＥ）またはフッ化□エチレンプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）のような真空蒸着されたフルオロポリマーを好む。そのようなスペーサとして硬質シリケートコーティング〈酸化シリコンまたは二酸化シリコン；゛溶融シリカ″参照）を指定することはどちらかといえば従来技術・に属する（たとえば、Ｂｅ１１等の米国特許第４．１９５，３１２号または第４，１９５，３１３号あるいは第４，２１６，５０１号を参照）。しかしながら、そのような材料はここで設定された熱的か゛つ機械的目的のすべてを満足することはできない。その１つとして、そのようなシリケートコーティングは容易に熱を伝えすぎる。たとえば、パ低エネルギ″記録パルス（約４０ナノ秒の中位から低位の出力）は、単一の１／４波長光学厚さのｓ；　０２がＡＡ反射体上に用いられるとき、記録することが困難である。この非常に薄いスペーサ層は、明らかに記録のための熱をあまりに多く散逸させてａ費さぜる。これを防ぐために、より分厚いスペーサ層を用いることももちろん可能であるが、分厚い５ｉ０２層は製造プロセスを複雑化して品位を下げる。それは特にその層が一般に吸収体を拘束して感度を下げるからであり、また低い反射能を得るバンド幅を・狭めるからである（　Ｊ　、ＲａｎｃＯｕｒｔによる″テルルの光学データディスクの設計と作成”、　３　ｐ　、Ｉ　Ｅ　Ｐ　ｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ　；　Ｌ／−ザスキｖン技術における進歩、’　Ｖｏｌ、２９９．１・（ｌＪ８１　、　ｐ、、５７参照）。さらに、・もし数個のよく分離された続出／書込（Ｒ／Ｗ）波長が用・いられるならば、必要な波長のパ最小値″に精密に設定するためにざらに“厚さ″制御がめられるので、スペーサの作成はさらに複雑となる（光のエネルギを゛３重層″ の吸収層と効率的に結合させてビット位置の反射能を増大さゼることによって゛書込″することがめられ、意図されたＲ／Ｗ波長において比較的低い反射能の書込まれ・ていないバックグラウンドがめられることに注目）、。逆に、この教示を利用する単一の“軟質バラドパ（たとえば、フルオロポリマー）スペーサは感度に対してけとんど影響せず、またそれは単一の１／４波長であるので広い反Ｉ３１率最小値（λ）を与え、したがって同時に多くのＲ、、／　Ｗ波長において機能することができる。この開示の１つの態様はそのような゛″軟軟質バッドススペーサ材料調製と使用を教示するとともに関連する析出方法を示すことであり、それは特にそのようなｏＤディスクな適するものである。より特定的に言えば、それは一般に坦在のレーザ装置を用いる低エネルギ記録のために便利なものである（たとえば、５〜２０＋ｎＷ／４０ｎ　、　ｓｅｃパルスのＨｅ　”−Ｎｅレーザによる書込：　２５　Ｍ　Ｈ２級参照）。オーバコートニ一般：そのように記録されたスポット（“ビット″）は直径で約１ミクロンになるように意図されている。しかし、表面のパ汚れ″（たとえば、油や指紋）または空中からの埃のような粒子状の汚染物はこの大きさまたはそれより大きく、したがって記録された″ピッｌ〜パの障害となり得る。たとえば、通常の煙の粒子は約６ミフロンバ６μｍ、ま、たは約２４０マイクロインチ）の直径である。したがって、もし１つまた↓ま数個のそのような汚染粒子がちょうどオーバコート上に載っていれば、そ、れらの粒子は一般に″マスク″として働いて記録されたパビット″（データ）を消してしまう。したがって、そのような汚染粒子やすべての汚れ、汚点。または染をデフォーカスするために、従来、分厚いオーバコーティング層が用いられていた。たとえば、１．　Ｏ０〜１８０ミクロン厚さのオーダの透明なオーバコーティングが施されていた。したがって、そのよやな保護層の表面上に載っている（拭き取られていない）いずれの埃粒子も“デフォーカス″される。すなわち、それらの埃は記録されたデータを検知するために用いられる対物レンズの焦点範囲や光学的照準位置から外されて光学的に″消失′°する。第２の目的として、そのようなオーバコートは記録層のために機械的な保護を与えかつ取扱いくたとえば、製造中、テスト中、または使用中）などにおける損傷を防がなければならない。ところで、ある場合には技術音速は透光性保護オーバコートとして比較的“硬質 ″の材料全提案してきたが、他の場合には゛軟質″の材料を提示してきた。たとえば、あるものはエラストーマの外部］−トを提示したＣＧＥ社によル”　３１ｌａｓｔｉｃ　ＲＴ　Ｖ　”のようなシリコーンラバー参照：Ｂｅ１１等の米国特許第４，１０１．’９０７号を見よ：それによれば成る有機染料のような′拭き取られ得る′″吸収体は５ｒｏ２の″゛障壁層″でオーバコートされ、またはナツ力ローズ（蔗糖）または樹脂酸の誘導体の障壁層でオーバコートされて、これはそのようなシリコーン樹脂でスーパコート（重ねコート）される）。しかし、軟質で弾力的な（ゴムのような）材料の周知のオーバコーティングは゛′粘着性″の露出表面を示す特色があり、それは容易に埃を吸着して保持する。また成る例においては、そのような゛′エラストメトリック（弾力的な）″コーティングはなおその下層の吸収体をパ拘束′°するようである。さらに、エラスｔ・− マは高すぎる硬化温度を必要とするものがあり、あるいはそれらがもし室温で硬化する場合には長ずきる時間がかかるであろうし、″早期硬化′のために加熱されるときそれらはその３重層に過熱という重大な危険を与える（ＲＴＶのようなシリコーンエラストーマは、これらのすべての欠点を示すとともに硬化応力や使用中に多すぎる湿気の吸収を伴なう）。一方、他の技術音速は吸収層上に直接重ねられるパ硬質”の外部゛封止パオーバコートを考えたくたとえば、Ｂ　ａｒｔ。１；ｎｌ等による′″光学ディスクシステムの出現”、ＩＥＥＥＳｐｅｃｔｒｕｍ　、　Ａｕｇｕｓｔ　１９７８を参照；それによれば″゛３重層″構造においてＳｉｏ２はチタンの吸収体の上下に施されている）。しかし、彼等はそのような硬質のオーバコートがその他の点では受入れ得る記録媒体を実質的に″゛記録不能″のものとしてしまう点まで記録感度を劣化させるようである（おそらくそのオーバコートが変形せずに吸収体を押え付けて拘束するからである）ことを認めざるを得なかった。また、５ｉ０２のような硬質の外部コーティングは長期間使用するにはあまりに吸収性である（たとえば、水蒸気の吸収）。゛硬質／軟質″オーバコート：したがって、この開示のもう１つの態様は前述の欠点のほとんどまたはすべてを除去するオーバコーティングを提供することである。それは“軟質パッド″の内側の層とパ硬質″の外側封止層からなる２部のオーバコーティングを提供することによって行なわれ、すなわち“硬質／軟質″オーバコートを備える。軟質の° 内層パッドは゛柔らかなりッション″として変形しやすくかつ圧縮されやすいものに意図されており、それは隣接する吸収体が書込加熱の間に変形したり移動したりできるようにし、同時にまた良好な熱絶縁を提供する（非常に低い熱伝導性：比較的低い比熱）。簡単に言えば、この゛軟質パ；ノド″は機械的熱的によりよく吸収体を隔離し、一方、゛硬質″外層コートは最適な機械的保護を与える（たとえば、蒸気の侵入に対するシール）。もちろん、そのような層はよく接合するものでなければならず、また意図された読出／書込波長に対して高い透過性のものでなければならず、さらに用いるのに便利で安価なものが好ましい。述べられたように、成るそのような゛″軟質パッド″（たとえば、Ｆ’ＥＰまたはＰＥＦＥ、後述参照）の機械的特性は゛書込加熱″の間における下層の吸収体の動きや変形をよりよく受入れるようである（たとえば、上のパッド″として；もし軟質材料がパスペーサ″としても用いられる場合は下のパッド″としても）。そのような゛軟質バッド″は明らかに吸収体をその周囲の環境から機械的かつ熱的に分離するので、°゛感度′°を著しく高め得ることがわかる（たとえば、溶融シリカのような゛硬質″オーバコーティングのみを用いて期待されるものより優れており、すなわち後者のものは成るビットまたは″゛ホール″°゛書込″ するためにより大きなエネルギを必要とする）。゛軟質バッド″はそのような隔離材として非常に効果的であるのｒ（たとえば吸収体上の５ｉＯｚとともに）下層の゛スペーサ″として用いるだけの場合であってもそれはくたとえばそれを５ｉ０２スペーサで置換える場合に比べて）感度を高めることがわかった。また以下に述べられるように、そのような“′軟質バッド″コーティングは、好ましくは吸収体層を析出させるのに用いられたのと本質的に同じ装置を用いて蒸着フィルムとして付与される（たとえば、共通の装置を用いて関連した引続く析出ステップによって〉。その結果としての９便利さや、コストや時間などの節減は明らかであろう。この特徴に従つて、我々はこれらのかなり厳しい“°軟質バッド″要件（真空Ｒ着を含む〉のほとんどまたはずべてを満足する凝ましい材料の例である前述のフルオロポリマー（ＦＥＰとＰＴＦＥ＞を発見した。そして都合の良いことに、その同一の゛軟質バッド″材料は吸収体の両側に（すなわち、スペーサとオーバコートとして）用いることができる。この代わりに、プラズマ高分子化された種類のポリマーのたとえばポリエチレンまたはｐａｒｙｌｅｎｅ　”　（商標、ユニオンカーバイド社からパラキシレンとして、米国特許第３，３４２．７５４号参照）を用いてもよい。好ましくは、“軟質バッド層のそのような蒸着は、吸収体層（および／またはスペーサ層）を析出させるものと同じ装置を用いて同時に付与される。この゛軟質パッド′°オーバコート層は好ましくは吸収体層をどのような重ねコーティング（特に゛軟質パッド上に付与される゛′硬質”層）からも熱的かつ機械的に分離するためのものであり、また下層の吸収体層と都合良く接合しなければならない。それによつ゛Ｃ感度が劣化されることがなくかつ吸収体は硬質の° “外層″オーバコーティングから適切に゛分離′”される。そしてその硬質オーバコーティングと／またはその上の何らかの応力が吸収体を拘束してそこへのビット形成に干渉するのを防ぐ。またそのパ軟質バッドパオーバコー１−は使用中に゛剥離″シたり湿気の侵入などを防ぐために″硬質″コートと十分よく接合される。を狂わせる（はんの１００Ａの変位が、必要な゛調整″を破壊し得る）。そのような有害な効果のいかなるものからも吸収体を保護することは重要なことであって、たとえば特に記録や゛ヒツトスポット″の形成中において変形しかつ／または変位する吸収体を用いる場合に重要である。吸収体上に直接付与される硬質オーバコーティング（たとえば、周知のＳｉＯまたはＳｉ　０２　）がその吸収体層を拘束してパビット書込″中のそのよづな変形や移動を抑制し得ることは技術習性にとって明らかなことであろう。したがって、それＳよヒツト形成と干渉して感度や記録効率を劣化させて、より多くの書込エネルギが必要となる。また、はとんどの酸化珪素は多くの湿気を吸収し過ぎる。我々は冷たい″サブストレート上に蒸着されたＳｉｏ２を用いてこのような問題を経験したが、ＦＥＰまたはＰＴＦＥのような材料（これらは、同様な条件の下に、比較的“無気孔″のフィルムとして析出さぼることができる）でははるかに問題が少なかった。したがって、技術習性は前述のタイプの適当な゛軟質パッド″がいかに重要かつ有用であるかを認識するであろうし、特にそれは隣接するＯＤ吸収体層の記録効率を高めようとする場合に有用である。したがって、この特徴のもう１つの形態は吸収体層上に゛軟質パッド′°コーティングを与えることであって、また可能な場合には共通の析出技術を用いて行なうことである。関連する特徴の１つはある場合に吸収体の下に類似の゛軟質パッド″スペーサ層を与えることであって、それによって吸収体層を上層や下層から生じる干渉から熱的かつ機械的に隔離できる。関連する特徴は、たとえば良好な蒸気障壁１機械的゛カバー″および静電防止表面として働くように、また表面の汚れをパデフオーカシング″するための必要な光学的な層を形成するために、この゛゛軟質パッド″の外側に゛′硬質″保護オーバコーティングを重ねることであるくすなわち、゛硬質／軟質“オーバコート）。上述のものへのもう１つの改良はくフルオロポリマーの）゛軟質パッド″を付与することであって、それは十分に軟らかくて変形しやすく、そして隣接する吸収体層を機械的に分離してその吸収体層が書込時に自由に゛移動″できるようにするとともにそれを熱的に隔離する（すなわち、下層の゛スペーサ″として、または被さっている“′軟質オーバコート′″として、あるいはその両方として機能する）。もう１つの改良は成る何機層を用いてそのような″軟質バッド″のスペーサを備えることであって、その有機層は下にある反射体層に強力に粘着するようになされていると粘着するものである。そして、関連する特徴はそのような゛軟質パッド″のオーバコートを備えることであって、それは上に重ねられる硬質のオーバコー１〜と比較的しっかりと接合するが下層の吸収体とは異なった強さで接合する。新規な°°硬質″スーバコー１−二上述のように、ここでのもう１つの著しい特徴は、上記説明された゛軟質パッド ″オーバコートが好ましくは次に適合し得る゛′硬質″の外側保護層でスーパコートされることである。また、さらに特有の特徴として、新規な“照射硬化ポリマー″の類がここで記録保存ＯＤ（光学データ）ディスクのためのそのような゛硬質”′の外側コーティングとして考慮されており、さらにそれに関連する好ましい新規な方法がそのような材料を用いてそのようなディスクをコーティングするために考慮されている。新規なプレポリマー（ｐｒｅ　−ｐｏｌｙｍｅｒ　）の調製は後に述べられている（たとえば、混合物Ｈ−１を見よ）。それはそのようなＯＤディスク（長期の記録保存寿命など）のためのそのような″゛硬質″の保護オーバコーティングを提供づ“ることか意図されており、特にそのような“軟質パッド″オーバコー１〜上のスーパコ−１〜として意図されている。より具体的に言えば、それは表面の埃などくたとえば、６〜５ｍ１ｔ　（１／１０００インチ）までの大きさ）を゛デフォーカス″する助けとなる厚さの゛′透明な″コーティング（意図されたＲ／Ｗ波長において透光性）を提供するように意図されており、さらに機械的干渉または蒸気の侵入（特に、水、水霧、硫酸塩、ＮａＣ秋、または他の塩化物）に対する環境障壁を提供するように意図されている。それはむしろ周知のオーバコーティング（たとえば、°′ガラス″）のように働くよう意図されており、良好な機械的保護を与える。それによってそのディスクは少々押え付けてもよくなるが、それは指の爪で引掻くような意識的な切断動作に耐える必要はない（注：そのような硬質スーパコーティングがなければ、軟質ＦＥＰ層は容易に拭き取られ得るものである）。周知の゛硬質′°オーバ］−ティング：この技術分野の技術習性は類似の保護コーティングのために種々の材料を考えてきた。たとえば、″溶融シリカ″（ＳｉＯ２，またはＳｉ　Ｏ）のような゛ガラス状”°の形態のオーバコートが共通して提案されてきたが、本件の目的（ＯＤディスクなど）のためにはこれらは失格のようである。たとえば、それらは一般に多孔質性が高くχ湿気を取込みすぎる可能性がある。したがって、それらは脹れ（ＳＷｅｌｌ）てクララ、夕が入る傾向が強く（特に前述の厳しい温度／湿度サイクリングテストの下で）、またそのような湿気による汚染は光学的特性を著しく劣化さける。さらに、それらは必要な真空蓋肴に関して最適のものではない（たそのような無機質のオーバコーティングに加えて、技術習性は同様な状況において保護オーバコートを与えるための成るいくつかの有機材料を考えた。たとえば前述のよ〕に、成る技術省達はこのためにシリコーンラバーまたは類似のエラストメリックポリマーを用いることを考えた。たとえば、都合良くｖ温で硬化し得る成る種のプラスチックであり、一般にそれらは硬化の間に酢酸のような有害な汚染物質を遊離させる（または米国特許第４，３３４．２３３号の“プラスデックシート″を見よ）。同様な意図で、我々は周知のフルオロポリマーを用いることを考えた。しかし、意図された厚さく６〜３ｍ１ｌ　）において、債型的なフルオロポリマーの析出方法は好ましいものではない。たとえば、それは一般に多くの溶剤の飛散を必要とする（後で述べる溶剤の飛散とそれに関連する収縮などに伴なう問題を参照）。さらに重大なことに、これは全体を強く加熱する（約３９０℃）硬化加熱を伴ない、一方、当該ＯＤディスクとそれに関連するコーティングは約６６°Ｃ以上で耐えるようには意図されていない（たとえば、それ以上の温度では有機軟質ＦＥＰオーバ］−トや吸収体層のようなコーティングは破壊されるであろうし、かつ／またはその構成要素は移動したりするであろう）。さらに、そのようなポリマーは″゛粘肴性″で埃を保持しやすい表面を表わし、また当該読出／書込波長（６００〜９００ナノメータ）において最適に透光性のものであるとは考えられていない。さらに、そのような硬質保護オーバコートのために考えられたのは種々の“溶剤ベース″の（溶質を付与された）ポリマーである。しかしながら、これらの乾燥（硬化）は溶剤の大部分の消散を生じて、問題である大ぎな収縮を伴なう。したがって、これらの材料は失格のようであって特に意図された厚さのコーティングのためには不適のようである（また、これらの材料のそのような分厚いコーティング中にはおそらく気泡などが形成されるであろう）。さらに考慮されたのは” ＲＴＶ、−６”　（ＧＥ社による）のような種々の“′２部硬化″ポリマーである。しかしながら、これらは付与するのが幾分困難であって、一般に比較的高い粘性を有している（おそらく迅速かつスムーズな付与のために十分軟化させるように、問題である加熱を必要とする）。また、それらは一般にパ脱ガス″問題を生じ、さらにそれらの多くは比較的高い湿度において比較的ゆっ・くりと硬化する（たとえば、約６６℃において１５分であって、しかもその硬化した材料はしばしば粘着性の表面を示し、また傷付けられやすくかつ剥離など１やすい）。さらに、そのような材料は一般にあまりにも短い゛ボッ１−ライフ（ｐｏｔ　−１ｉｆｅ）　”　（１日のオーク）しか有しておらず、さらに付与において欠点を有している。考慮、されたもう１つの種類の保護材料はＰＶｃ（塩化ポリビニル）タイプのものであったが、これらは実用的ではないようである。なぜならば、これらは溶剤を必要とし、さらにより重大なことはそれらが一般に時間とともに結晶化して、許容し得ることができない光学的パ２色性″を生じるからである。この゛′２色性″は必要な読出／′ヨ込ビームの伝達と干渉するであろう（読出／書込レーザビームは既に偏光などされており、結晶化したオーバコートは技術音速が認識するであろうように明らかに光学的問題を生じるであろう）。当該好ましい照射硬化アクリルポリマーは前述のような問題を生じないようであり、たとえばそれらは結晶化しなくて゛′２色′性″の問題を生じない。 “硬質オーバコート″のための好ましい材料：結果として、前述の種類の化学的コーティングは望ましいものではない。“照射硬化型のアクリルタイプのポリマーを用いて成る試みがなされたくアクリルモノマー、または種々の添加剤を含むプレポリマー混合物；後で議論される″゛混合物Ｈ−１”に類似したもの）。幾分驚きではあるが、そのようなオーバコ−１〜は適切に付与されるとき（たとえば、後でｊホベる“′スパイラル″技術参照；適当な″゛セツティング界面活性材″と適当な″″溶媒平坦化″などを用いる）前述の要件を（もしすべてでなくてもほとんど）満たすことができ、一方、他の材料はそのように渦足し得るものではなさそうである。したがって、この開示のもう１つの目的はそのような光学データディスクのための゛硬質″保護オーバコートとしてそのような照射硬化ポリマー（特にアクリル系）の利用を教示し、さらにそれらをＩＩして付与する関連した方法を教示することである。以下に詳述するように、好ましい種類の硬質コート材料（゛照射硬化ポリマー″ ）は多くの゛アクリル七ツマー″からなっている（または、パプレボリマ一″、すなわちさらに高分子化されるオリゴマーまたは樹脂；特に主要成分が適当なアクリレートまたはアクリルアミドの場合）。好ましい処方箋（混合物Ｈ−１）は、適当なアクリルエポキサイドとアクリルアクリレートとともにアクリレ−１〜架橋体および関連するアクリレ−１〜希釈剤とフォトイニシェークを含み、さらに好ましくは所定の゛′セツティング界面活性材″を含む。また、その混合物の小部分（たとえば、１０％）が１つまたはそれ以上の添加剤からなっていてもよい（好ましく　ｉｔ　ｕ　ｖ高分子化に参加する有機物、たとえばスチレンまたは類似のビニルエーテル）。そのようなアクリルはいくつかの理由から非常に適切であることが明らかである。すなわち、それらはパ収縮性溶剤°′のような問題の成分を多くは自んでおらず、またそれらは問題の硬化条件（たとえば過度の加熱〉を必要としない。それらはめられる特性を有する最終的な“硬質″高分子オーバコートを付与するのに特に適しているようである。また、そのような″アクリル照射硬化ポリマー″は請求められる゛硬質オーバコート′″のその曲の要件のほとんどすべてを満足することが認識されよう。すなわち、それらは容易には結晶化ゼす、それらは多量の溶剤成分を含まずあるいはそれに関連する収縮の問題がなく、それらは過度の加熱を必要とぜずに迅速かつ都合良く硬化し、さらにそれらは付与するのが比較的容易である（たとえば、低粘性モノマー溶液として）。それらは通常の環境物質による腐蝕や劣化に対する抵抗において特に優れているようであり、すなわちそれらは″粘着性″または埃を吸着しやすいものではなくて、また゛２部硬化″と異なってそれらは広範囲かつ種々の添加剤と適合する（たとえば、後述の例で見られるように、それらの硬化は添加材によって影響されない）。技術音速は請求められる硬化照射がＵｖソース（適切な便利なものであってさらに５％はどの小さな収縮しか伴なわないようなものであり得ることを認識するであろう。あるいは、コストが主要な関心事でない場合には、代わりに電子ビームまたはガンマ線照射によって硬化させることもできる。代わりに、過酸化物（触媒）硬化もある場合には実施可能である。また、主要な硬化モードがどのようなものであろうとも、成る場合には光の補助的な熱が硬化の完了を促進させるために与えられることが理解されようミ゛″スパイラル″としての付与：関連する特徴によれば、そのようなアクリルオーバコートポリマーは好ましくは主サブストレートディスク上にスパイラル状に付与され、その上で均一に分布させ・られて（たとえば、適当なディスクの回転と成る特殊なフルオロポリマーの “セツティング剤”の含有によって）、均等に流れて定着することができる。これはその混合物をこの表面上に非常な平滑さと均一な厚さで拡げることがわか− る。たとえばそれはドーナツ状のディスクの数インチの幅（たとえば、１４インチディスクの外側の半分）にわたる７ｍ１１コーテイングにおいて±０．７〜７．０ミクロンはどの小さな厚さの変動を生じる。これは全く驚くべきことである。当該技術分野の技術音速は、そのようなアクリルコーティングまたは他のコーティングと関係しているか否かにかかわらず、そのようなコーティング技術の簡単さや新規な利点は全く注目すべきものであることを認識するであろう。上述のような特殊な゛セツティング剤″の関連する発明は、驚くべきことに、濡れ性や平坦化などを高めるような有用な界面活性特性をかなりの度合で与えるのみならず、その混合物を“セット″する。すなわら、スパイラルの列を生じて、１度ホストディスクに付与されれば自分で平坦化するまで（または適当な平坦化溶媒と接触させられる）までその位置に゛セットアツプ″シて留まる。そのような“′セツティング作用″はコーティング技術の簡略化を高めることがわかるであろう。たとえば、それはこれらのスパイラルの列を付与する過程において、関連する遠心ノコによる材料の非対称の変形や移動を伴なうことなくホストディスク表１面をゆっくりと回転させることを可能にする。この新規な付与技術の１つの変形は゛溶媒平坦化″ステップを含み、ディスク上の付与された混合物の列は適当な溶媒蒸気との接触によって（ディスク表面に対して）“″ウェット″になってかつ著しい均一性と速度でそのディスク表面に拡げられることが可能となる。特殊な溶媒がこのために提案されており、好ましいコーティング材料とナブストレート表面に特に適するものである。したがって、ここでの１つの目的は前述のおよび他の関連する特徴や利点を提供することである。より特定的な目的は、″゛光学記録層′°に隣接する゛軟質パッド″材料の利用を教示しながらそうすることである。もう１つの目的は、改良された記録感度や低出力レーザに適するのみならず長期の使用寿命のためのものを教示することである。さらにもう１つの目的は、フルオロポリマー材料を用いて特に真空蒸着によって析出させられるそのような″軟質バッド′層の調製を教示することである。もう１つの目的は、そのような゛硬質″オーバコーティングと、関連する好まし０材料と、関連する付与技術を提供することである。゛　の　単な説明本発明のこれらおよび他の特徴と利点は、添付された図面と関連して考慮される好ましい本実施例の以下の詳細な説明を参照することによって５技術者達によりよく理解されて認識されるであろう。なお図面において同様な参照符号は同様な要素を示している。第１図は先行技術による記録媒体の理想化された部分の断面図である。第２図は本発明の特徴による＠造を示す新規な好ましい記録媒体の実施例の同様な図である。第３図はここでのもう１つの特徴に従ってオーバコート材料を付与する好ましい方法を概略的に示す図である。第４図はそのように付与されに手Δ料の非常に理想化された断面図である。第５図は一部変更された条件にお

【ブる同様な断面図である。第６図は外側コーティング厚さの変化を示す図である。第８図はテーブルの回転３！度とアームの速度をディスクの半径方向の位置の関数として示す図であり、第７図はこれらの値を示す図である。典型的なＯＤ記録（第１図；″オーバコート材料を漏えた３重層口そのような“′軟質バット″の１つの好ましい利用は、上述のようなディジタルデータの光学記録に適用される周知の゛ダークミラー゛′（または調整された゛ ′３重層重層溝造における“スペーサ″としてのものである。このスペーサはもちろん吸収体（記録）層と反射体層の間に配置されろくたとえば、そのような媒体は“ダークミラー″効果を利用している二本分生の他の文献を参照）。そのような“軟質パッド″スペーサの好ましい実施例のいくつかの例を説明する前に、第１図に示された典型的な゛３重重層光学記録構造の機能を以下に簡単に述べる。第１図は光学データディスクＲ−ｄｄの断面部分を概略的かつ理想化された様式で描写しており、記録３重層丁を支えるサブス１〜レートディスクＳと上に被さる保護オーバコー１−１００を含んでいることがわかるであろう。ディスクＲ− ｄｄは、そこへ成るビットを記録するために３重層丁へビームＬＢを照射する周知の光源（レーザＬ）によって記録するために用いられるよう意図されていることがわかるであろう（吸収体層９８内のサンプルパビットホール″９８−ａ参照）。これらのビン１〜は所定の関連する検知手段（ＤＥＴ＞を用いて″読出″される。続出レーザビーム（第１図のＬＢ）の波長はディスクＲ−ｄｄの記録されていない領域が必要な反射防止条件を示すように選択される。読出ビーム強度はディスク上に記録されたデータの完全さを乱すことのないよう十分低く保たれる。サブストレー１〜Ｓは、好ましくは必要に応じて平滑化層９２を備えた従来の磁気記録ディスク９ｏからなっている。３重層丁は、反射体フィルム９４上の透孔スペーサ層９６を含みかつ層９６上に積層された適当な吸収体または記録フィルム９８を備えている。したがって、反射された読出ビームはデータが記録されたビット位置くたとえば、゛′ホール”９８−ａ）における光学的に検知可能な変化によって強度変−調されることがわかるであろう。たとえば、読出ビームは゛ピッｌ−”（たとえば、“ホール”９８−ａ）を照射しているときに比較的高い反則を受け、書込まれていない領域を照射しているときに比較的低い反射を受ける。保護層１００は、その上表面上の炭粒子が光学システムの焦点面から遠く変位させられてくすなわち焦点外へ置かれて）記録や読出動作へ影響を与えないように選択されて配置される。従来、゛書込″〈すなわち、薄いフィルム吸収体層９８の反射能において、光学的に検知可能な乱れを生じて゛′記録″）するレーザビームによって、吸収体フィルム９８は成る与えられたビット位置（９８−ａ）において所定のく最小の）書込温度（Ｔｗ）へ加熱されなければならないと考えられている。最小温度ＴＷのレベルは吸収体９８の特性（たとえば、その厚さ、金属学的特性、微細構造など）に依存し、また下層のスペーサ９６の特性のみならずスペーサ９６と吸収体９８の間の゛界面特性″に依存し、またオーバコート１００と吸収体９８の間の界面特性にも依存し得ると考えられてりる。 “ゼット位置′″　（たとえば、書込レーザビームがフォーカスされると考えられる領域９８−ａ）への書込に関して、この必要な最小゛記録温度”ＴＶへ到達するのに成る有限時間が必麟であることがわかるであろう。しかし、“ビット位置”９８−ａがそのように加熱されている間、通常はその与えられた熱のい（らかが下にある誘電体スペーサ９６を介して（おそら＜１００をも介して）逃げて゛浪費″されると考えられている。そのように熱が失われる限り、もちろん、より多くの時間／エネルギが“書込″のために必要であり、ずなわらそれたけ記録感度が劣化する。また、そのようなヒートロスは記録の品質を低下させ、それによって媒体の゛記録密度′°を減すると考えられている。パ３重層スペーサ″としての軟質パッド；好ましい材料：本発明によれば、成るパ軟質バッド″（たとえば、フッ化炭化水素ポリマー）材料がそのような誘電体スペーサ層９６（第１図）として都合良く使用し１することが発見された。そして、重要なことに、そのような゛軟質パッドスベー丈″の使用は著しく書込エネルギの浪費を減少できることがわかった（すなわち、ビット位置における小さな書込エネルギの損失）。好ましい材料の１つはＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）ポリマーであって、もう１つはＦＥＰ　（フッ化エチレンプロピレン）ポリマーであり、どちらも商業的に（たとえば、デュポン社の商標である゛テフロン″という名で）入手可能な″フッ化ポリマー″である。そのようなフッ化ポリマーは反射＠９４〈第１図）上に薄い均一な層として蒸着することができ、特に、たとえば以下で議論されるように適当な融液からの真空蒸発によって行なうことができる。そのようなコーティング材料は″゛真空蒸発／析出″された状態にあると考えられる。なぜならばそれらはそのような析出の後に゛′一部変更された″状態にあると考えられているからである。サンプルＯ：比較基準（Ｓｉ　０２スペーサ）：３重層丁の調製；（第１図）：約６００〜９００Ａのアルミニウム（好ましくは約６０ようなサヒング（ｓｕｂｂｉｎｇ　）　！５９２で適当に平滑化されたアルミニウムディスク９０上に、反射体９４として施される。アルミニウム９４は、均一性を高めるために大きなコーティング距離とサブストレー１〜の”２型回転″′とを備えた対応する大きなバッチ型のコーティングチャンバ内で高真空において蒸発させることができる。構成部分上のすべての埃や汚れは厳格な゛′クリーンルーム″技術を用いて完全な最小値まで減少されねばならない。スペーサ９６は反射体９４上に同様に析出させられる。本実施において、スペーサ９６はレーザスペクトルの°゛動作部分″に対して比較的透光性の誘電体材料として働く。約１６００Ａの蒸着された５１０２　（二酸化珪素）は従来から当該目的のために（たとえば、λ＝６３２８Ａでの書込／読出のため）用いられるものであろう（注：　光学的観点から、厚さｔ　ｓ　−ｎ　Ａ　（／　２のスペーサは“消失 ″す吸収体層９８はスペーサ層９６の比較的平らな（〜≦λ／２０）記録表面」 −へ蒸＠（熱的蒸発）されたテルルの比較的薄い層からなっていると考えてよい。ここで、５０△のオーダの厚さのテルルのフィルムは、例示的吸収体層と考えられる。テルルの類似の利用は、今日当該技術分野において知られている（たとえば、上記引例を参照：またＡＳｈと△１ｌｅｎによる“データ記録のために用いられるテルルのフィルムの光学的特性”、５ＰＴＥｐ　ｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ、　＃　２２２　、１９８０参照：およびＲａｎｃｏｕｒｔによる′″テルル光学データディスクの設計と製造″、ＳＰ　Ｉ　Ｅ　Ｐ　ｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ、　＃　２９９　、１９８１参照）。低融点と低伝導性を有するテルルまたは他の゛′吸収体金属″が一般に技術者性に好まれる。なぜならば、それは優れた感度を示し、そして必要なくスレッショルド）レーザ書込出力を最小にすると考えられるからである。その劣った記録保存性のために、それはここでは特に推薦されるものではない。しかし、それは技術者性によく理解されているので（またその゛変形的″ホール形成機構がここで教示されるような゛軟質パッドスーパコー１・″の利点を用いるのによく適しているようであるので）本発明を説明する目的には非常に有用である。たとえば、３ｅｌｌとＢａｒｔｏｌｉｎｉの米国特許第４．２２２゜０７１号において、同様なテルルの記録フィルムは、約２０％の光学効率の仮定の下に適当な続出を達成するために、その上への書込のために１５ｍ　Ｗのオーダのレーザ出力を必要とするように説明されている。その目標は、記録されたビデオ信号を約４０〜５０ｄＢのＳ／Ｎまたは゛放送品質″で再生できるようにすることである。米国特許第４゜２２２．０７１＠はまた類似の構造を説明しており、それによれば固体のＧａ−Ａｍ−Ａｓインジェクションレーザが用いられて、ディスクが動かされている間にその記録表（または米国特許第４，３３４．２９９号のビデオ記録材料参照）。− ここでは、テスト記録は６３２８Ａで動作するガス（Ｈｅ　−Ｎｅ　）レーザビームを用いて３０〜４７０ｎ　、　ｓｅｃの記録露出（通常は１０ｍＷで４Ｏｎ、ｓｅｃまたは約４００ｐＪ）で行なわれる。これは同一のまたは同様なレーザ装置を用いて最小の適当な読出（または約４０ｄＢのＳ／Ｎ＞を生じるように意図されており、そのときにたとえば１５０〜５００１］Ｊ／ｃｍ２の低出力で読出される（ここでｐＪ＝１０−　”　ｗａｔｔ−ｓｅｃまたはジュールである）ｏこ（Ｄ意図された設定において、レーザビームは１／２から１ミクロ：／　直径（？ｔ’　ナワチ、５０ｏＯ〜１００００△）　（１）　ヒッｔ−位置上にフォーカスされるように意図されていて、それは約４０ｎ、ｓｅｃ長さの書込パルスである。またこれは１８Ｑ　Ｑ　ｒｐｍのディスクの回転とそれに関連するガルボミラー（ｇａｌｖｏ−ｍｉｒｒｏｒ）フォーカスの特性に適応する。当該レコードＲ−ｄｄ（第１図）はその上にそのように記録される。文献などにお【プる比較し１ｑる状況に関して、比較的“″中位の出力″のレーザパルスがＴｅフィルムを十分に加熱して溶解し、周知のパビット″またはバクレータ″を生じて、非常にわずかの゛ノイズ″を伴なうが良好な続出（たとえば、λ＝６３２８Ａにおいて１〜３％のバックグラウンドに対して約５０％のビット反射率）を与え得ることがわかった。以下は本発明による′″軟質バッド″材料を用いた多重層光学媒体のための好ましい構造の多くの例である。サンプルＩ（スペーサとしてのＦ　Ｅ　Ｐ　）　’：以後に説明される以外はサンプルＯ（比較基準）が複製される。この場合、光学データディスクは研磨されたガラスザブス１〜レートを備えて構成されており、そのサブストレート上には約６００Ａ厚さのアルミニウム反射体フィルムが置かれており、次にそのアルミニウム上には約１１００Ａ厚さの゛軟質バッド″スペーサ層としてのＦＥＰ　（フルオロエチレンプロピレン）コポリマーが車ねられ、さらにそのスペーサ上には約６６Ａ厚さのテルル吸収体フィルムが置かれている。反射体、スペーサ、および吸収体の層は、上述のような良好な本実施に従って、単一の共通な装置を用いて真空蒸発によって単一の連続的手順によって析出させ゛軟質パッド′°スペーサの熱的有効性を最も劇的に示すためには横方向の最小のヒートロスを有する吸収体を用いなければならない。Ｔｅは実際には最適ではないが、ここで主に提示する。なぜならば、技術者性はそれに非常に慣れているし、その有用な性能をも知っているからである。もちろん、Ｔｅはここで理解されているように゛記録保存性″が良くなく、したがって長期の“記録寿命″が必要な場合には他の吸収体が示されるであろう（他の場所で引用されているＲ　ａｎｃｏｕｒｔやＡｓｈなどによる文献を参照）。技術者性は、ＡｆＪ、フィルム上へＦＥＰやＰＴＦＥのような有機材料の薄い層を高真空の蒸着によって形成する好ましい方法に習熟しているであろう（同様な析出に関して引用されたＲ　ａｎｃｏｕｒｔの文献参照）。好ましくは、その材料は高真空チャンバ内の゛′ボー１〜″またはそのような容器内で抵抗線加熱される。たとえば、ＦＥＰロッドはそのボー１〜内に置くのに都合のよい寸法に切断される。ＦＥＰの沸点は非常に低いので、それを蒸発させるためには比較的小さな熱しか必要としない。電子銃蒸発は好ましくなく、なぜならばＦＥＰを分解するであろうからである。また成る場合には、“’ｐａｒｙｌｅｎｅ　”　（商品名、ユニオンカーバイト社）のような類似の塩化炭化水素と置換えることもできる３ＦＥＰのパ変種″形態のものもそのように析出されることがわかるであろう。たとえば、テ゛ユポン社による゛テフロン１４０　”のような比較的高い分子■のフルオロポリマーがロッドから小片に切断されて真空蒸発されるとき、我々１はそわがＡｕ反射９フイルム上に異なった″ポリマーとして析出すると考える。すなわち、それはおそらく低分子重量のものであって短いチェーンによって特徴付けられ、もし全体のものであるならば弱くクロスリンクされたものであろう。たと悦ば、それは非常にソフトで弱く結合されているので、指で摺ればそれは拭き去られてしまうであろう。おそらく、高真空におけるそのような加熱の後にＦＥＰが分解され、そしてそれが凝縮して■高分子化するときに比較陶冶たいＡ９表面へ移動する。一方、空気中でそのように加熱されれば、ＦＥＰは過フッ化プロピレンとテトラフルオロエチレン七ツアーに分解すると考えられている。ＦＥＰやＰＴＦＥのようなフルオロポリマーは水素の一部または全部がフッ素で置換えられており、全体としてパラフィンのような構造である。どちらも商品名゛テフロン″でデュポン社から売られている。それらは非常に不活性（反応性の化学薬品に影響されない）であって、意図された厳しい温度や湿度の下においても化学的機械的に全く安定である。また、それらは低い誘電定数を有し、かつ十分に接合するようである。 ”　Ｆ　Ｅ　Ｐコポリマー″はテトラフルオロエチレンとへキサフルオロプロピレンの重合によって作られる。ＦＥＰは２９０℃の結晶融点を有しており、その分子構造は主に次のような直線状のチェーンからなっている。ＰＴＦＥは、テトラフルオロエチレンの（ＭＭ基ｍ１始反応された）高分子化によって形成された高い結晶性の完全にフッ化されたポリマーである。ＰＴＦＥ− ポリマーは３２７℃の結晶融点を有しており、その分子構造は主に次のような直線状のチェーンがらなっている、−１−Ｃ１”２−　ＣＦ；＝← また、そのようなＡＱサブス１−ジー１〜は幾分活性で、高分子化やクロスリンクをＪ足進覆ることができる（　”　Ｚ　ｉｅｇｌｅｒ触媒″のように；たとえば、Ｍ、Ｓ、Ｔｏｙによる文献であるＪ、　Ｐｏｌｙｍ、　Ｓｃｉ、　、　Ｖｏｌ、　３４．１９７１．　ｌ）、２７３を参照）とともに、Ａｆｌ金属Ｊ、たはＡ庭中間化合物と比較的強い化学的結合を導入し得る。そのような場合、ＦＥＰのクロスリンキングは△Ｕフィルムに直接接触するところで最大となるように期待され、ＡｆｌからＦＥＰスペーサ厚さ方向に離れるに従って減少するであろう（これはめられるパ吸収体隔離″や高められた感度などを得るために重要であるがもしれないし、そうでないかもしれない）。本目的において、“感度″は書込エネルギＥＷ、すなわち指定された最小の続出を与えるに十分なほど反射能（またけそのような読出特性）を変えるのに必要なレーザビームを特定することがわかるであろう。ここで、フォーカスされた書込ビームの強度と露出時間２は、反射能において指定された変化を生じるように吸収体層９８の温度を上げるのに十分なものであることが理解されよう。その変化は、たとえば当該分野の技術習性によって理解されているような適当なコントラストであるＳ　、／　Ｎ比が実現されるように必要な読出品質などを与える；約１５ＭＨｚのバンド幅に関して４０〜５０ｄＢの典型的なＳＺＮ比（ＲＭＳノイズに対するピークツーピーク信＠）を参照。レーザ記録は、第１図に関連して言及された一般型の装置を用いて２４０　Ｏｒｐｍの回転において、完成された光学媒体上になされる。ヘリウムネオンレーザが再び記録のために用いられる（０．６３３μｍの波長）。媒体フィルム９８上にフォーカスされたレーザご一部“′スポット′″は約０．５μｍである。そのような記録の感度は非常に良好であって、ザンブル○のような従来のものから予想されるものより良好であることがわかるであろう。たとえば、テストによれば、許容し１ｑる記録のために必要な書込エネルギ（は予想されたものの約１／′ ２だけであり、ピッ１〜位置からスペーサへの書込熱の漏れはＦＥＰを用いれば非常に小さいことがわかった。すなわち、そのＦＥＰは全く望ましいものであって、たとえば、明らかに″゛感度″を高める助けその接着性はどちらかと言えばＡｕ反射体フィルムに対して強力であるが、上に被さっている（丁ｅ）吸収体フィルムに対しては異なっているようである。この高められた感度はＦ　Ｅ　Ｐの厚さ方面にｆ３Ｌプる前述のクロスリンクの変化で一部説明することができ、」たＦ［Ｐとの強い接合に対する吸収体の不親和性で説明することができる。上述のように、クロスリンクはＡｐ一層と直接接しているところで最大であって、へ０、から離れるにつれ減少（低密度）して、丁ｅ吸収体に接するところで最も弱いことがわかった。クロスリンクと接合にｄ３　Ｇづるこの差は吸収体からの熱の漏れを減少させるように倒」き、またその吸収体に書込まれるときのピッ１〜位冒の変形または移動によりよく順応する。すなわら、この゛′軟Ｖ〔バラ１〜′”スペーサは書込の間に吸収体９８−ａに隣接して都合９く変形し、“′ホール″の形成に対してほとんどまたは全く抵抗とならないようである。これはこのナシプルが示す高められた感度の原因の一部と考えられる。Ａｎｎ反体体のＦＥＰの強力な接合は、長期の厳しい温度／′湿度サイクリングの後に特に明らかである。ジーなＡつら、他のスペーサ層は剥離することがわかったが、この接合は耐えた。また、光学的“スポットパまたは他の収差（△旦〕）ルムにおける）はそのような温度７／湿度サイクリングによって引起こされなかったが、シリカのスベーηを用いるとき＋、１それが生じる。シリカのスペーサは、あまりに多孔質であって過剰の湿気を吸収するなどしく　低い″記録保存性″のものとなる傾向になることが明らかである。さらに、ＦＥＰは比較的低い屈折率（最適値より幾分高い値である溶融シリカの約１．５に対して約１．３）を備えたすばらしい光学透明層を与える。技術者性が認識するであろうように、成る場合には、これに代わってプラズマ高分子化または他の技術による析出も実施可能であろう。また、技術者性は他の類似の″軟質バッド°′ポリマーが真空蓋発によって同様に析出させ得るかもしれないことを化えるであろう。しかし、その選択はむしろ厳しい当該要件の観点から幾分限定されるであろう。好ましい材料と厚さは種々のものに適することがわかった。たとえば、多くの場合において、このスペーサ（または以後に述べられるような“′軟質パッド′°オーバコート〉の材料または厚さを変えることなく、異なった吸収体金属を用いることができる。サンプル■（吸収体上のＳｉ　０２オーバコート）：吸収体層が約２０００Ａ厚さの溶融シリカ（ＳｉＯ２）の保護層でコートされる以外はサンプル■のディスクの構成が複製される。結果：サンプル■と同様に、感度は満足し得るものであるが幾分劣化することが予想される。また技術者性が知っているように、そのＳｉＯ２は湿気を吸収する傾向にあって、それと関連して問題のスウェリング（膨張）を起こして光学的特性を劣化させる。サンプル■の２０００Ａの５ｉ０２オーバコートを含むように一部変更されたサンプル０（ＳｉＯ２スペーサ）とこのサンプル（ＩＩ）とを比較することは意義あることである（その一部変更されたサンプル０はここでサンプル「−Ａとし、それは５ｔＯｚ層間に吸収体がサンドイッチされている）。サンプル■は゛低いが許容し得る″読出を生じ、サンプルＩＩ−Ａ（すなわち、オーバコートされたサンプルＯ）は十分な読出を与えなかった。これは感度における著しい差異であって、今まで十分には認識されていなかったものである。またこれは改善された熱保存性と“軟質パッド′”スペーサの機械的順応性によることが明らかである。同様な（わずかに異なるが）改善は、吸収体の下でなくてその上に゛′軟質パッド′″が置かれたときに見られる。そのようなパ軟質パッド′°は、たとえばこの例１ｔ−Ａの吸収体直上に、後で述べる例Ａのような゛硬質／軟質″オーバコートとして重ねられる（Ｓｉ　Ｏ２オーバコートを゛硬質、／軟質″″オーバコートで置換える）。すなわち、そのような吸収体に（上および／または下に）隣接して置かれたそのような°°軟質パッド″が感度を高めると結論され、特にそ、れは゛軟質パッド″がＳｉＯ２のような従来の比較的硬いフィルムと置換ねる場合である。吸収体上のスーパコーティングとしての゛軟質パッド′″前述のように、そのような゛軟質パットパ層は吸収体層上にスーパコートされた゛″バツフア緩衝）′ としても考えられ、たとえばその吸収体層を熱的かっ機械的にさらに隔離する助けとなり、特にそれは類似の゛軟質パッド″が吸収体の直下に存在する場合である。たとえば、これは書込エネルギの保存においてさ・らに助けとなるとともに書込加熱されている間にパビットホール″に対して移動または変形する自由をさらに与えるくたとえば、非常に拘束されたホール形成と考えら机でいるシリカのスーパコートと比べて）。両方のことを考慮すれば感度は高められる筈である。そのようなことは、後に示すサンプル■のような場合であることがわかった。前述のタイプの゛′軟質パットパ層は吸収体（たとえば、前述のＴｅフィルム）上のバツファスーパコ−１〜として都合良く使用し得ること（特にこの″軟質バッド″スーパコートが次に゛硬質″障壁層を伴なってオーバコー！・される場合）を発見する過程において、我々はそのようなパ軟質ハツト″スーバコ−１−が好ましくは次のような特性（表■を示すべきことを知った。表　１（“軟質バッド″スーパコートの必須要件）１、　光どＬ度ＩＪ了り鉄−：　＜Ｒ／Ｗ）λにお（ブる良好な透光性。込′°とそれに伴なう吸収体の変形および／または移動に対して全くまたはわずかじか抵抗とならず、さらにオレンジビール（蜜柑１１１１）や剥離などを生じない。湿度の変化さらに汚染などにかかわらず安定）：たとえば、劣化することなく使用温度に耐え（ホール形成位置に近接したところでさえ）；化学的にも安定；たとえば、硬化中やまたは厳しい温度と湿度のサイクリングの下におい−Ｃも溶剤または他の汚染物質を放出しない。６、　軟らかさと圧縮容易性：　＃３にお（プるように移動／変形を可能にし；オーバコーティングによる感度の劣化を最小にｌ）たピッ１〜劣込に適応するように十分に分厚い。７、　良好な熱絶縁性：　たとえば、低い熱放散性、低い比熱；製造温度と゛ｍ込゛の温度に耐えること。ところで、他の技術者性はそのよ、うな吸収体のためのいくつかの種類の高分子スーパコーティングを提案した。たとえば、米国特許第４．．１０１，９０７号はそのための゛シリコーン樹脂″′について述べており、たとえばそれ（よゼネラルエレクトリック社のＲＴＶ６１５またはＲＴＶ６０２（これらは成る硬化剤によって室温で硬化する）またはタ′ウコーニング社の３ｙ１ｇａｒｄ１８４があり、これらはチタン上に使用されるように提案されている。これらは好ましくはＳ　ｉ　Ｏ２の介在パ障壁層″または成る複合有機材料吸収体フィルムが約９５００Ａ厚さのＦＥＰの層（スペーサ層と同様のものであってＳｉ　Ｏ，、スーパコートを伴なわないもの）でカバーされていることを除けばサンプル■のディスクが複製される。結果：サンプルＩと同様であるが、それより少し多いピッ１〜書込エネルギが必要である。しかし、そのエネルギはサンプル■（吸収体上にＳｉ　０２　＞の場合よりはるかに小さい。サンプル■：リブストレートディスクが標準的アルミニウムパウインチェスター″テイスク〈コンピュータ媒体のために商業的１　磁気記録ディスクにおいて用いられるもの）であることを除けばサンプル■のディスクが複製される。結果：本質的にサンプル■と同様である。変わり得る゛軟質バッド″の実施例：技術音速は、そのようなパ軟質パッドスペーサ″が適当な場合においては他の方法で実施し冑るこ・七を認識するであろう（たとえば、他の比較的不活性で安定かつ長持ちし、さらに不完全に硬化するかまたは弱く高分子化して軽くクロスリンクしたパ軟質パポリマーを用いて；たとえば一部変更されたポリテトラフルオロエチレンであって一般に同様に分解して再高分子化するクロロフルオロポリマーまたはその他の類似の変種フルオロポリマー）。パ軟質パッドスーパコート！ ′に関しても同様である。また適当な場合には他の析出技術も実施可能であって、たとえばグロー放電のようなプラズマ析出技術（特にフルオロカーボンに関して）またはスパッタリングを用いることができ、特に化学的分解が完全でない場合に実施される。また技術音速は光学吸収体を変えてもよく、たとえば他のよりよく適合し１ｑる高感度の薄いフィルムであってその軟質パッドと適切に結合する低熱伝導材料に変えてもよい。さらに、技術音速は、そのような゛軟質バッド層が有利である類似の他の応用を考えるであろう。たとえば１．類似の他の記録フィルム上および／または下の“′隔離層″として、または後で述べられる゛硬質オーバコート″のような比較的“″硬質″のコーティングとＴｅフィルムのような記録層との間の圧縮口」能な軟質中間層として考えられ、特にこの゛軟質バッド″はその硬質オーバコートと良好に接合してその記録層と適当に結合する。技術音速は単層または２重層の形態の○ＤＤ記録層についての類似の応用をも知るであろう。好ましいオーバコートの実施例：例Δ、第２図（′″硬質／軟質″オーバコート０−Ｃ）：第２図のディスクＲｏ　（第１図に倣ってごく小さな概略断面が示されており、説明される以外のものは本質的に第１図と同じである）は上述の特徴を有する好ましい例を示しており、特に吸収体記録フィルムをカバーする゛軟質パット″層上に付与される′°硬質″オーバコート、すなわち新規な゛硬質／軟貿″オーバコーティング構造Ｏ−Ｃを（概略的に〉教示している（サブストレート部分上に与えられた前述と同種のＯＤＤ“３重層”Ｔ−Ｌの一部である吸収体ｅ上の軟質パッド層ｆと硬質コート９を第１図と比較せよ）。ここで、この概略図を参照して説明する。特に説明する以外は、（ここで、またすべての実施例に関して）ここでのすべての材料や方法および装置はこの良好な実施例に従って上述のようにまたは他の周知の手段によって実施されることを理解するであろう。この説明の過程において、成る状況のトにおいて有用であるいくつかの変更例も指摘されるであろう。サブストレート：サブストレート部分はアルミニウムサブストレートディスクへとして考えてよく、それは必要に応じてその表面を十分に平滑にするために平滑化層またはリビング１Ｂで処理される。したがって、サブストレー１〜△は好ましくはアルミニウム合金の通常のパウインチェスター″ディスク−であって、たとえばコンピュータのメモリシステムにおいて用いられるようなディジタルデータの高速磁気記録のための製造用ディスクとして典型的なものである。そのようなディスクの表面は、技術属性がよく知っているように、通常はダイヤモンド研磨または他の方法による平滑化によって磨かれている。この代わりに、ある場合には適当なガラスまたはプラスチックのテ′イスクを代用してもよい。゛′サビング″層Ｂはよく清浄化された裸のディスク表面に与えられることがわかるであろう。その“リビング″は、好ましくはサブストレートＡの表面上の微ＩＢな不覗則性を゛′ホールサイズ″（たとえば、直径で約０．５μｍまたはそれ以下）以下の良好なものに平滑化する有機材料からなっている。技術音速が知っているように、もしその表面が既に十分平滑であるならばくたとえば、高度に研磨されたガラスディスクが用いられる場合）、丈ヒンク層は必要てないかもしれない。そして、このサブストレー１へは、約１８００　（〜数千）ｒｐｍで使用される良好な表面平滑性を僅えた１４インヂデイスクからなっていると理解される。所定のエネルギと波長の照射くレーザ）ビームがレーザソース［−（第１図参照）から媒体「く○へ与えられることが理解されよう。その照射ビームは、″′書込′”の過程において記録層ｅ上の意図された続出に適する゛ピッ＋−”、”ホール″または類似の光学的′°特異点パ（たとえば、第１図の９８−ａ位置に類似するもの）を形成するために゛書込時間″において活性化されてフォーカスされる。さらに特定的に言えば、たとえば直径０．８μｍ　（すなわち、８０００ △）の１０ｍＷのカラス形ビームを用いて４５ｍ／ｓｅＣでスキャンすることによって成る最小の長さと幅（たとえば、０．８μｍ２であって−１しかし必ずしも矩形１円形または他の所定の形である必要はない）の光学的変調を形成するように意図することができる。ところで、たとえば記録保存レコードに関して技術音速が認識しているように、この要件は従来の手段にとってあまりに厳し過ぎるものである。そして、各゛ピッｈ”（ビット）が記録される場所において、゛反射防止″バックグラウンドは高コン１〜ラストの続出に適する゛ピッ１〜マーク′°を生じるように崩壊させられる。また、記録波長がシフトさせられるところでは、スペーサの厚さは同様な結果を生じるように容易に変えられる。この゛調整された”（ ”３重層″または゛ダークミラー”＞Ｗ造において、吸収体ｅ上の表面反射率は吸収体厚さとスペーサ厚さを調節することによって０″または他の選択された値にすることができる。ここで、゛３３重層″は１つの面上に吸収体を備えかつ他の面上に反射体を備えた透光性のスペーサからなっているものと理解されくそれらの層の厚さは技術音速が知っているであろうように゛′光学的調整″のために調節される。したがって、コーティングのパラメータは、好ましくは書込ビームがこの吸収体層上にフォーカスされるときに意図された記録周波数においてコートされたディスクに゛′反射防止″条件を与えるように選択されることが理解されよう。そのようなことに関して、上述の記述と３ｅｌｌ　とＳｐ。ｎ９による“光学記録のための反射防止構造”　、　Ｊ　ｏｕｒｎａｌｏｆ　ＱｕａＭｕｍ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ、　Ｖｏｌ、　ＱＥ　１４．　Ｎｏ、７゜Ｊｕｌｙ１９７８参照；また一般的な先行技術に関して、Ｂａｒｔｏ＋ｙ旧などによる“′光学ディスクシステムの出現″、ＩＥＥＥ　Ｓｐｅｃｔｒｕｍ、Ａｕｇｕｓｔ　１９７８．ｐ、２０．および゛光学記憶材料と方法”　、　Ｓ　Ｐ　Ｉ　Ｅ　Ｐ　ｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ。ＶＯＩ、１７７、○ｐｔｉｃａｌ　Ｉ　ｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　３　ｔｏｒａｇｅ、　１９７９、ｐ、５６の文献例を参照。記録部分（゛ダークミラー″タイプ）：ディスクＲｏの記録面は、当該技術において周知のように、適当な下層の“スペーサ層ＩＩ　ｄとそのスペーサｄの下の反射体層”Ｃを伴なったパ吸収体層ｎｅと考えることができる。この開示のもう１つの態様として、そのような層（Ｃ，ｄ’、　ｅ　）は好ましくは単一の高真空チャンバ内で適当な材料を用いて連続的な蒸発コーティングシーケンスによって与えられ、また好ましくは後で述べるように“軟質パッド′″オーバコーティングｆも同時に付与される。この代わりに、これらの付与はフィルムを作成するための前述のタイプの適当なプラズマ高分子化技術または他の適当な方法によって行なうこともできるであろう。技術音速は、共通の析出装置を用いるそのような一連の類似の析出ステップに適応し得る材料と技術の開示を長所として認識するであろう（たとえば、特にスペーサ層ｄと軟質オーバコー、ティングｔの両方が類似の°゛軟質バッド°′からなっている場合に）。反射体層Ｃは好ましくは上述の蒸着アルミニウムのような高い反射能の金属の層からなっており、たとえば意図された照射において層Ｃを通して見たときに層Ｃが″ちょうど不透明″になるまで析出される（蒸着反射体の作成について知識を有する技術音速がよく知っているように、反射体は分厚すぎると反射能が劣化する）。技術音速が知っているように、意図されたＲ／Ｗの波長において十分な高反射率を示す限り他の金属を用いることができる。しかしながら、十分な注意が払われなければ、代用反射体金属はＡｕがＦＥＰ　（また同等なスペーサ材料）に関して示すような反応性や接合作用を生じないであろう。もう１つの選択は交互に高低の指数の誘電体フィルムを１７′４波長反射体とともに用いることである。スペーサ層ｄは、反射体層Ｃおよび吸収体層ｅとの組合せによってその“″３重層″アセンブリの反射率をゼロまで減少させるか、または他の予め決められた成る反射率値まで減少させるように働くよう意図されている。その用いられる材料は、好ましくは意図されたＲ、／Ｗ波長に対して比較的゛′非吸収性″でありかつ高い透光性のものであろう。スペーサｄの厚さはその光学的特性に依存し、かつこの３Ｍ層内の他の層の光学的特性にも依存するであろう。好ましくは、０．５〜１．５の１／４波長の厚さが用いられよう。この代わりに、技術音速が知るであろうように、多重の１／２波長厚さを加えてもよい（注：光学的見地から、厚さＴ、＋＝ｊｌλＹ／２のスペーサは′見えなくなる“であろう）。ここでのく上述の）特徴は当該スペーサ材料が好ましくはＦＥＰ、ＰＴＦＥ、または類似のフルオ゛ロポリマーからなっていることであって、好ましくはたとえば共通の真空装置内において上述のように層Ｃとｅとともに（また必要に応じて層ｆとともに）蒸着される。層ｅ　（第２図）は照射作用゛書込エネルギ″が集中される吸収フィルムである。サンプルＩの吸収体を利用し得る。オーバコート部分： ″軟質パッド″コーティングｆは、好ましくは都合の良い厚さくたとえば、数千へ）のＦＥＰまたは類似のポリマーからなっている（たとえば、都合良くかつ好ましくはスペーサ層ｄと同じ材料でかつ同じ析出方法である）、、それは好ましくは上述のＦＥＰ：１１−ティングとして吸収体ｅ上に調製されて析出され、最も好ましくは便利のために３重層Ｔ−Ｌとともに同じ析出シーケンスにおいて重ねられる。パ３重層″を用いる場合、１またはそれ以上の１／２波長として析出される層［を用いて厚さを検知して制御することが便利であろう。技術音速が認ＩＴるであろうように、多くの１／２波長の厚さはその軟質オーバコーティングを光学的に “消失″させて、吸収体層に与えられる読出／書込エネルギを反射しないであろう（これはシステムの効率を減少させよう）。 “′軟質バッド″スーパコーティングｆは上述のように意図されたＲ／Ｗ波長（ λ、）に対して高い透光性であるのみならず、感度を最大にするために十分に変形して圧縮し得るものであってかつ比較的低い比熱を有する比較的無孔質性で熱的に絶縁性のものである。また、それは重ねられる障壁層にしっかりと接合し、しかし下にある吸収体とはどちらかといえば弱く結合しくたとえば、その吸収体は好ましくはその゛′パッド″に対して比較的非反応性のもの）、またもちろん、フラッシュ中間コーティングを用いることもできる。またそれは化学的に安定かつ適合し得るものであって（レコードＲｏにおいて汚染物質を放出しない）、かつ隣接層（すなわち、吸収体ｅと硬質コーｉ〜ｇ）と熱的かつ機械的に適合し得るべきである。また理想的には、それは付与するのが便利でかつコスト効率の良いものである（たとえば、層ｃ、ｉｊ、ｅと同じ析出方法と装置を用いて）。上述のようなく真空蒸着などされた）ＦＥＰとＰＴＦＥ（ま、〈上記の表Ｉで要約されているような）これらの厳しい要件のすべてではないにしてもそれらのほとんど１こ適合することがわかろう。しかし、適当な場合には他の類似の材料（たとえば、類似の′弱く高分子化″′されたフルオロポリマー）が適するであろう。また、そのような゛′軟質バッド″が吸収体をその両側からサンドインチ状に挾むとき、それによって与えられる“熱的機械的隔離″は著しいものであることが認識されよう。隣接するコーティングとの適合性や接合を最適にするために（たとえば、゛硬質 ′″オーバコーティングへの付着性を高めかつ／または下にある吸収体層との接合を弱めるために）゛軟質パッド″オーバコーディング「のその後の処理が必要であるかもしれない。たとえば、軟質ＦＥＰスーパコートの表面上に真空蒸着された数原子層の酸化珪素（ＳｉＯ２）またはＡｍ、Ｏ，は、後で述べられる照射硬化型のアクリル樹脂のような硬質オーバコーティングＱの濡れ性などを高めるためにしばしば好ましいものであることがわかった。ここでの特徴として、そのような゛軟質バッド″スーパコーティングは、その上の硬質スーパコートに対して強い接着性を与えるが下にある吸収体層に対しては比較的弱い結合であることがわかる。吸収体ｅ上（すなわち、外側部分）のオーバコーティングＯ−Ｃの残りの部分はくここで関連する特徴に従って）゛硬質′″オーバコーティング層ｇで形成されて、好ましくは後で述べられるアクリル樹脂製である。これは外側の機械的保護や（パッドｆとともに）必要なデフォーカシング厚さを与えるためのみならず、良好な蒸気障壁や静電防止表面として働く。硬質オーバコート９のための好ましい調製とそれを付与するための関連する好ましい方法は後で詳述される。層Ｑの厚さは、ある程度まで、用いられる光学システムに依存する（たとえば、対物レンズにおける球面収差の補正が関係するであろう）。この実施例に関して１ｏ○〜１８０ミクロンのオーダの厚さが全（適することがわかった。結果：　（例Ａ、第２図）：上で提示された“硬質／軟質″オーバコートの実施例（たとえば、特に後述の例 ■のようなアクリル樹脂が第２図のような下層の吸収体である３重層などとともに上述の例■のような゛軟質バッド′°上に付与される場合）は、驚くべき良好な感度（たとえば、厚いＳｉ○２オーバコ−ｊ〜が吸収体に被さっている類似のレコードより優秀〉を与えるのみならず上述の他のめられる特性（たとえば、表 ■）をも与えることがわかるであろう。もらろん、技術音速はこの実施例（例へ）がとちらがといえば概略的に）ホベられていることがわかるであろう。゛硬質″と゛軟質バッド″のコーティングの材料や析出などのより詳しい特徴は他の部分で述べられる（゛硬質′°は例Ｉなどを参照；“軟質バッド″はサンプル１．バなどを参照）。すなわち、概略的に上述された″軟質バッド゛・オーバコートは他の部分のいくつかの例にＪ５いて詳述されるくたとえば、構造、材料、調製、使用などに関してサンプル■。 ■などをその示された結果や有利な特徴とともに参照ゼよ）。たとえば、そのような″軟質パッド”（ＦＥＩ）またはＰＴＦＥ）は溶融シリカのような通常のコーティングより優秀なものである（たとえば、必要な書込エネルギを減少させ、環境に対する長（かつ良好な安定性と有効性を与え、それはたとえば適当な″硬質パオーバコーティングど組合わされたときに湿気の吸収という観点において著しい）。形成されるパ硬質″オーバコートはそのような保護的外部コートの予想される通常の特性〈たとえば、硬度、擦傷抵抗性、非粘着性）を示し、容易に清浄化され（たとえば、埃、油、指紋）、λ　に対して透明であって、さらに水然気や酸素などのような汚染物質に対して低い浸）６性を示す。さらに、それは“′軟質パッド″に対して十分に接合する。そのような硬質コート材料は（良好な本実施に従って）スピンコーティングによって付与され、または技術音速に知られている他の適当な技術によって付与される（たとえば、成る場合には、スプレーコーティング、とＩｓｌ、潰コーティング、流れコーティングまたはカーテンコーティングが代わりに実施し得る）。後で詳述されるような照射硬化型のアクリルコーティングは多くの場合に適するものであることが理解されよう。硬質／軟質オーバコーティングのための他の材料：適当な場合には、伯の“′軟質パッド″および／または゛硬質オーバコート″材料がここで詳述された好ましい実施例に示された機能のすべてまたはいくつかを発揮するように用いることができることを技術音速は理解するであろう。たとえば、成る場合には硬質オーバコートが透光性のシートの形態をとってもよい（たとえば、′″軟質パッド″上に被せられた水晶または同様なガラス状の材料、逆の場合も同様〉。また成る場合にはそのパ軟質バッド″は硬質コートのための接着剤としても動き得る。好ましい“硬質オーバコーｌ〜″材料：前述のことを発展させて、我々は次に上述のような保護的゛″硬質″オーバコーティング（たとえば、第１図や第２図などのＯＤディスク状の゛°軟質バッド″に被さるスーパコーティングとして）用いるのに特にかつ驚くほど適した種類の材料を述べる。その後に、我々はそのような“硬質コーティング″材料を○Ｄディスクまたは類似の溝道に付与するための好ましい新規な関連する技術を述べる。例Ｉ：　（サンアル■上の“硬質″コーティングニ調製。付与、硬化）：この例はサンプル■の実施例に（吸収体に被さるＦＥＰ“軟質バッド″スーパ］ −ト上で）応用される好ましい照射硬化型のアクリル硬質コーティング混合物” 　Ｈ−１”の調製と特性を）ホベることを意図しており、またこれをリーブストレー１−に付与してそれをその場で硬化させる一般的な方法を述べることをも意図しており、またその後でこれを所定の光学データディスクへ付与するための特定の好ましい方法の詳細が述べられる（第３図と第４図に関連する記述を参照）。温湿とその他通常の条件における作業によって、次の“硬質オーバコート″ポリマー混合物Ｈ−１が約７ｍ１ｌ厚さの゛′硬質″保護オーバコーティングとして付与されるよう意図されて調製され、それは所定の光学データディスク表面上に均一【こスプレーされて硬化する前述の特性を有している。この表面は、適当に処理されたアルミニウムディスクサブストレート（たとえば、その上に平滑化予億］−トを有する）とその上に重ねられた３重層の光学記録母体とさらにその上の真空蒸着された薄い（約９５００Ａ厚さに蒸発されて析出されて高分子化されたＦＥＰまたは類似の゛′軟質パット″フルオロポリマー）″軟質バッド″スーパコーティングとからなっていると考えてよい。すなわち、そのようなパ変種ＦＥＰポリマー′°がここで選択されたナシストレートである。混合物）−１−１重量割合　好ましい範囲Ｃｅｌｒａｄ　１７００　（Ｃｅｌａｎｅｓｅ社）　１２０　１０５〜１３５Ｃｅｌｒａｄ　３２００　（Ｃｅｌａｎｅｓｅ社）４０３５〜４５ＴＭＰ丁Ａ　４６０　１４５〜１７５２エチルへキシルアクリレ−１〜　１８０　１６０〜２００（２−Ｅｈ　Ａ） “’ＦＣ−４３０”　（３Ｍ社）　２．５　２，５［）ａｒｏｃｕｒｅ　１１７３　、５　５Ｃｅｌｒａｄ　１７００は比較的高い分子重量のアクリルアクリレートであって、適当にイニシエート（開始）されるとき（後述のように）紫外線によって容易に硬化されることがわかるであろう。この基本的プレポリマー物質は、比較的長い使用寿命を超える硬化型のコーティングにめられる強靭性と化学的安定性を与えるために選択され、またそれは非常に迅速にかつ便利に硬化して良好な透明度を生ずるので選択され、さらに他のすべての成分と同様にそれは調製して付与するのが一般に低コストでかつ容易であるのでここで好まれ、またさらにそれは（他の部分で述べられるように請求められる“記録保存″保護コーディングを生ずるので選択される。Ｃｅ１ｒａｄ　３２００は比較的低分子量１ｋ（１０００〜２０００の分子量）のアクリルエポキサイドであって、サブストレート上にコーティングを流す場合に便利な程度、の低い粘性に適している。またそれは擦傷抵抗やバルクの強度− １５他の保護的特性を増大させて、かつ特に湿気に対する抵抗を高める（さもなくば、適当な゛湿度デスト′°条イト［の下にその高分子化されたコーティングは、湿気を吸収しすぎることによって膨張してクラックを生じやすくなるであろう）。そのような″゛低分子量″の希釈剤（および他の低粘性添加剤）なしには、この調製は付与するために粘性が高すぎて分厚くなるであろう（後述の好ましいスパイラル付与技術を参照：たとえば、混合物は配給ノズルを通して流れなければならない）。また、硬化したコーティングは膨張してクラックを生じる傾向にあるであろう。その“”３２００”は比較的安価であって他の成分と適合し、まためられる高分子化に参加すると考えられている。しかしながら、３２００は時間とともにわずかに変色する傾向にあり、かつそれはわずかに“グルパの含有（もし濾過されないなら問題となる）を示ずことがあるので、その濃度は通常は実施し得る範囲で最小にされるべきである。技術゛音速は、他の同様な低粘性のコモノマー（またはプレポリマー；低粘性の希釈剤）が代用されて適宜粘性を調節し１ｕることを認識するであろう。たとえば、他のＣｅ１ｒａｄ調製は分子量においてさらに低く、また粘性をさらに低く下げるためにＣｅ１ｒａｄ　１７００と換えることができるであろう。しかし、他の一般的なコーティング用ポリマーは実用的でな（、たとえばあるシリコーン樹脂（Ｊ溶解性と硬化の問題を生じる。トリメチルオルプロパントリアクリレート（Ｔ　Ｍ　Ｐ　Ｔ　Ａ　’）はこの混合物において用いるのに適した゛低分子量″のクロスリンク剤である。トリメデルオル１−リメタクリレ−１−のような伯の類似のクロスリンク剤を代用することもできるであろう。技術音速がよく知っているように、いくつかのそのようなりロスリンク子がコーディングの強度などを高めるために通常用いられ、それは好ましくは他の″′低分子量”のクロスリンク子である。ＴＭＰＴ△またはＣｅ１ｒａｄの省略（等価なもので置換えることなく）はあまりに粘性を低下さｕ１硬化したオーバコニトを軟化させて湿気の侵入を許すことによってその膨張によるクラックの発生を生じる傾向にある（たとえば、後述のＨ−２を参照）。２エチルへキシルアクリレート（２−Ｅｈ　Ａ）は３２００″に対する補足的な有機希釈剤であって、それは最終のポリマーコートの柔軟性（たとえば、擦傷抵抗）の改善とく低い）粘性の調節のために加えられる。技術音速（ユ、イソデシルアクリレート（ｉｓｏ　−ｄｅｃｙｌ　ａｃｒｙｌａｔｅ）のような希釈剤を代用することができることを認識するであろう（しかし、硬さや強靭性は少し影響されるであろう）。 “’　［）　ａｒｏｃｕｒｅ　１１７３”はそのような混合物のそのような（ＵＶ）硬化に適した光学イニシェークである。技術音速はチバガイギー社によるｌ　ｒｇａｃｕｒｅ　＃　１８４またはｆ　ｒｇａｃｕｒｅ＃６５１のような多くの類似のイニシエータの１つを代用してもよい。 ′“Ｆ　Ｃ−４３０”は有機高分子コーティングシステムのための″°非イオン界面活性剤″心して特徴付けられるフルオロポリマーの゛′界面活性°°添加剤であって、゛前述の゛セツティング″の機能を示す。それは濡れ性、平坦化１分散化などの機能の助けとなることが知られており、また成るサブストレート上の成るコーティングの表面張力を減少させるのに適した流れ制御剤として知られている。それは非常に非反応性であって、水ベースまたは溶剤ベースのシステム（およびほとんどのポリマー）と適合するものとして推奨されている。”ＦＣ−，４３０”は成る調節によって類似の表面活性剤”ＦＣ−４３１”（これも３Ｍ社によるものであってイソプロパツールとエチルアセテ−ｊ〜によって５０％薄められるが、それは高い高分子Ｎ量を有していてここでは好ましいものではない）で代用することも可能であろう。また、ＦＣ−４３０は、″変種Ｆ　Ｅ　Ｐ　”のようなりブストジート上の１− （−１のようなアクリル混合物のために前述の°゛セツデイング″作用与える他のそのような界面活性剤で代用することも可能である。後述されるように、ＯＤディスク表面へスパイラルのループ状にモノマーの混合物を付与する過程において（第３図のディスクＣＤ上のスパイラル状のビードｂと後の関連する記述を参照）、そのパビード″が非常に容易に付与されることかわかったことは幾分驚きであった。すなわち、それらのビードは対称形の形でそれらの場所に留まって、たとえば溶媒のステップが始まるときまで比較的わずかに拡がるだけである。この代わりに、後述の例Ｍ−２のように、もしそれらのビードが接触して施されるならば拡がりはすぐに起こる。そのような場合にはいくらかのまたはすべてのＦＣ−４３０が共に配給されるであろう。しかし、ディスクの中心近くで縁を保つ″ことは困難に違いない。ＦＣ−４３０はこの″゛セツテイング″作用高めるようであり、その機能は今まで知られていなかった。ＦＣ二４３０は、第３図と第４図に図解されたタイプの場合に、すなわちディスクを回転させてそのディスクの上にモノマーの混合物を分配する過程においてこの゛セツティング作用“′を高めるように意図されている。なぜならば、そのようにｆ寸与される“ビード″はそれらが非対称に変位しないように遠心力に耐えなければならない。技術音速が理解するであろうように、その非対称な変位は不均等なコーティングの原因ヒなるものである。もちろん、他のコーティング方法を用いることによってＦＣ−４３０添＋ＪＤ剤は重要なものではなくなって省略し得るかもしれない（たとえば、異なった°“ 非セツティング″界面活性剤を使用し１ｑる）、たとえば、サブストレートディスクが混合物を臼与される間回転し続けない場合である（たとえば、その混合物はパ自己平坦化゛スるである。う：後述参照）。すべてではないにしてもほとんどの通常の関連する界制活性剤は不適当であろう。たとえば、ＳＷＳシリコーン社による゛シリコーン液Ｆ−８１５”′は通常のシリコーン界面活性剤であって、平滑性と均一性を促進するためにコーティングにおいて広く用いられている。しかし、それは（間合物１−１−１の）スパイラル状のビードに時機尚早に流れを起こさせる（不十分な“′セツティング″作用；パリング状″または半径方向に非対称な厚さとなる）。Ｅ、　ｈｅｃｒｙｌ− ３５０（バージニアケミカル社）は同様に不満足なものであった。混合物１−１−１はどのような場合にも分配やディスク付与を最適にするように゛′粘性調節′″され、ここで当該環境条件＜ｖ渇、ＦＥＰサブストレート表面など）において最終的な粘性は１００〜ゴ５０ｃｐの範囲内であるべきである。後で提示されるように、Ｈ−１（および同様な混合物）のような調製は広範な化学的な他のどのような添加剤にも全く許容的であって、したがって適当な場合にはそれらの添加剤を加えることができる。硬化：当該ディスクの（ＦＥＰ）表面上へのほぼ完全に酸素が除去された状態での（たとえば、後述のようにＮ２または同様な不活性ガスによる予備洗浄によって）材料の塗布（たとえば、後述のスパイラル技術を介して：サンプル■参照）にＪ５いて、そのコーティングはディスクがゆっくりと回転されている間に紫外線による数分間の露出によって光硬化する。これにより−（良好で十分に硬化したパ硬質″オーバコーティングか形成される（補足的な熱が不要で、高分子化を完成させるための時効時間が不要）Ｃより特定的にかつ好ましくは、窒素による予備洗浄（たとえば、すべての酸・素を除去するために約３０秒）から始められ、次に窒素下において約１分から３分の間またはそのコーティングを必要なだけ硬化させるのに十分なだけしｊ＼ｌに露出させる。好ましくは、これはディスクをゆっくりとくたとえば、１　、／　２　ｒｐｍから２ｐｐｍ）回転さｔ！ながら行なわれ、その間に約４００〜８００の扇形が各瞬間においてＵＶにさらされている。好ましいｔＪ　Ｖビームは２つの熱フィルタに通されて、それは単色ではないが大部分が０゜３〜０．４μｍの範囲の２内にあり、強度はλとともに変化する（たとえば、０．３６６μｍにおいて１／２分〜５分の照Ｄ１１．１１００ｍ　Ｗ／ａｍ２）。用いられるイニシエータが少なくて硬化に長くかかるような場合は、等価な長い低強度による露出よりも比較的高強度の知い露出の方が好ましいようである。明らかにそれは″酸素クエンチ”を妨げるからである。プロセス最適化：１、　小さな気泡は゛′ピンホール′°または類似の散乱場所を生じゃすい：溶液の真空説ガスとその後の注意深い取扱いによってこれを除去できる。２、　コーティングの゛オレンジビール″組織が起こりやすい、それは硬イヒ雰囲気において酸素を除去することによって防ぐことができ、たとえばその硬化は３０秒間の窒素による予備洗浄と硬化サーイクル中の窒素の使用によって行なわれる。これはまた硬化時間を著しく短縮する。適当な場合には、（長期の記録保存寿命にわたる）適当な安定性の保証に注意しつつかつ（たとえば、熱影響による揮発または不適切な硬化による）材料の応力クラックまたは分解の発生の防止に注意しつつ、他の関連する技術および／または材料とそれに付随する調整で代用することかできることを技術音速は認識するであろう。照射硬化は他の関連する方法より好ましい。たとえば、゛′過酸化硬化″は一般に制御ａＩ］づるのが複雑でかつ困難であって、それは短いパポットライフ″を示す。さらに、その過酸化硬化反応は発熱的かつパカス放出的″であって過熱されやすく、制御するのが困難でかつ取扱いに危険が伴なうことを技術音速は認識するであろう。たとえば、過酸化硬化の良好な制御のためには、温度は低（保たれなりればた、ガスが放出されるので、もしその硬化が迅速に進めばこれらのガスは適切に消散されずに、望まれざる曇りを含むこととなり、光を散乱する半透明の］−ティングとなる。結果：混合物Ｈ−１は、ディスク（ＦＥＰ表面）上に付与されて硬化されるとき、硬質で透明な保護コーティングを与え、前述の当該要件（たとえば、湿気の侵入とそれに関連する膨張クラックを防ぎ、優れた光学的透明性を備えかつ良好な擦傷抵抗を示し、さらにたとえば室温における単純な石油洗いによって容易に洗浄される）のすべてを１．ｔとんど満足することがわかるであろう。耐湿性は特に驚異的かつ印象的であって、たとえば１００％の不浸透性ではないが、この硬質コートは水中への長い浸漬（１回のテストにおいて１４日間）の後であっても膨張クラックは生じない。同様に、その硬質オーバコートは厳しい温度／湿度サイクリング（たとえば、Ｍｉ温から１４０℃で約４０％の湿度から８０％の湿度までの範囲で何週間もの間）に耐えることが観察された。さらに、この外部コーティングは長期にわたる安定性を示すことがわかる。たとえば、かなり厳しい温度／湿度サイクリングに対する長期間の露出に耐え、またその硬質コーティングはＯＤＤの他の層へ移動して劣化させがちな（表面活性剤または感光性化剤またはそれらの副産物のような）゛′低分子重量成分″を含まないようである。この゛安定性″とそれに関連する強靭性などは、生成されたそれぞれのクロスリンクされた長いチェーンのポリマーグループから生じると考えられる。また、この硬質コートは請求められるようにＦＥＰ″′軟質バッド′°に十分に粘着する。その硬質コートおよび／または゛軟質バッド″が変えられればそのような粘着力は生じないであろう。そのような場合、適合し得る（たとえば、十分に透光性の）″粘着性の中間層″が必要とされるであろうが、それは好ましくない（たとえば、それ（よ厚さの制御を複雑にする）。フォトイニシエータの濃度は重要なようである。過剰な温度のイニシエータはコーティングの下側部分の硬化に先立って上側の表面部分の時機尚早な硬化を生じて、その硬化したオーバコートに大きな゛′皺″を生じる結果となることが観察された。これは明らかにその上側表面がまず硬化して収縮し、そして比較的まだ硬化していない幾分液状である下側部分に対して滑るからである。また、粘性と平坦化特性を制御することも重要である（たとえば、混合物日−１の粘性を平坦化するのに十分なほど低（かつセットするのに十分なほど高く保つ）。アクリルプレポリマー（混合物Ｈ−１）の粘性の制御は付与されるコーティングの良好な゛平坦化′″のだめの１つのキーである。１；とえば、もし粘性が低すぎるならば、そのコーティングビードはあまりに容易に°流れ″を起こして適当に゛セットアツプ″シないであろう。もし粘性が高すぎるならば、ビードはあまりにゆっくりと平坦化しまたは完全には平坦化しない、これに関連するコーティング技術分野の技術音速やそのようなアクリル材料を調製して用いることに関係する人達は、広い領域にわたって°゛比較的そんざいに″配布されたものである比較的分厚いコーティングの均一性に驚かされるであろう。すなわち、７ｐ＋ｉｌまたは１８０μｍのコーティングを３インチから４インチのコーティングスパンにわたって±０．７〜７μｍのオーダに制御することは全く注目すべきことである（たとえば、第３図の４インチのバンドＢｌ、参照、それは１４インチディスクｄの周囲から６インチの半径方向の点まで延びている）。ところで、技術音速は、アクリルコーティングおよび他の同様なコーティングであって金属オーバコーティングのためのベースとして自動車工業におけるようなまたはフォトレジスト技術におけるようなどちらかといえば関係の薄いある種の応用のためのコーティングについても知らされた。しかし、これらの他の応用は比較的゛高粘性材料パを利用し、通常は厚さの正確な直接的な制御のようなものは何も行なわれずに幾分大雑把な方法で幾分薄い厚さにノズルでスプレーされる。自動車工業における類似のコーティングのためには、犀に滑らかで見栄えの良い外観だけがめられる。しかし、レーザ検知される散乱限定された光学的特性は、平滑さや均一性においてはるかに厳密なもので後述のように（混合物１−１− １　Ａ　＞修正された特性以外は例■が繰返されて、その混合物は同様に調製され、かつ同様に付与されて硬化される。混合物Ｈ−１八　重量割合　比較（ト１−１）Ｃｅｌｒａｄ　１７００　８０　（１２０）Ｃｅｌｒａｄ　３２００　８０　（４０）ＴＭＰＴＡ　１６０　（同一）２−ＥｈＡ　１８０　＜　ｎ）合計　５０７．５　（）Ｉ）結果：粘性が低くくここでは３２００が多めに用いられて１７００が少なめである）、その混合物がより容易に流れて拡がること以外は例■の場合と同様である。ＬＬ：異なった混合物”　ｌ−１−２”が下に示したように調製されることを除けば例 ■が再現されて、その混合物は同様に調製されかつ付与されて硬化される。混合物Ｈ−２重量割合　比較（Ｈ−１）Ｃｅｌｒａｄ　１７００　１２０　（１２０）（Ｃｅｌｒａｃｌ　３２００　・・・除＜）　Ｏ（４０）（Ｔ　Ｍ　Ｐ　Ｔ△　・・・除＜）　Ｏ（１６０）２エチルへキシルアクリレート　１８５　（１８０）＜、　２−　Ｅ　ＩＴ　Ａ　） ’ＦＣ−４３０”　２．５　（２，５）合計　３１２．５　（５０７，５）結果：そのオーバコートがより“′軟質″であって湿気を吸収して“膨張クラック″を生じやすいことを除けば例Ｉの結果とほぼ同様であった。ＶＡＬ：イソデシルアクリレートが２−Ｅｈ　Ａと置換えられたこと以外はＨ−１と同様のもう１つの代わり得る混合物Ｈ−３が調製されかつ句与されて硬化される。据ユ命ｊ挾」１ユ、β−重量割合Ｃｅ１ｒａｄ　１７００　１２０Ｃｅｌｒａｄ　３２００　４０ＴＭＰＴ△　ｉｅ。イソデシルアクリレート　１８０結果：擦傷抵抗（表面硬さ）が改善されるが幾分膨張クラックを伴なうこと以外は、はぼＨ−１と同様である。好ましからざる調製：幾分驚くべきことに、成る同様な“照射硬化型アクリル゛′の混合物は実際的でな（て当該目的に好ましいものでない。たとえば、下記の混合物Ｈ−４のような調製は（意図された０、４〜０．８μｍの波長において）十分に透明かつ透光性ではなくて、特に光硬化後において曇ったり変色しゃすいものである。混合物Ｈ−４：２−ＥｈＡの゛柔軟性ポリマー″を゛ステアリルメタクリレートで置換えること以外は混合物Ｈ−１が再現される。結果：いくらかの′曇り″などが現われる（上記のように：明らかに相分離による）。そのコーティングは十分に透明ではなくて透光性ではない。混合物Ｈ−５：２−ＥｈＡがメチルメタクリレート（ＭＭ△）で置換えられること以外は混合物Ｈ−１が再現される。結果：スパイラル状のイ」与が全く満足のいくものではない（明らかに粘性が低すぎる）。また透明性が損われ、かつ硬化による収縮が大きい。　艷Ｃｅ１ｒａｄ　１７００と３２００がアクリルウレタンで置換えられる以外はＨ −１のようである。結果：パ曇り″および膨張、クラック、さらに分離が過ぎる。混合物Ｈ−６のアクリルウレタンのような関連するアクリルポリマーが前述の゛ ′Ｇ度テスト″の下にクラックと剥離を生じかつ／ま、たは謬見の吸収の結果として曇ることがわかったことは驚くべきことである。たとえば、ト１−１の成る変更例は硬化に際して剥離して乃−ルし、厳しい温度／湿度サイクリングの後にサビングコーティングを引き剥がして小片破壊してしまうことがわかった。また、その硬質オーバコートが多くの湿気を取り込むことも驚くべきことであった（明らかにその°゛硬硬質パフアクリルコーティング考えられていたよりも親水性のものである）。また、前述のタイプの添加剤の成るものは、形成されるオーバコートを曇らせるかまたは変色させるようである。たとえば、ＭＭＡ　（Ｈ−５参照）のような七ツマ−に溶媒樹脂を溶すとき、″ “オイルスポラ１〜″が結果として現われたく明らかに成る成分が時機尚早に高分子化されて折用するからである）。コーティング方法；以下は、ＯＤディスクの外部保護オーバコー１〜を形成するために（ＦＥＰのような）ＯＤデイスクサブストレジー−上に前述の例のような“硬質］−ティング ″混合物を付与するための新調な技術の例である。特に数ｍｉｌ厚さで高い均一性のものが照射によってその揚砂化されて、前述の長い寿命にわたってそのディスクのために前述の環境などに対する保護を与える。これらの技術は、非常に正確な厚さとその摩さの均一性を制御できる便利でかつ経済的なコーティングと硬化の方法であることを認識するであろう。当該コーティングでは約７■１１の高度に均一な厚さに付与されるが、技術者】室は約３Ｑｍｉｌまでの厚さが満足できる状態で形成されることを認識するであろう。前述のような゛′硬質コートの調製″は、ここでのもう１つの特徴による（たとえば、後述のような○Ｄディスクへの）新規な゛′スパイラル″状の付与の方法に全く適するものであることを認識するであろう。そのような材料は、配付の驚くべき簡単さと容易さにもかかわらず、前）本の驚（べき正確さの厚さの均一性の制御に適するものである。たとえば請求められるコーティング厚さを知ることによって、そ、の厚さに対応する走行距離あたりのビード質■（ｇｍ／ａｍ）の値のビードに容易に換算することができる。その場合、平坦化機構によって予め決定されるスパイラルの間隔で必要な数のスパイラルを実験的に決定する。たとえば、第３図におけるバンドＢｌ）に近い約３．５インチから約７インチの半径に拡がっているスパイラル状のバンドに関して、これらの条件の下に２０〜３ｏのスパイラルが約７１１厚さの非常に均一なコーティングを与えることがわかった。一方、１０またはそれ以下のスパイラルはひどく乱れた厚さの均一性を生じ、３ｏよりはるかに多いスパイラルは多すぎる。いかなる場合にも、スパイラルは重なり合ってはならない。したがって、技術習性は、意図されたディスクの回転速度（たとえば、ここでは４〜１０ｒｐｍ）が与えられれば、その材料の供給、速度を計算して制御することができる。この簡単な技術によって一定のコーティング密度を付与することができる。すなわち、均一な″ビード″サイズはノズルからの成る一定の配給速度を必要とする。認識されるであろうように、スパイラルの回転長さにおける一定の変化にもかかわらずビード寸法と間隔を一定に保つために、ノズルの半径方向の移動速度および／またはディスクの回転速度が調節される。ディスクの回転は、材料が付与されたならばその材料を゛′移動″さじたりまたは歪ませたりするようなものであってはならないし、もちろん゛遠心力″′によってディスクから落してはならない。今、調製１ｆ−１が第゛１図における○Ｄテ′イスク表表面へ成る好ましいスパイラル様式で付与される場合について述べる。これは、前述の３重製の光学記録構造が付与されてさらにこの上に改善された″′真空蒸着のＦ　Ｅ　Ｐ　”の層（または類似の“軟質パッド″高分子表面）を備えたアルミニウムディスク徊して１眉さ′れる。一般にその方法は、所定の（ＦＥＰ）ディスク表面上に所定の数のスパイラルの列またはパビード″でコーティング材料を付与することを伴なうのがわかるであろう。−次に、それらのビードは非常に平滑でかつ均一なコーティングに拡げられるかまたはパ平坦化″される。その後に、このコーティングはめられる“硬質 ′″保護オーバコートを形成するように硬化させられる。この付与方法の成る特定の好ましい形態のい（つかが述べられる。例Ｍ−１：　ＦＥＰサブストレートへのＨ−１の・（″溶媒平坦化″）ニステップ＃１：　混合物の調製：新規なコーティング方法の好ましい形態が述べられる。好ましい硬質コーティング混合物（好ましくは上記の”　１−１−１　”　）は、均一で対称な゛ビード″のスパイラル状のＪＩＪでディスクに付与するために選択されて用意されかつ配置されることがわかるであろう。その後に、それらのビードは同時にゆっくりと回転されているディスクによって゛溶媒平坦化゛（所定のＦＥＰ表面上にヒートの迅速かつ高度に均一な゛平坦化″）される。そのディスクの回転は非対称な重力（振動または不等方なディスクの向き）を打消すのに十分なだけの速さであり、かつ材料が軟化されて平滑かつ均一な層になるときにその材料の２方向の対称的な定着化を乱すような遠心力を生じないほど十分に遅いものである。ステップ＃２：”スパイラル状ビード”°としての配付：より特定的に第３図と第４図を参照して、混合物Ｈ−１は技術音速が知っているように往復運動可能なアーム△に取付けられたく技術音速が知っているような注射針のような）所定の制御された割合で配給する手段ｎへ与えられる。ノズルｎは、一定の割合で当該ディスクｄの表面（ＦＥＰ）上にその混合物の所定の注意深く制御された均一な流れＳｌを配給するために、周知の手段によって用いられて制御される。それは好ましくは第３図に示されたディスクの周囲からスター１〜する。こうして、第５図と関連して後述されているように、遠心力Ｆ、はガ立させられて、隣接する拡がりつつあるビー１５からの押圧力Ｆ　に−よるいくらかの拡がった変位と対立する。その間、アーム△はディスクｄの半径方向く内向き）に連続的に変位させられて注意深・く制御されることがわかるであろう。そうして、この流れｓｔはディスクｄが回転する間そのディスクの半径方向に動いて、それによって特定のスパイラルＳＲを描く。たとえば、アーム△はビードの均一な間隔と寸法を保ちながら磁気記録ヘッドに用いられるようなりニ７ノモー夕によって移動させられる。必要な場合にはディスクのｒｐｍも変えることができる（後述参照）。技術音速が認識するであろうように、均一なサイズのビードを配列するために、ディスクのｒｐｍ　。アームの速度、および配給割合の３つの変数のうちの１つまたはいくつかを変えることができ、しかし他の変数は一定に保たれる。したがって、ノズルｎはディスクｄが回転されている間にそのディスクの所定の半径を横切って制御可能に移動させられる。そして、技術属性が認識するであろう−ように、均一な間隔とサイズと形の″ビード″部分すの連続的で均一なスパイラルＳＲとして混合物を展開する。その混合物は、そのようなスパイラル（たとえば、３．５インチの半径方向のバンドＢ　にわたる２５本のビード）を形成するために所定の割合で配給するよ゛うに設けられた周知の圧力オリフィス制御手段（詳述せず）を介してノズルｎへ与えられる。技術音速は、３つの隣接するビートの列すを示す第４図の断面部分概略図に示されているように形成されたビード分布を認識するであろう。それらの列は所定のギャップｇ９で隔てられており（注：　それらは触れ合ったり重なり合うことはない〉、またそれらの断面形状２寸法、および分量はく当該技術分野で周知のように前もってなされた適切な計算による）所定の値に保たれて用いられ、均一に平坦化さ・れればディスクｄ−トにめられる厚さの保護オーバコートを生ずる（第２図の外部コーティング９参照）。たとえば、“通常の′″　（部屋の）温度において混合物Ｈ−１を用ｄＸてかつ前述のような高分子化されたＦＥＰのサブストレー１〜表面を用いて、約３．５インチの半径から始めて約３．５インチ幅のディスクバンドにわたって均一に配列された２０本から３０本のスパイラル部分すはく適当な平坦化と硬化を仮定して）約７ｍ１ｌ厚さの高度に均一なコーティングを生ずることがわかった。一方、１ｏ本またはそれ以下の列はコーティング厚さをあまりに減少させてその厚さを不均一なものにした。また、もし最小ギャップ９ｇＳ維持されずに特にもし列ＳＲが重なり合えばめられる正確な厚さ制御を達成することは事実上不可能であった（その制御は７ｍ１ｌコーテイングに関して±０．７〜７ミクロン；これはそのような簡単なコーチインク装置を用いてそのような大きなザブストレート上に与えられたこの材料としては全く驚くべき均一性である）。配給割合が一定に保たれる場合、均一なビードを形成するためにディスクの回転を変えることができる（たとえば、最も内側の半径において４〜５　ｐｐｍのオーダの場合に徐々に減速して最も外側において約２　ｒｐｍになり、そして均一で一定のビード分遣を与える）。均一で等間隔の列すを〒「持するために、アームＡによるノズルｎの半径方向の移動も当該技術分野周知のように（ディスク中心からのその距離に従って２制御的に変化させられる。この代わりに、技術音速がよく知っているように、同一の均一なスパイラルを形成するために配給割合を変化させてもよい。詳述されたディスクの回転とアームの移動（よ均一に隔てられた″′ビード″を形成するであろう（それは所定の間隔ｇｇで半径方向に配置されており、たとえば好ましく　Ｌｔ　３　。５インチの半径方向のハントにわたって２５本のビートが並んでいる〉。離隔距離ｑｇは成る限度内において変えることができる。しかし、いかなる場合においても、゛ビード″は重なる″べきではないし、他方また、意図した１゛溶媒平坦化″によってビードが流れて１つになって目標厚さの均一性を形成し得ないほど遠く離れてもいけない。また、各ビードは適当に゛盛上がる″ことができるように十分なサブストレートとの接触（面積）を得るのに（その高さに対して、すなわち良好なｗ／を比を得るために）十分な幅のものでなければならない。次に、このスパイラル状のビード付与が十分になされれば、流れＳ［が終了させられて、そしてディスクの回転は″溶媒平坦化″のためにセットされる（好ましくは約１〜２ｒｐｍ）。前述のように、Ｈ−１のような混合物はこれに関して魅力的なものである。なぜならば、それは所定の均一で対称な形態を維持しかつ十分に“セットアツプ″するからである。そして、ディスク表面に対する゛ビードの傾斜″は比較的″急峻 ″（通常に比べて小さな゛濡れ角度″）である。すなわち、ビードは平坦化のために溶媒蒸気と触れさせられてその濡れ角度を急速に増大させる寸で崩れ落ちたり移動したりまたは変形したりあるいは（第４図と第５図において示されているような）その対称性を変えてはならない。前述のように、ＦＣ−４３０添加剤はそのような（ＦＥＰ）サブストレート上の（そのような混合物の）ビートの濡れと“セットアツプ′”を制御して改善するために選択されて設計される。ステップ＃３：　溶剤平１■化：次に、スパイラル状の配列のビードは溶媒蒸気の均一な゛霧″にさらされて、それによってビードの表面とそれとかかわりあう（ＦＥＰ）サブストレートは急速に゛濡れる″くそれは溶媒の凝縮により、好まし・くけすべてのビードと露出しているサブストレフトにわたって凝縮した比較的連続的な薄ｎψを生じる）。そして、濡れている表面張力を即座に下げて、ビードを゛″軟化′°させて一急速に゛′平坦化″させるくずなわら、即座に拡がって重力によって押え付（プられ、そして対称的に平坦化してめられる均一なコーティングとなる）。正確な厚さ制御が非常゛に重要であることが認識されよう。したがって、もしそのようにコートされたディスクｄの表面が完全な水平面になくてそのヒートにかかる重力が完全に対称ではない場合、いかなる不均一性または非対称性を打消すの１こ十分なだけディスクｄを回転させなければならない（当該分野の技術音速が認識するであろ−うように、溶媒平坦化の間のディスク面の“振動″やそのようなものをも打消す〉。したがって、溶媒平坦化が始まるとディスクｄは好ましくは回転される（たとえば、ここでは１〜２ｒｐｍ）。そしてそのビードの流れは比較的完全なコーティングの均一性を与えるであろう。しかしその回転は遠心力による流れを生じるほど速いものではない。所定の溶媒蒸気へディスクｄ　（その上に（ユスパイラル状のヒートが施されている）をさらすとき、そのディスクをフード内に置いて所定の圧力と濃度の蒸気を導入することができる（または技術音速が認識するであろうような他の方法によって）。したがって、そのようなビートの軟化と溶媒平坦化に関して、その溶媒が列ｂ（ビード）とそれとかかわり合う「ＥＰサブス１〜レート上に比較的均一で連続的なフィルムとして非常に迅速に凝縮し、それらビードとサブストレートを互いに ′濡れ′°さけるように溶媒とその他の条件を選択しなければならない。そして、令状化されたビードが隣接するＦＥＰ表面をカバーするように（重力によって押え付けられて）崩れ落ちて流れるのに十分なだけ溶媒が凝縮される（その溶媒は良好な″濡れ″を促進させ、この場合それはＦＥＰに対する混合物Ｈ−１の濡れである）。ここで簡単のために、アセｌ〜ンがその溶媒として用いられることを仮定し、さらにそれはビード上とそれとかかわり合うＦＥＰサブストレートにわたって迅速に凝縮できるような条件〈温度／圧力環境）の下にそのビード上に蒸気または飽和されたｒｒ　ｆＩ　＋＋として単に注がれると仮定する。たとえば、ここではこれらの表面全体が急に“光沢″を帯びるが、液滴や大きな液溜りは示さない。すなわち、ビードまたはディスク上に）凝縮゛液滴″または大きな液溜りを止しないほど少なく保たれ、もしそれが起これば揮発性を増大させねばならない。この露出は、当該パヒード゛を即座に軟化させてそれらを迅速に互いに流し合わせるのに十分であろう（この例の場合、実際に瞬間的である）。溶媒の揮発性は好ましくは十分に高いものであって、したがって一度ビードとそれとかかわり合う（ＦＥＰ）ディスク表面が十分に儒らされたとき、その溶媒蒸気は迅速に揮発して消散するであろう（またはたとえばポンプ引きによって抜き去られる）。したがって、平坦化の間に溶媒はほとんどまたは全く残存しなくて好ましい。そのような゛溶媒平坦化″の結果は驚くべきことである。隣接するビードは゛平坦化″動作において１つに流れ合うのが観察され、それは驚くほど迅速でかつ注目ずべきコーティングの均一性を形成する。溶媒特性、一部変更：溶媒は、当該作用温度、ナフストレート表面、および混合物の化学的性質に照らして、この温度においてサブストレフト（ここで（まＦＥＰ）に対してその混合物の表面張力を減少させるように選択されるであろう。それによって、その混合物を軟化させて容易な流れを生じて”平坦化゛°させる。すなわち、溶媒はこれらの条件に関して特定化され、かつそれらの条件が変われば調節を必要とするであろう（たとえば、異なったコーティング混合物または異なったサブストレート表面に関して）。ここでのアセトンのような溶媒の使用にお（プる１つの利点は、硬化が開始する前に溶媒が蒸発せずに残留するということがほとんどまたは全くないということである。それ以外の方法では、コーディング混合物１−１−１との共重合が期待できる溶媒を代用しなければならず（メチルアクリレート溶媒はそのように共重合し得る）、また高分子化を決して抑制するものではないかまたはめられる特性に全く影響しない溶媒を用いなければならない。この代わりに、当該分野の技術音速が認識Ｊ−るであろうように、成る場合には十分な揮発性を備えていればポリスチレンモノマーが平坦化溶媒として用いることができ、また）まエチルアセテート、塩化メチレンあるいはメチルエチルケトン（ＭＥＫ）のような溶媒を用いることができる。スチレンはそのアクリル混合物と少なくともある程度共重合すると予想されるが、他のものはそうではないので十分に揮発させてしまわな【ブればならない。したがって、ディスク表面の特性または化学的性質を変えることはくたとえば、ＦＥＰ上に薄い酸化物の“フラッシュコーチインク″を用いて）、一般にパ濡れパ特性を変えてその“平坦化作用′°に何らかの変化を生ずるくしばしば異なった溶媒蒸気を必要とする）。たとえば、Ｆ　Ｅ　Ｐ上のＡ（ｊｚｏ＝またはＳｉＯあるいはＳ　ｉ　Ｑ　２の薄いフィルムは濡れを促進させるようであり、特に前）ホのアセトン溶媒蒸気を用いたときに著しい。また、そのような゛溶媒平坦化″を用いる場合は、ナブストレートに始めからあまりによく濡れるものでない混合物（たとえばＨ−１）を調製する。さもなくば、その混合物はスパイラル状に付与されている間にその形を維持するのに十分なほど良好にサブストレートに゛セラ１〜アツプしないであろう。たとえば、その混合物はスパイラル形成中にディスクが回転されるので溶媒と接触する前に遠心力によって非対称に崩れ落ちるであろう。ＦＣ−４３０”界面活性剤パのような ”セットアツプ″を促進する添加剤はも、ちるんこの点に関して助けとなる。同様な理由で、ビード１はサブストレートと十分な接触面積を持たなければならない。混合物の粘性の制御は良好な分布と均一な定着を得るために非常に重要であることがわかる。たとえば、混合物Ｈ−１へＭＭ△のようなより揮発性の七ツマ−を加えれば、ＦＥＰサブス１〜レー１−の過剰の濶れによってビードｂの間に非常に凝縮しやすくなり、したがって不適当な゛セットアツプ″を生じて時機尚早のビードの°′定肴″を起こす。逆に、゛脱落部″または“ピンホール°′が生じないように注意しなければならない。それらは溶媒がほとんどまたは全く凝縮しないボイドであって、そこは異なった゛濡れ″または全く濡れない状態となる（注：　周囲の温度が上がればそのようなボイドが大きくなるようであり、これはおそらく溶媒の蒸発が速すぎるからである）。もちろん、その混合物が即座に゛自己平坦化″シ得るものの場合には、溶媒にさらす必要はないであろうし、またその混合物を′°セットアツプ″するためにＦ　Ｃ−／１．３０のような界面活性剤をも必要としないであろう（後述のＭ−２参照）。ステップ＃４：　（硬化）：完全に平坦化してディスクｄの表面にコーティングが均等に分布されれば、それはめられる硬質の保護オーバコーティングを生じるようにそのまま（さもなくば処理されて）硬化される。そして、ディスクの回転は静められてそのディスクは硬化条件に置かれる。それは好ましくはコーティングの均一性が損われないようにまたは汚染物の導入（たとえば、その粘着性の表面上への埃の定＠）が起こらないように、そのディスクを°“溶媒平坦化″ステーションから動かすことなく行なわれる。したがって、Ｕｖ硬化はその溶媒平坦化ステーションで行なわれる。すなわら、材料が当該ディスク表面に均等に拡げられれば、そのコーティングは適当に硬化されてパ硬質″となるまで不活性雰囲気（たとえば、すべての酸素を追出すようなＮ２吹付け）において紫外線への露出によって光硬化させられる。０．３〜０．４μｍのＵＶ（たとえば、０．３６６μｍで１００ｍ　Ｗ／ｃｍ２（１）強度）ヘノ約５〜２０秒のトータル露出で十分であることがわかる。この代わりに、他の同様な硬化方法（たとえば、電子ビームまたはＩＲ熱照射もある場合には適当な調節（たとえば、フォ１−イニシエータの濃度の調節など）を行なうことによって用いることができる。結果：前述のように、厚さの均一性（公称７ｍ１ｌコーテイングに関して３．５インチのバンドにわたって±０．７〜７μｍのオーダ）は全く注目すべきものであって、特にその付与装置の簡単さと用いられるコーティング混合物のタイプの観点からして注目すべきである。前述のように、硬化の時間と温度はその他の処理条件と同様に全く都合の良いもにかなり高くなった場合に、流れの速度が増大したり平坦化が速くなったりしなかったという事実は幾分驚くべきことであった。むしろその列は、よりビードが盛上がって、拡がるよりもむしろ幅が狭まるようであった。その原因は確実にはわかっていないが、溶媒（アセトン蒸気）が適当に凝縮して表面を濡らすには熱くなりすぎたためと考えら溶媒平坦化ステップを用いる必要なしに直接゛自己平坦化″を生じるように隣接するビードが実際に接触して置かれる例であって、後で詳述されること以外は例Ｍ−１が繰返される。より特定的に言えば、硬質コーティング混合物くたとえば、Ｈ−１）が再び用意され（ＦＣ−４３０は必要でないかもしれない；上記参照）、ディスク上に連続的なスパイラル配列として配付されるが、ビード間のギャップｇｇ（第４図）はほぼゼロに減少される。これは第５図において理想化されたシーケンシャルな様式で幾分概略的に示されており、最初のビードｂ−１が破線で示されている。ビードｂ−１は実際上即座に崩れ落ちて平坦化しく実線のｂ−１）、したがって隣のビードｂ−２が置かれるときにそれは（少し拡がった）ｂ−１と接触するであろう。ｂ−ｉの拡がり動作″はｂ−２をディスク中心の方へ押圧する傾向となる（拡がり力Ｆ５参照）。したがって、連続的な各ビードは自己拡がりをそのように押圧されるので、ディスク中心の方に向けて幾分非対称になる（破線の１ｍ− ２を参照）。外側から内側へスパイラルを描く方式はディスクの回転による遠心力成分（ＦＣ）を拡がり力Ｆ、に対向させるように意図されている（第５図の矢印を参照）。配（＝Ｊされた混合物のパターン（スパイラル状の列）に゛′平坦化溶媒″を与える必要なしに゛自己平坦化″を起こさせるために、温度／サブストレート条件によってその混合物の粘性における適当な減少がめられるであろうことを技術音速は認識するであろう。より遅いディスクの回転（または無回転）やＦＣ−４３０の他の表面活性剤への置換えのような他のいくつかの適用するだめの調整も勧められる。もちろん、ディスクｄの表面を確実に水平面に維持するとい−う問題は依然として存在するであろう。したがって、°゛振動′″または不均等なパ重力″を打８！ｌｔために適当なディスクの回転が勧められる。したがって、゛′自己平坦化″するビードを用いることによって、多くの場合に用いられる溶媒平坦化を省略して簡単な゛ワンステップ″のコープインクシーケンスが実現される。その硬化はＭ−１の場合のように行なわれ、その形成されたコーティングはＭ−１の場合と本質的に同じであろう（実際は、いくつかの場合において均一性が優れている）。もちろん、前の場合のように、流速（ｒｆ、ノズルｎがらディスク上へ）、ディスクのｒｌ）ｍ　＜Ｗ、（）　、およびアーム速度（Ｖユ）の３つのファクタは、いずれの場合においてもビードの位置の変化（すなわち、各ビードセグメントの半径方向の位置ｄｂ）にかかわらず均一なサイズと形のビードを配信するように調節されるであろう。この特定の例として第６図ないし第８図が示されている。第６図は、一定に保たれた流速＜ｒｊ　）においてディスクのｒｐｍ　（Ｗ、（）とアーム速度（Ｖｉ　）を比較的均一に増大させて（たとえば、ディスクの周囲から開始してほぼ１：２のように）、最終的なコーティング厚さｔｌ：がディスクの半径方向にどのように変化するかを（非常に概略的に）描いている。この ″自己定着″作用は均一なコーティングのプロセスを複雑化していることがわかる。これを矯圧するために、第７図とＭ８図に示されているようにｒｐＨｌを連続的に増加（Δ〜￥ｄ−αメーφ半径）させかつアームを始めに幾分加速（ａニー△ Ｖａ／ｊ）して次に幾分減速し、そして最後に加速（ａニーφ′半径）させる修正されたモードにおけるコーティングを我々は提案する。ディスクのｒｐｍはいかなる場合にも好ましくは最小限にされるであろう。すなわち、一般にそれはそれらのスパイラルが゛′相互流れ″をちょうど起こし得るようなｒｐｍである。今までに、技術音速には″デフＡ−カシングオーバコー十″′を付与する他の方法が示された。たとえば、１　ｅｖｉｎの米国特許第４．３４０，９５９号ニオイテ、０．０５〜１゜０ｍｍのシリコーン樹脂（またはエポキシ）コーティングが示されており、そのコーティング技術においではディスクがモールドとして配置される必要があって゛スピニング″方法による付与は排除される（　ｌ　ｅｖｉｌｌによって引用された参考文献を見よ）。第７図において、流速が一定に保たれた場合についてｗへとＶ工における変化がビード位置（ｄｂ）の関数として表示されている。第８図において、それらの値が幾分理想化されて描かれている。スライダの速度変化（加速）は幾分驚くべきようなものであることがわかった。すなわち、最初は徐々に速度を増加しく第８図において曲線■の位ばａ→ｂ）、次に急速に落ちて（位置ｂ−１ｃ）、最後に連続的な増加モードにされる（指数的増加；位置ｃ−＋ｄなどを参照）。それは、ビード厚が最初“軽″＜て次にそれが増大するので、ある種の平衡状態に到達するまで（位置Ｃ）スライダアームの減速が必要となり（位置ｂ−＋ｃ）、モしてビードの円弧の減少に対応して連続的な加速が必要となまた、どのようなコーティング付与技術が用いられようとも、濡れ粘着性または他の特性を高めるために上で示されたようにサブストレートを予備処理することが勧められ上に付与されて溶剤平坦化されるＨ−１）またはその変更例に従えば、（ＦＥＰ）サブストレー１−の親水性や１−（−１ビードのそのサブストレートへの濡れ性を高めることが望まれよう。そのような場合、Ｈ−１または類似のビードを付与する前にＦＥＰ上にＳｉＯ□の非常に軽い“フラッシュ″コーティング（たとえば、第２図の層ｆ上のＳｉ　０２　）を施せば都合の良いことがわかった。ｌ二４：　（ＦＥＰが吸収体をサンドイッチ状に挾んだＭ−１のようなもの）：両方のＦＥＰ層がその３重層に共通な真空チャンバで蒸着されることによってサンプル■が再現される。ＦＥρ゛スペーサ″はｎλ、／４光学厚さであって、一方、ＦＥＰ“軟質バッド″スーバコ−１〜は約１〜２μｍ厚さである。（たとえば、好ましくは吸収体フィルムの厚さの１００（８のオーダ）。その゛硬質″オーイくコーティングは表−面の埃などをデフォーカスするのに十分な厚さのものであって、上記の好ましい方法Ｍ−２におけるように施される。異なった利用：そのような゛硬質”コーティングは変更された゛軟質パッド″コーティングのような幾分異なった他の表面へ施すように調製し得ることを技術音速は認識するであろう。また、そのサブストレート表面が根本的に異なったもの（たとえば、ＧＥ社のＲＴＶのようなシリコーンエラストーマ）の場合であっても、成る場合には、゛°不適合な″′サブストレートが上記のような゛硬質”オーバコートの付与に適応するように予備コートまたは他の予備処理を施し得ることを技術音速は認識するであろう。たとえば、プラスチックのコーティングや加工の技術において、“濡れ性″を高めるために広範な種々の高分子サブストレートを処理するための種々の方法が知られている。たとえば、ハロゲンまたは活性な酸化剤によって軽く酸化させるか、またはプロパントーチによって軽く焼くか、あるいは放電によるか、さらに前述のように８１０２のような予備コートを挿入するような方法である。それらは適当な場合に利用することが５できるし、本発明と組合わせることも可能である。、ここで述べられた好ましい実施例は単なる例示であって、本発明はその構成や利用において発明の精神から離れることなり！りの匣正や変更の可能なことか理解されよう。たとえば、ここで開示されたようなものに類似した°゛軟質バッド′°コーティングは、他のサブストレートおよび／または他のスーパコーティングを有するサブストレートを保護するためにもｊ音用できるであろう（たとえば、与えられた゛°隔離″を有利に利用するために）。また、本発明（よ他の同様な記録゛材料に隣接するパ隔離層″を備えるために利用し得る。さらに、ここで教示されたものと類似の″硬質′°外部コーティングは、もちろん類似の目的のための他のサブス）−レートをカバーして保Ｗｉするように用い飛ことができるし、前述のパスパイラル″コーティング方法はく適当な調整によって〉他の材料についても用０ることができる。さらに、そのようなコーディング構造は、適当な場合に他の方法によって形成することも可能である。たとえば、゛′硬買コーチ、イング″サブストレート（たとえば、７ｍ１ｌ　アクリ１− トディスク）上にパ軟質パッド″を析出させて、次に軟質パッド上に吸収体を析出させ、次に吸収体上に必要なだけスペーサ／反射体を析出させて、最後に関連する゛ウ９インチニスターディスクたは類似の゛担体′°上に接着剤を付与してこれを圧接するような方法である。さらに本発明の変更が可能である。たとえば、ここで開示された手段と方法は、 °゛軟質バッド″のコー！〜された記録テープやフロッピィディスクまた（凋そのようなものへも適用可能である。さらに、本発明（は、■Ｒ露出を用いてデータが記録および／または再生されるような記録および／または記録システムの他の形態において用いられる媒体のために同様な保護外部コーティングを与えるように適用し得るものである。本発明の可能な変更例の上記の例は単に説明のためである。したがって、本発明は添付された特許請求の範囲によって限定される発明の範囲内で生ずる寸べての可能な修正や変更を含むものと考えられるべきである。ＦＩＧ、６゜ＦＩＧ、７国際調査報告

Claims

【特許請求の範囲】

１．　所定の照射によって情報が記録されるべき少なくとも１つの記録領域を備えたディスクからなるレコードユニットにおいて、硬質の外側保護シールコーティングが機械的／化学的障壁を与えるようレニ前記記録領域の外側表面へ調製されて付与されており、そのシールコーティングは前記照射に対しで比較的透光性であり、またこのコーティングは少なくとも１つのアクリレ−１ヘプレボリマを含む調製物の高分子化された生成物からなることを特徴とするレコードユニツ１〜。２、　前記調、製物は１つまたはそれ以上のアクリレートプレポリマ成分および適合し得る協働的な低分子重量の柔軟化希釈剤を含み、さらに必要なコーティング強さを与えるために十分な低い粘性のクロスリンク剤と前記ディスク表面へ付与するため必要な低い粘性を与えるために十分な適合し得る低分子重量の希釈剤を含むことを特徴とする請求の範囲第１項記載の結合物。３、　前記プレポリマ成分は透明で高分子重量のアクリレートを含み、さらに前記調製物の都合の良い付与とスプレィを可能にするために粘性を減少させるのに十分な関連する低分子重量の適合し得る希釈剤を含むことを特徴とする請求の範囲第２項記載の結合物。４、　前記クロスリンク剤は１−リメチルオルプロパンの１〜リアクリレートまたはトリメタクリレートのような多官能アクリレ−１〜からなることを特徴とする請求の範囲第３３項記載の結合物。５、　前記成分は高分子重量のアクリレ−゛ト化アクリレートおよび粘性を下げるのに十分な低分子ｌｆｆ１のアクリレート化エポキサイドを含むことを特徴とする請求の範囲第４項記載の結合物。６、　前記調製物は都合の良い付与スプレィのためにさらに十分に粘性を下げるのに十分な柔軟化有機希釈剤をも含むことを特徴とする請求の範囲第５項記載の結合物。７、　前記調製物はエチルヘキシルグループのアクリレートのような硬度緩和希釈剤のアクリレートを含むことを特徴とする請求の範囲第６項記載の結合物。８、　前記レコードユニットはルーリ”記録のための光学的質量メモリディスクであって、前記コーティングは記録層上またはその上のスーバコー１〜上に付与されて数ｍ１ｌ（１／１０００インチ）厚さのオーダであることを特徴とする請求の範囲第２項記載の結合物。９、　前記プレポリマグループは照射硬化されることを特徴とする請求の範囲第４項記載の結合物。１０、所定の照射によって情報が記録されるべき少なくとも１つの記録領域を有するディスク上へ外側保護シールコーティングを与える方法において、少なくとも１つのアクリレートプレポリマを含む調製物を用意するステップと、前記照射に対して比較的透明な機械的／化学的障壁を与えるために前記記録領域の外側表面へこの調製物を付与するステップと、それをそこで硬化させるステップを含むことを特徴とする外側保護シールコーティングを与える方法。１１、　前記コーティングは数インチまたはそれ以上のスパンにわたって精密な厚さの均一性を数μｍのオーダで維持するように１ないし数ｍｉｌの厚さまで付与されることを特徴とする請求の範囲第１０項記載の方法。１２、　前記調製物は１またはそれ以上のアクリレートプレポリマ成分および適合し冑る協動的低分子重量の柔軟化希釈剤を含み、さらにコーティングの必要な硬さや強さを与えるのに十分な低粘性のクロスリンク剤および前記ディスク表面へのイ」勺のために必要な低粘性を与えるために十分な適合し得る低分子重量の希釈剤を含むことを特徴とする請求の範囲第１０項記載の方法。１３、　前記プレポリマ成分は透明で高分子重量のアクリレートを含み、さらに前記調製物の都合の良いスプレィを可能にするために粘性を減少させるのに十分な関連する低分子重量の適合し得る希釈剤を含むことを特徴とする請求の範囲第１２項記載の方法。１４、　前記クロスリンク剤はトリメチルオルプロパンのトリアクリレートまたはトリメタクリレートのような多官能アクリレートを含むことを特徴とする請求の範囲第１３項記載の方法。１５、”軟質バラ１〜″Ｕ高離層か前記記録領域と前記外側シールコーチインクの間に挿入されていることを特徴とする請求の範囲第１項記載の結合物。１６、　前記隔離間はフルオロポリマからなっていることを特徴とする請求の範囲第１５項記載の結合物。１７、　前記フルオロポリマは真空蒸発されて：疑縮再高分子化された生成物であることを特徴とする請求の範囲第１６項記載の結合物。１８、　前記記録順１ｉｉ２はまず゛軟質バット″隔離層が被せられることを特徴とする請求の範囲第１０項記載の結合物。１９、　前記隔離習はフルオロポリマからなることを特徴とする請求の範囲第１８項記載の結合物。２０、　前記フルオロポリマは衷空陸発されて凝縮再高分子化された生成物であることを特徴とする請求の範囲第１９項記載の結合物。