JPS6055303B2 - 金属蒸着積層体およびその製法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は耐硫化性および耐汗性のすぐれた金属蒸着積層
体およびその製法に関する。

従来より純銀の蒸着層を可撓性合成樹脂フィルム、紙な
どの支持体に設けたフィルム状物、これをスリットして
えた平状金銀糸または平状金銀糸を芯糸（たとえばレー
ヨン、ナイロン、テトロン糸など）と撚糸してえた撚糸
金銀糸、あるいは前記の支持体上に剥離層、樹脂層、純
銀の蒸着層および接着剤層をこの順に設けた転写箔が知
られている。

しかしながら純銀の蒸着層は大気中の硫化水素ガスある
いは硫黄含有物（たとえば加硫ゴム）などとの接触によ
り硫化銀を生じやすく、銀光沢が失なわれ黄色ないし黒
色に変化する。

このため純銀の蒸着層を利用したフィルム状物、金銀糸
および転写箔ならびにこれらを適用した物品は保存中に
その商品価値が大巾に低減するという欠点があつた。か
かる欠点を解消するには、銀の蒸着層にかえて硫黄と反
応しにくいアルミニウムなどの蒸着層を用いればよいこ
とになるが、銀のもつ特有の光沢は古来より各種高級装
飾品に採用されてきているものであり、この深みとやわ
らかみのある光沢は他の金属では到底えられないもので
ある。

したがつて銀の蒸着層を用いてかつその特有の金属光沢
を消失せしめないようにするための種々の試みがなされ
てきた。その一つとして銀の蒸着層のうえに樹脂製のト
ップコート層を設ける方法があるが、かかるトップコー
ト層は通気性があるため短時間は銀蒸着層の変色防止効
果があるが時間がたつにつれて徐々に変色がおこつてく
る。また最近銀蒸着層のうえにイリジウム、スズ、ガリ
ウム、シリコンなどの薄膜を設けることによつてあるい
は銀蒸着層中にこれらの金属を混入することによつて銀
蒸着層の耐硫化性を向上させることが試みられている（
たとえば特公昭５１−２０２３０号公報、特公昭５２−
４７７９吋公報および特開昭５２一１２３４７４号公報
参照）。しかしながら前記の金属を用いるばあいは、銀
蒸着層に固有の銀白色光沢を損なわすに耐硫化性を向上
させるためには銀蒸着層上に形成するこれら金属の薄膜
の厚さあるいは銀蒸着層中に混入するこれら金属の割合
を非常に狭い範囲にコントロールする必要があり、この
ため工程管理が非常に困難になるという問題があり、ま
たインジウムにあつてはさらに耐汗性が劣るという問題
がある。

しかるに本発明者らは前記の問題点を克服すべく鋭意研
究を重ねた結果、銀蒸着層のうえにイリジウムの蒸着層
を設けるかまたは銀蒸着層にイリジウムを混入するばあ
いは、銀蒸着層に固有の光沢を損なわずに耐硫化性を向
上せしめうる、イリジウム蒸着層の厚さの許容範囲また
はイリジウムの混入量の許容範囲がきわめて広く、工程
管理が容易でマスプロダクシヨン性にすぐれ、しかも耐
硫化性および耐汗性においてもすぐれ、銀光沢が長期間
にわたつて維持されうるというまつたく新たな事実を見
出し、本発明を完成するにいたつた。すなわち本発明は
、基体の片面または両面に、銀蒸着層およびこれと直接
接する少なくとも１層の厚さが５〜２００Ａの範囲のイ
リジウム蒸着層を設けたことを特徴とする金属蒸着積層
体、および基体の片面または両面に、銀とイリジウムと
の割合が重量比で１００：０．５〜１００：６０の範囲
にある銀とイリジウムとのほぼ均一な混合物からなる蒸
着層を設けたことを特徴とする金属蒸着積層体に関する
。

以下前者を金属蒸着積層体（１）、後者を金属蒸着積層
体（■）という。

ここに銀とイリジウムとのほぼ均一な混合物からなる蒸
着層とは、蒸着層において銀とイリジウムとが、金属混
合物、合金、および金属混合物と合金との混合物の少な
くとも一つの状態にあるような蒸着層をいう。

またここにいう蒸着層には真空蒸着法、スパッタリング
法およびイオンプレーテイング法によつて形成された金
属の薄膜のいずれもが含まれるものとする。金属蒸着積
層体（１）は、基体の片面または両面に銀蒸着層および
イリジウム蒸着層をこの順に設けたもの〔金属蒸着積層
体（１ａ）〕、基体の片面または両面にイリジウム蒸着
層および銀蒸着層をこの順に設けたもの〔金属蒸着積層
体（１ｂ）〕および基体の片面または両面にイリジウム
蒸着層、銀蒸着層およびイリジウム蒸着層をこの順に設
けたもの〔金属蒸着積層体（Ｉｃ）〕の３種の態様にわ
けられる。

これら金属蒸着積層体（１ａ），（Ｉｂ）および（Ｉｃ
）は基体が透明ないし半透明のばあいは表裏いずれの方
向からみても銀光沢色を呈し、基体が不透明のばあいは
基体の反対側からみることを前提とするものである。金
属蒸着積層体（１）において、イリジウム蒸着層の厚さ
は５〜２００人という広範囲にわたつて変化せしめうる
ものである。イリジウム蒸着層の厚さが５Ａ未満では耐
硫化性が乏しく銀蒸着層の変色が生じて好ましくなく、
一方２００Ａを超えるとイリジウム蒸着層自体の金属光
沢で銀固有の金属光沢がさまたげられるので好ましくな
い。本発明においてはイリジウム蒸着層の厚さの許容範
囲が前記のごとく広いので蒸着工程の工程管理が非常に
容易である。ちなみに従来用いられていたインジウム、
スズ、ガリウムおよびケイ素のばあい、銀蒸着層に固有
の金属光沢をさまたげずに耐硫化性を向上せしめうるこ
れら金属の蒸着層の厚さの許容範囲はそれぞれ１６〜５
０Ａ１５〜４０Ａ１５〜４０Ａおよび２０〜６０人と非
常に狭く、蒸着工程の工程管理が非常に困難である。銀
蒸着層の厚さは特に制限はないが、通常５００〜１５０
０への範囲から選ばれる。

銀蒸着層の厚さが５００Ａ未満のばあいには光の透過率
が高くなり銀固有の金属光沢がえられがたく、また１５
００Ａを超えるばあいは過剰膜厚となり省資源観点から
も好ましくない。金属蒸着積層体（■）において、銀と
イリジウムとのほぼ均一な混合物からなる蒸着層におけ
る銀とイリジウムとの割合は１００：０．５〜１００：
６０（重量比、以下同様）という広範囲にわたつて変化
せしめうるものである。

イリジウムの割合が０．５より少ないと耐硫化性が乏し
く蒸着層の変色が生じて好ましくなく、一方イリジウム
の割合が６０を超えると銀固有の金属光沢が失なわれる
ので好ましくない。本発明においてはイリジウムの混入
割合が前記のごとく広いので蒸着工程の工程管理が容易
である。ちなみに従来用いられていたインジウム、スズ
、ガリウムおよびケイ素のばあい、銀固有の金属光沢を
さまたげずに耐硫化性を向上せしめうるこれら金属の銀
に対する混入割合の許容範囲は１００：０．５〜１００
：７と非常に狭く、蒸着工程の工程管理が非常に困難で
ある。蒸着層の厚さは特に制限はないが通常５００〜１
５００Ａの範囲から選ばれる。蒸着層の厚さが５００Ａ
未満のばあいには光の透過率が高くなり銀固有の金属光
沢がえられがたく、また１５００Ａを超えるばあいは過
剰膜厚となり省資源的観点からも好ましくない。金属蒸
着積層体（１）および（■）における基体としては特に
制限はなく、たとえばポリエステル、ポリアミド、ポリ
アミドイミド、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、ポリ塩化ビニル、セルロースアセテートな
どの樹脂のフィルム状物、シート状物または成形品類、
セロハン、紙類、金属のフィルム状物またはシート状物
などがいずれも用いられる。基体の厚さも特に制限はな
く２ｐ程度の極薄のものから数センチ程度の極厚のもの
まて用途により適宜選ばれる。被装飾物に積層して用い
る用途のばあいには可撓性基体で、なかんづく６〜５０
０ｐ程度の厚さの基体が好ましく用いられる。金属蒸着
積層体（１）および（■）において基体側および基体の
反対側の両方に銀光沢色を希望するばあいは透明な基体
が用いられる。つや消失の銀光沢色を希望するばあいは
半透明の基体を用いてもよい。ポリプロピレンフィルム
などの蒸着層との密着性がわるい基体のばあいおよび紙
類などの表面が平滑でな（基体のばあいには基体上にあ
らかじめ下塗剤としてアンダーコート層を設けておくこ
とが好ましい。

金属蒸着積層体（１）および（■）においては、蒸着層
自体は機械的強度が弱く特に摩擦による損傷が激しいの
で、通常蒸着層のうえに保護層１としてトップコート層
を設けることが好ましい。

アンダーコート層およびトップコート層としてはアクリ
ル樹脂、ウレタン樹脂、尿素−メラミン樹脂、エポキシ
樹脂、アミノアルキッド樹脂、ニトロセルロースなどの
樹脂の単独またはブレンド物のコーティング層が用いら
れる。また蒸着層との密着性がわるい基体のばあいのア
ンダーコート層にはアルキルチタネートなどのアンカー
剤のコーティング層を用いてもよい。トップコート層お
よび基体が透明または半透明のばあいのアンダーコート
層は染料または顔料などの着色剤で着色してもよい。か
かるばあいには各種色調の銀光沢色がえられる。本発明
の金属蒸着積層体において、基体に前記の樹脂類のフィ
ルム状物、シート状物、セロハン、紙類などの可撓性基
体を用いたものをスリット状に截断したものあるいはこ
れを芯糸（たとえばレーヨン、ナイロン、テトロン糸な
ど）と撚糸したものは金銀糸としての用途に用いられる
。

また本発明の基体の片面のみに蒸着層を有する金属蒸着
積層体において、基体に可撓性基体を用い、基体と蒸着
層との間に剥離層を設けかつ蒸着層のうえに接着剤層を
設けたものは転写箔としての用途に用いられる。基体と
しては印圧または印圧熱により転写層（剥離層＋蒸着層
＋接着剤層）を被転写物上に転写しうるものてあればい
ずれも用いられ、前記の樹脂類のフィルム状物、シート
状物、セロハン、紙類、金属のフィルム状物、シート状
物がいずれも用いられうる。剥離層および接着剤層とし
ては従来の転写箔て用いられているものがいずれも用い
られる。剥離層としてはたとえば変性フェノール樹脂、
アクリル樹脂、ニトロセルロース、マレイン酸樹脂、セ
ルロース、シリコーン、ロジン、ワックスなどのコーテ
ィング層が用いられる。また接着剤層としては感圧性、
感熱性のいずれも用いられ、たとえばアクリル酸エステ
ルー塩化ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、ポリ
酢酸ビニル、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体などのコ
ーティング層が用いられる。転写層が被転写物に転写さ
れたばあいには剥離層が蒸着層の保護層となるが、剥離
層が保護層としての役目をはたしえないばあいには、前
記の転写箔において剥離層と蒸着層の間に樹脂層を設け
てもよい。かかる樹脂層としては前記の金属蒸着積層体
（１）および（■）においてトップコート層として用い
たものなどが用いられる。樹脂層または剥離層はこれか
透明もしくは半透明てあるかぎり染料または顔料などの
着色剤て着色してもよい。本発明の金属蒸着積層体（１
）は、基体の片面または両面に、もし要すればアンダー
コート層を設け、そのうえに（１）銀蒸着層およびイリ
ジウム蒸着層を順次設けるか、（２）イリジウム蒸着層
および銀蒸着層を順次設けるか、または（３）イリジウ
ム蒸着層、銀蒸着層およびイリジウム蒸着層を順次設け
るかし、要すればさらにトップコート層を設けることに
より容易にえられる。銀蒸着層およびイリジウム蒸着層
の形成には真空蒸着法、スパッタリング法、イオンブレ
ーティング法などの通常の薄膜形成法がいずれも採用さ
れうる。薄膜形成条件としてはたとえは真空蒸着法のば
あい蒸着金属の種類に応じて３刈０−４〜１×１０−６
トールの範囲の真空度、１０００〜３０００℃の範囲の
蒸発源温度が適宜採用される。金属蒸着積層体（■）は
、基体の片面または両面に、もし要すればアンダーコー
ト層を設け、そのうえに（１）銀とイリジウムとを同時
蒸着（たとえば蒸発源を２個別々に加熱蒸発させる）す
るか、または（２）銀とイリジウムとの合金を蒸着する
かして銀とイリジウムとのほぼ均一な混合物からなる蒸
着層を設け、要すればさらにトップコート層を設けるこ
とにより容易にえられる。

銀とイリジウムを同時蒸着するには真空蒸着法、スパッ
タリング法、イオンブレーティング法などの通常の薄膜
形成法がいずれも採用されうる。薄膜形成条件としては
たとえば真空蒸着法のばあい、えられる蒸着層中の銀と
イリジウムとの割合が所望の範囲におさまるように３刈
０−４〜１×１０−６トールの範囲の真空度において銀
とイリジウムとの蒸着源温度Ｌが１０００〜３０００℃
の範囲から適宜選択される。銀とイリジウムとの合金を
蒸着するばあいにも前記薄膜形成法のいずれもが採用さ
れうる。たとえば真空蒸着法では蒸発源の加熱方法とし
て電子ビームを用いると好ましく、またえられる蒸着層
中にお・ける銀とイリジウムとの割合を所望の範囲に調
節しやすい点からスパッタリング法がとくに好ましい。
合金のかわりに銀とイリジウムとの混合物を用いてもよ
い。スパッタリングは通常５．０×１０−２〜１．０×
１０−３トールの範囲のアルゴンガス雰囲気ノ中で行な
われる。金銀糸は前記においてえられた金属蒸着積層体
（１）および（■）（ただし可撓性基体を用いたもの）
をスリツターなどを用いて巾が０．１５〜３．０ｍ程度
の細長体に截断することによつてあるいはこれをさらに
レーヨン、テトロン、ナイロンなどの芯糸と撚糸するこ
とによつてえられる。

転写箔は可撓性基体の片面に、剥離層を設け、もし要す
れば樹脂層を設け、そのうえに（１）イリジウム蒸着層
および銀蒸着層を順次設けるか、（２）銀蒸着層および
イリジウム蒸着層を順次設けるか、（３）イリジウム蒸
着層、銀蒸着層およびイリジウム蒸着層を順次設けるか
、または（４）銀とイリジウムとのほぼ均一な混合物か
らなる蒸着層を設け、さらに接着剤層を設けることによ
つて容易にえられる。

各蒸着層の形成は前記の金属蒸着積層体（１）および（
■）のばあいと同様にして行なわれる。本発明の金属蒸
着積層体、その応用である金銀糸および転写箔は耐硫化
性および耐汗性がきわめてすぐれており、銀特有の金属
光沢が変色することがないため、銀特有の金属光沢が所
望される各種装飾品にきわめて有利に適用される。

たとえば金属蒸着積層体は仏壇、仏具、屏風、襖、陶器
、漆器、扇子、額縁、マーク、書籍などの高級装飾用に
、菓子類、乳製品、その他の食品、薬品、化粧品、たば
こなどの包装の装飾用に、造花などの作製用に用いられ
る。金銀糸は金らんとするかあるいは着物、帯、ゾウリ
などに織込んで用いられる。また転写箔はラベル、ネー
ムプレート、マークなどの作製用に、クリスマスカード
、化粧品の包装、ポスター、週刊誌、書籍、アルバム、
サンダル、銘板、各種プラスチック成形品、布地などの
装飾用に用いられる。つぎに実施例および比較例をあげ
て本発明を説明する。

実施例１厚さ１′２ｐのポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に銀を１．０×１０−４トール、蒸発源温度１
４０００Ｃで８００Ａの厚さに真空蒸着し、そのうえに
イリジウムを１．０×１０−４トール、蒸発源温度２８
００℃で１０Ａの厚さに真空蒸着して金属蒸着積層体を
えた（これを試料Ａとする）。

試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらに尿素−メラミ
ン系樹脂のアルコ−ルートルエン溶液を塗布、乾燥して
乾燥膜厚０．５ｐのトップコート層を設けた（これを試
料Ｂとする）。

えられた試料ＡおよびＢについて製造直後および硫化水
素テストならびに人工汗テスト後の外観評価を行なつた
。

硫化水素テストは試料を温度２０℃、ＲＨ９５％、硫化
水素濃度０．６％の雰囲気中に８０時間放置することに
よつて行なつた。

人工汗テストはＪＩＳＬＯ８４８Ａ−１法に準拠して行
なつた。外観評価はポリエチレンテレフタレートフィル
ムの反対側における光沢ならびに変色を観察することに
よつて行なつた。

外観評価の判定はつぎの５段階評価によつて行なつた。
結果を第１表に示す。

実施例２ 坪量１９ｙの和紙上にウレタン系樹脂のセロソルブアセ
テートー酢酸エチル−トルエン溶液（固形分２鍾量％）
を塗布、乾燥してアンダーコート層を設け、そのうえに
銀を２．０×１０−４トール、蒸発源温度１５００℃で
６００Ａの厚さに真空蒸着し、さらにイリジウムを２．
０×１０−４トール、蒸発源温度２８００℃で５０Ａの
厚さに真空蒸着して金属蒸着積層体をえた（これを試料
Ａとする）。

試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらにエポキシ系樹
脂のメチルエチルケトンー酢酸エチル−アルコール溶液
を塗布、乾燥して乾燥膜厚０．３ｐのトップコート層を
設けた（これを試料Ｂとする）。

えられた試料ＡおよびＢについて実施例１と同様にして
外観評価を行なつた。

結果を第１表に示す。実施例３ イリジウム蒸着層の厚さを１００Ａに変更したほかは実
施例１と同様にして金属蒸着積層体をえた（ただしトッ
プコート層省略）。

えられた試料について実施例１と同様にして外観評価を
行なつた。

結果を第１表に示す。実施例４ イリジウム蒸着層の厚さを２００Ａに変更したほかは実
施例１と同様にして金属蒸着積層体をえた（ただしトッ
プコート層省略）。

えられた試料について実施例１と同様にして外観評価を
行なつた。

結果を第１表に示す。比較例１ イリジウムにかえてインジウムを１．０×１０−４トー
ル、蒸発源温度１１００゜Ｃで１０Ａの厚さに真写蒸着
したほかは実施例１と同様にして金属蒸着積層体をえた
（ただしトップコート層省略）。

えられた試料について実施例１と同様に外観評価を行な
つた。

結果を第１表に示す。比較例２ イリジウムにかえてスズを１．０×１０−４トール、蒸
発源温度１５００℃で１００Ａの厚さに真空蒸着したほ
かは実施例１と同様にして金属蒸着積層体をえた（ただ
しトップコート層省略）。

えられた試料について実施例１と同様に外観評価を行な
つた。

結果を第１表に示す。比較例３ イリジウム蒸着層を省略したほかは実施例２と同様にし
て金属蒸着積層体をえた（トップコート層のないものを
試料Ａ、トップコート層のあるものを試料Ｂとする）。

えられた試料ＡおよびＢについて実施例１と同様にして
外観評価を行なつた。結果を第１表に示す。実施例５ 厚さ１２ｐ，のポリエチレンテレフタレートフィルム上
にイリジウムを１．０×１０−４トール、蒸発源温ＮＶ
２８ＯＯ℃で２ｎＡ（７）１プ六」こ１丁の１示１を］
，、 そのら★ｚこＡの厚さに真空蒸着して金属蒸着積
層体をえた（これを試料Ａとする）。

試料Ａの銀蒸着層のうえにさらに尿素−メラミン系樹脂
のアルコ−ルートルエン溶液を塗布、乾燥して乾燥膜厚
０．謳のトップコート層を設けた（これを試料Ｂとする
）。

えられた試料ＡおよびＢについて実施例１と同様にして
外観評価を行なつた。

えられた結果を第２表に示す。なおこのばあいポリエチ
レンテレフ・タレートフイルム側の光沢および変色を観
祭１７た。比較例４ イリジウムにかえてガリウムを１．０×１０−５トール
、蒸発源温度１２００℃で２０への厚さに真空蒸着した
ほかは実施例５と同様にして金属蒸着積層体をえた（ト
ップコート層のないものを試料Ａ１トップコート層のあ
るものと試料Ｂとする）。

えられた試料ＡおよびＢについて実施例１と同様にして
外観評価を行なつた。

結果を第２表に示・す。・実施例６ 厚さ１２ｐのポリエチレンテレフタレートフィルム上に
イリジウムを１．０×１０−４トール、蒸発源温度２８
００℃で５Ａの厚さに真空蒸着し、そのうえに銀を１．
０×１０−４トール、蒸発源温度１４００℃て６００Ａ
の厚さに真空蒸着し、さらにそのうえにイリジウムを前
記と同じ条件で５Ａの厚さに真空蒸着して金属蒸着積層
体をえた（これを試料Ａとする）。

試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらに尿素ーメラミ
ン系樹脂のアルコ−ルートルエン溶液を塗布、乾燥して
乾燥膜厚０．５μのトップコート層を設けたにれを試料
Ｂとする）。えられた試料ＡおよびＢについて実施例１
と同様にして外観評価を行なつた。

えられた結果を第３表に示す。実施例７ 厚さ１′２ｐのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に１．０×１０−４トールの真空度下において銀を蒸発
源温度１５００℃でイリジウムを蒸発源温度２８００℃
で同時に２個のルツボ（蒸発源、以下同様）より真空蒸
着して厚さ１０００Ａ１銀とイリジウムとの割合が１０
０：１の蒸着層を設けて金属蒸着積層体をえた（これを
試料Ａとする）。

試料Ａの蒸着層のうえにさらに尿素−メラミン系樹脂の
アルコ−ルートルエン溶液を塗布、乾燥して乾燥膜厚０
．５ｐのトップコート層を設けた（これを試料Ｂとする
）。

えられた試料ＡおよびＢについて実施例１と同様にして
外観評価を行なつた。

結果を第３表に示す。実施例８ １．０×１０−４トールの真空下において銀を蒸発源温
度１５００−Ｃでイリジウムを蒸発源温度２８００℃で
同時に２個のルツボより真空蒸着して厚さ１０００Ａ１
銀とイリジウムとの割合が１００：２０の蒸着層を設け
たほかは実施例７と同様にして金属蒸着積層体をえた（
トップコート層のないものを試料Ａ１トップコート層の
あるものを試料Ｂとする）。

えられた試料ＡおよびＢについて実施例１と同様にして
外観評価を行なつた。結果を第３表に示す。実施例９ 厚さ１かのポリエチレンテレフタレートフィルム上に銀
−イリジウム合金（１００：６０）を５．０×１０−３
トールのアルゴンガス雰囲気中で投入電力２・０ｋＷで
高周波スパッタリングして厚さ１０００入、銀とイリジ
ウムとの割合が１００：６０の蒸着層を設けて金属蒸着
積層体をえた。

えられた試料について実施例１と同様にして外観評価を
行なつた。

結果を第３表に示す。比較例５ １．０×１０−４トールの真空下において銀を蒸発源温
度１５０（代）でケイ素を蒸発源温度１５０σＣで同時
に２個のルツボより真空蒸着して厚さが１０００Ａ、銀
とケイ素との割合が１００：２０の蒸着層を設けたほか
は実施例７と同様にして金属蒸着積層体をえた。

えられた試料について実施例１と同様にして外観評価を
行なつた。

結果を第３表に示す。実施例１１ 厚さ１きのポリエチレンテレフタレートフィルム上にワ
ックスのトルエン溶液を塗布、乾燥して乾燥膜厚０．１
μの剥離層を設け、そのうえに尿素−メラミン系樹脂の
アルコ−ルートルエン溶液を塗布、乾燥して乾燥膜厚１
．０ｐの樹脂層を設け、ついでイリジウムを１．０×１
０−４トール、蒸発源温度２８００′Ｃで２０Ａの厚さ
に真空蒸着し、ひきつづき銀を１．０×１０−４トール
、蒸発源温度１４００℃で８００Ａの厚さに真空蒸着し
、さらにそのうえに塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体の
トルエンー酢酸エチル溶液を塗布、乾燥して乾燥膜厚１
．５ｐの接着剤層を設けて転写箔をえた。

えられた転写箔を用いて常法にしたがつて紙のうえにホ
ットスタンプした。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 基体の片面または両面に、銀蒸着層およびこれと直
   接接する少なくとも１層の厚さが５〜２００Åの範囲の
   イリジウム蒸着層を設けたことを特徴とする金属蒸着積
   層体。 ２ 銀蒸着層が５００〜１５００Åの範囲の厚さを有す
   る特許請求の範囲第１項記載の金属蒸着積層体。 ３ 銀蒸着層およびイリジウム蒸着層が基体上に、銀蒸
   着層およびイリジウム蒸着層の順に設けられてなる特許
   請求の範囲第１項記載の金属蒸着積層体。 ４ 銀蒸着層およびイリジウム蒸着層が基体上に、イリ
   ジウム蒸着層および銀蒸着層の順に設けられてなる特許
   請求の範囲第１項記載の金属蒸着積層体。 ５ 銀蒸着層およびイリジウム蒸着層が基体上に、イリ
   ジウム蒸着層、銀蒸着層およびイリジウム蒸着層の順に
   設けられてなる特許請求の範囲第１項記載の金属蒸着積
   層体。 ６ 最外側の蒸着層のうえにさらにトップコート層が設
   けられてなる特許請求の範囲第１項記載の金属蒸着積層
   体。 ７ 基体が可撓性基体である特許請求の範囲第１項記載
   の金属蒸着積層体。 ８ 基体の片面または両面に、銀とイリジウムとの割合
   が重量比で１００：０．５〜１００：６０の範囲にある
   銀とイリジウムとのほぼ均一な混合物からなる蒸着層を
   設けたことを特徴とする金属蒸着積層体。 ９ 蒸着層が５００〜１５００Åの範囲の厚さを有する
   特許請求の範囲第８項記載の金属蒸着積層体。 １０ 蒸着層のうえにさらにトップコート層を設けてな
   る特許請求の範囲第８項記載の金属蒸着積層体。 １１ 基体上に、銀蒸着層およびイリジウム蒸着層を真
   空蒸着法、スパッタリング法およびイオンプレーティン
   グ法よりなる群から選ばれた少なくとも１種の方法によ
   つて形成することによつて、基体の片面または両面に、
   銀蒸着層およびこれと直接接する少なくとも１層の厚さ
   が５〜２００Åの範囲のイリジウム蒸着層を設けること
   を特徴とする金属蒸着積層体の製法。 １２ 基体上に、銀とイリジウムとを同時蒸着すること
   によつて、基体の片面または両面に、銀とイリジウムと
   の割合が重量比で１００：０．５〜１００：６０の範囲
   にある銀とイリジウムとのほぼ均一な混合物からなる蒸
   着層を設けることを特徴とする金属蒸着積層体の製法。 １３ 銀およびイリジウムの同時蒸着を真空蒸着法、ス
   パッタリング法およびイオンプレーテイング法よりなる
   群から選ばれた方法によつて行なう特許請求の範囲第１
   ２項記載の製法。１４ 基体上に、銀とイリジウムとの
   合金を蒸着することによつて、基体の片面または両面に
   、銀とイリジウムとの割合が重量比で１００：０．５〜
   １００：６０の範囲にある銀とイリジウムとのほぼ均一
   な混合物からなる蒸着層を設けることを特徴とする金属
   蒸着積層体の製法。 １５ 合金の蒸着を真空蒸着法、スパッタリング法およ
   びイオンプレーティング法よりなる群から選ばれた方法
   によつて行なう特許請求の範囲第１４項記載の製法。