JPS6143200B2 - - Google Patents
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Description
［産業上の利用分野］
本発明は耐硫化性および耐汗性のすぐれた転写
箔に関する。 ［従来の技術］ 従来より可撓性合成樹脂フイルム、紙などの支
持体上に剥離層、樹脂層、純銀の蒸着層および接
着剤層をこの順に設けた転写箔が知られている。 ［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら純銀の蒸着層は大気中の硫化水素
ガスあるいは硫黄含有物（たとえば加硫ゴム）な
どとの接触により硫化銀を生じやすく、銀光沢が
失なわれ黄色ないし黒色に変化する。このため純
銀の蒸着層を利用した転写箔ならびにこれを適用
した物品は保存中にその商品価値が大巾に低減す
るという欠点があつた。 かかる欠点を解消するには、銀の蒸着層にかえ
て硫黄と反応しにくいアルミニウムなどの蒸着層
を用いればよいことになるが、銀のもつ特有の光
沢は古来より各種高級装飾品に採用されてきてい
るものであり、この深みとやわらかみのある光沢
は他の金属では到底えられないものである。 そのため銀の蒸着層を用いてかつその特有の金
属光沢を消失せしめないようにするための種々の
試みがなされてきた。その一つとして銀の蒸着層
のうえに樹脂製のトツプコート層を設ける方法が
あるが、かかるトツプコート層は通気性があるた
め、短時間は銀蒸着層の変色防止効果を有するけ
れども時間がたつにつれて徐々に変色がおこつて
くる。また最近銀蒸着層のうえにインジウム、ス
ズ、ガリウム、シリコンなどの薄膜を設けること
によつてあるいは銀蒸着層中にこれらの金属を混
入することによつて銀蒸着層の耐硫化性を向上さ
せることが試みられている（たとえば特公昭51−
20230号公報、特公昭52−47790号公報および特開
昭52−123474号公報参照）。 しかしながら前記の金属を用いるばあいは、銀
蒸着層に固有の銀白色光沢を損なわずに耐硫化性
を向上させるためには銀蒸着層上に形成するこれ
ら金属の薄膜の厚さあるいは銀蒸着層中に混入す
るこれら金属の割合を非常に狭い範囲にコントロ
ールする必要があり、そのため工程管理が非常に
困難になるという問題があり、またインジウムに
あつてはさらに耐汗性が劣るという問題がある。 しかるに本発明者らは前記の問題点を克服すべ
く鋭意研究を重ねた結果、銀蒸着層のうえにイリ
ジウムの蒸着層を設けるかまたは銀蒸着層にイリ
ジウムを混入するばあいは、銀蒸着層に固有の光
沢を損なわずに耐硫化性を向上せしめうる、イリ
ジウム蒸着層の厚さの許容範囲またはイリジウム
の混入量の許容範囲がきわめて広く、工程管理が
容易でマスプロダクシヨン性にすぐれ、しかも耐
硫化性および耐汗性においてもすぐれ、銀光沢が
長期間にわたつて維持されうるというまつたく新
たな事実を見出し、本発明を完成するにいたつ
た。 ［問題点を解決するための手段］ すなわち本発明は、 (1) 可撓性基体の片面に、剥離層、銀蒸着層およ
びこれと直接接する少なくとも１層のイリジウ
ム蒸着層、さらに接着剤層をこの順に設けたこ
とを特徴とする転写箔（以下、この転写箔を転
写箔（）という）、および (2) 可撓性基体の片面に、剥離層、銀とイリジウ
ムとのほぼ均一な混合物からなる蒸着層および
接着剤層をこの順に設けたことを特徴とする転
写箔（以下、この転写箔を転写箔（）とい
う） に関する。 ［実施例］ 前記において、銀とイリジウムとのほぼ均一な
混合物からなる蒸着層とは、蒸着層において銀と
イリジウムとが、金属混合物、合金、および金属
混合物と合金との混合物の少なくとも一つの状態
にあるような蒸着層をいう。またここにいう蒸着
層には真空蒸着法、スパツタリング法およびイオ
ンプレーテイング法によつて形成される金属の薄
膜のいずれもが含まれるものである。 転写箔（）において、イリジウム蒸着層の厚
さは５〜200Åという広範囲にわたつて変化せし
めうるものである。イリジウム蒸着層の厚さが５
Å未満では耐硫化性が乏しく銀蒸着層の変色が生
じて好ましくなく、一方200Åを超えるとイリジ
ウム蒸着層自体の金属光沢で銀固有の金属光沢が
さまたげられるので好ましくない。本発明におい
てはイリジウム蒸着層の厚さの許容範囲が前記の
ごとく広いので蒸着工程の工程管理が非常に容易
である。ちなみに従来用いられていたイリジウ
ム、スズ、ガリウムおよびケイ素のばあい、銀蒸
着層に固有の金属光沢をさまたげずに耐硫化性を
向上せしめうるこれら金属の蒸着層の厚さの許容
範囲はそれぞれ16〜50Å、５〜40Å、５〜40Åお
よび20〜60Åと非常に狭く、蒸着工程の管理が非
常に困難である。 銀蒸着層の厚さに特に制限はないが、通常500
〜1500Åの範囲から選ばれる。銀蒸着層の厚さが
500Å未満のばあいには光の透過率が高くなり銀
固有の金属光沢がえられがたく、また1500Åを超
えるばあいは過剰膜厚となり省資源的観点からも
好ましくない。 転写箔（）において、銀とイリジウムとのほ
ぼ均一な混合物からなる蒸着層における銀とイリ
ジウムとの割合は100：0.5〜100：60（重量比、
以下同様）という広範囲にわたつて変化せしめう
るものである。イリジウムの割合が0.5より少な
いと耐硫化性が乏しく蒸着層の変色が生じて好ま
しくなく、一方イリジウムの割合が60を超えると
銀固有の金属光沢が失なわれるの好ましくない。
本発明においてはイリジウムの混入割合が前記の
ごとく広いので蒸着工程の工程管理が容易であ
る。ちなみに従来用いられていたインジウム、ス
ズ、ガリウムおよびケイ素のばあい、銀固有の金
属光沢をさまたげずに耐硫化性を向上せしめうる
これら金属の銀に対する混入割合の許容範囲は
100：0.5〜100：７と非常に狭く、蒸着工程の工
程管理が非常に困難である。 蒸着層の厚さは特に制限はないが、通常500〜
1500Åの範囲から選ばれる。蒸着層の厚さが500
Å未満のばあいには光の透過率が高くなり銀固有
の金属光沢がえられがたく、また1500Åを超える
ばあいは過剰膜厚となり省資源的観点からも好ま
しくない。 転写箔（）および（）における可撓性基体
としては印圧または印圧熱により転写層（剥離層
＋蒸着層＋接着剤層）を被転写物上に転写しうる
ものであればいずれも用いられ、たとえばポリエ
ステル、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リ塩化ビニル、セルロースアセテートなどの樹脂
類のフイルム状物、シート状物、セロハン、紙
類、金属のフイルム状物、シート状物がいずれも
用いられうる。 剥離層および接着剤層としては従来の転写箔で
用いられているものがいずれも用いられる。剥離
層としてはたとえば変性フエノール樹脂、アクリ
ル樹脂、ニトロセルロース、マレイン酸樹脂、セ
ルロース、シリコーン、ロジン、ワツクスなどの
コーテイング層が用いられる。また接着剤層とし
ては感圧性、感熱性のいずれも用いられ、たとえ
ばアクリル酸エステル−塩化ビニル共重合体、ポ
リビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体などのコーテイング層が
用いられる。 転写層が被転写物に転写されたばあいには剥離
層が蒸着層の保護層となるが、剥離層が保護層と
しての役目をはたしえないばあいには、剥離層と
蒸着層との間に樹脂層を設けてもよい。かかる樹
脂層としてはアクリル樹脂、ウレタン樹脂、尿素
−メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキツ
ド樹脂、ニトロセルロースなどの樹脂の単独また
はブレンド物のコーテイング層が用いられる。樹
脂層または剥離層はこれらが透明または半透明で
あるかぎり染料または顔料などの着色剤で着色し
てもよい。かかるばあいには各種色調の銀光沢色
がえられる。 本発明の転写箔は可撓性基体の片面に、剥離層
を設け、もし要すれば樹脂層を設け、そのうえに
(1)イリジウム蒸着層および銀蒸着層を順次設ける
か、(2)銀蒸着層およびイリジウム蒸着層を順次設
けるか、(3)イリジウム蒸着層、銀蒸着層およびイ
リジウム蒸着層を設けるか、または(4)銀とイリジ
ウムとのほぼ均一な混合物からなる蒸着層を設
け、さらに接着剤層を設けることによつて容易に
えられる。 転写箔（）における銀蒸着層およびイリジウ
ム蒸着層の形成には真空蒸着法、スパツタリング
法、イオンプレーテイング法などの通常の薄膜成
形法がいずれも採用されうる。薄膜形成条件とし
てはたとえば真空蒸着法のばあい蒸着金属の種類
に応じて３×10-4〜１×10-6トールの範囲の真空
度、1000〜3000℃の範囲の蒸発源温度が適宜採用
される。 転写箔（）における銀とイリジウムとのほぼ
均一な混合物からなる蒸着層は、(1)銀とイリジウ
ムとを同時蒸着（たとえば蒸発源を２個別々に加
熱蒸発させる）するか、または(2)銀とイリジウム
との合金を蒸着することにより形成される。銀と
イリジウムを同時蒸着するには真空蒸着法、スパ
ツタリング法、イオンプレーテイング法などの通
常の薄膜成形法がいずれも採用されうる。薄膜形
成条件としてはたとえば真空蒸着法のばあい、え
られる蒸着層中の銀とイリジウムとの割合が所望
の範囲におさまるように３×10-4〜１×10-6トー
ルの範囲の真空度において銀とイリジウムとの蒸
発源温度が1000〜3000℃の範囲から適宜選択され
る。銀とイリジウムとの合金を蒸着するばあいに
も前記薄膜形成法のいずれもが採用されうる。た
とえば真空蒸着法では蒸発源の加熱手段として電
子ビームを用いるのが好ましく、またえられる蒸
着層中における銀とイリジウムとの割合を所望の
範囲に調節しやすい点からスパツタリング法がと
くに好ましい。合金のかわりに銀とイリジウムと
の混合物を用いてもよい。スパツタリングは通常
5.0×10-2〜1.0×10-3トールの範囲のアルゴンガ
ス雰囲気中で行なわれる。 本発明の転写箔は耐硫化性および耐汗性がきわ
めてすぐれており、銀特有の金属光沢が変色する
ことがないため、銀特有の金属光沢が所望される
各種装飾用途にきわめて有利に適用される。たと
えばラベル、ネームプレート、マークなどの作製
用に、クリスマスカード、化粧品の包装、ポスタ
ー、週刊誌、書籍、アルバム、サンダル、銘板、
各種プラスチツク成形品、布地などの装飾用に用
いられる。 つぎに参考例、参考比較例および実施例をあげ
て本発明を説明する。 参考例 １ 厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上に銀を1.0×10-4トール、蒸発源温度1400℃
で800Åの厚さに真空蒸着し、そのうえにイリジ
ウムを1.0×10-4トール、蒸発源温度3000℃で10
Åの厚さに真空蒸着して金属蒸着積層体をえた
（これを試料Ａとする）。 試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらに尿素
−メラミン系樹脂のアルコール−トルエン溶液を
塗布、乾燥して乾燥膜厚0.5μのトツプコート層
を設けた（これを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて製造直後およ
び硫化水素テストならびに人工汗テスト後の外観
評価を行なつた。 硫化水素テストは試料を温度20℃、RH95％、
硫化水素濃度0.6％の雰囲気中に80時間放置する
ことによつて行なつた。人工汗テストはJIS
L0848A−１法に準拠して行なつた。 外観評価はポリエチレンテレフタレートフイル
ムの反対側における光沢ならびに変色を観察する
ことによつて行なつた。外観評価の判定はつぎの
５段階評価によつて行なつた。 評価値 ５ きわめて良好 ４ 良好 ３ やや良好 ２ やや不良 １ 不良 結果を第１表に示す。 参考例 ２ 坪量19ｇの和紙上にウレタン系樹脂のセロソル
ブアセテート−酢酸エチル−トルエン溶液（固形
分20重量％）を塗布、乾燥してアンダーコート層
を設け、そのうえに銀を2.0×10-4トール、蒸発
源温度1500℃で600Åの厚さに真空蒸着し、さら
にイリジウムを2.0×10-4トール、蒸発源温度
3000℃で50Åの厚さに真空蒸着して金属蒸着積層
体をえた（これを試料Ａとする）。 試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらにエポ
キシ系樹脂のメチルエチルケトン−酢酸エチル−
アルコール溶液を塗布、乾燥して乾燥膜厚0.3μ
のトツプコート層を設けた（これを試料Ｂとす
る）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。結果を第１表に示
す。 参考例 ３ イリジウム蒸着層の厚さを100Åに変更したほ
かは参考例１と同様にして金属蒸着積層体をえた
（ただしトツプコート層省略）。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第１表に示す。 参考例 ４ イリジウム蒸着層の厚さを200Åに変更したほ
かは参考例１と同様にして金属蒸着積層体をえた
（ただしトツプコート層省略）。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第１表に示す。 比較参考例 １ イリジウムにかえてインジウムを1.0×10-4ト
ール、蒸発源温度1100℃で10Åの厚さに真空蒸着
したほかは参考例１と同様にして金属蒸着積層体
をえた（ただしトツプコート層省略）。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第１表に示す。 比較参考例 ２ イリジウムにかえてスズを1.0×10-4トール、
蒸発源温度1500℃で100Åの厚さに真空蒸着した
ほかは参考例１と同様にして金属蒸着積層体をえ
た（ただしトツプコート層省略）。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第１表に示す。 比較参考例 ３ イリジウム蒸着層を省略したほかは参考例２と
同様にして金属蒸着積層体をえた（トツプコート
層のないものを試料Ａ、トツプコート層のあるも
のを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。結果を第１表に示
す。
箔に関する。 ［従来の技術］ 従来より可撓性合成樹脂フイルム、紙などの支
持体上に剥離層、樹脂層、純銀の蒸着層および接
着剤層をこの順に設けた転写箔が知られている。 ［発明が解決しようとする問題点］ しかしながら純銀の蒸着層は大気中の硫化水素
ガスあるいは硫黄含有物（たとえば加硫ゴム）な
どとの接触により硫化銀を生じやすく、銀光沢が
失なわれ黄色ないし黒色に変化する。このため純
銀の蒸着層を利用した転写箔ならびにこれを適用
した物品は保存中にその商品価値が大巾に低減す
るという欠点があつた。 かかる欠点を解消するには、銀の蒸着層にかえ
て硫黄と反応しにくいアルミニウムなどの蒸着層
を用いればよいことになるが、銀のもつ特有の光
沢は古来より各種高級装飾品に採用されてきてい
るものであり、この深みとやわらかみのある光沢
は他の金属では到底えられないものである。 そのため銀の蒸着層を用いてかつその特有の金
属光沢を消失せしめないようにするための種々の
試みがなされてきた。その一つとして銀の蒸着層
のうえに樹脂製のトツプコート層を設ける方法が
あるが、かかるトツプコート層は通気性があるた
め、短時間は銀蒸着層の変色防止効果を有するけ
れども時間がたつにつれて徐々に変色がおこつて
くる。また最近銀蒸着層のうえにインジウム、ス
ズ、ガリウム、シリコンなどの薄膜を設けること
によつてあるいは銀蒸着層中にこれらの金属を混
入することによつて銀蒸着層の耐硫化性を向上さ
せることが試みられている（たとえば特公昭51−
20230号公報、特公昭52−47790号公報および特開
昭52−123474号公報参照）。 しかしながら前記の金属を用いるばあいは、銀
蒸着層に固有の銀白色光沢を損なわずに耐硫化性
を向上させるためには銀蒸着層上に形成するこれ
ら金属の薄膜の厚さあるいは銀蒸着層中に混入す
るこれら金属の割合を非常に狭い範囲にコントロ
ールする必要があり、そのため工程管理が非常に
困難になるという問題があり、またインジウムに
あつてはさらに耐汗性が劣るという問題がある。 しかるに本発明者らは前記の問題点を克服すべ
く鋭意研究を重ねた結果、銀蒸着層のうえにイリ
ジウムの蒸着層を設けるかまたは銀蒸着層にイリ
ジウムを混入するばあいは、銀蒸着層に固有の光
沢を損なわずに耐硫化性を向上せしめうる、イリ
ジウム蒸着層の厚さの許容範囲またはイリジウム
の混入量の許容範囲がきわめて広く、工程管理が
容易でマスプロダクシヨン性にすぐれ、しかも耐
硫化性および耐汗性においてもすぐれ、銀光沢が
長期間にわたつて維持されうるというまつたく新
たな事実を見出し、本発明を完成するにいたつ
た。 ［問題点を解決するための手段］ すなわち本発明は、 (1) 可撓性基体の片面に、剥離層、銀蒸着層およ
びこれと直接接する少なくとも１層のイリジウ
ム蒸着層、さらに接着剤層をこの順に設けたこ
とを特徴とする転写箔（以下、この転写箔を転
写箔（）という）、および (2) 可撓性基体の片面に、剥離層、銀とイリジウ
ムとのほぼ均一な混合物からなる蒸着層および
接着剤層をこの順に設けたことを特徴とする転
写箔（以下、この転写箔を転写箔（）とい
う） に関する。 ［実施例］ 前記において、銀とイリジウムとのほぼ均一な
混合物からなる蒸着層とは、蒸着層において銀と
イリジウムとが、金属混合物、合金、および金属
混合物と合金との混合物の少なくとも一つの状態
にあるような蒸着層をいう。またここにいう蒸着
層には真空蒸着法、スパツタリング法およびイオ
ンプレーテイング法によつて形成される金属の薄
膜のいずれもが含まれるものである。 転写箔（）において、イリジウム蒸着層の厚
さは５〜200Åという広範囲にわたつて変化せし
めうるものである。イリジウム蒸着層の厚さが５
Å未満では耐硫化性が乏しく銀蒸着層の変色が生
じて好ましくなく、一方200Åを超えるとイリジ
ウム蒸着層自体の金属光沢で銀固有の金属光沢が
さまたげられるので好ましくない。本発明におい
てはイリジウム蒸着層の厚さの許容範囲が前記の
ごとく広いので蒸着工程の工程管理が非常に容易
である。ちなみに従来用いられていたイリジウ
ム、スズ、ガリウムおよびケイ素のばあい、銀蒸
着層に固有の金属光沢をさまたげずに耐硫化性を
向上せしめうるこれら金属の蒸着層の厚さの許容
範囲はそれぞれ16〜50Å、５〜40Å、５〜40Åお
よび20〜60Åと非常に狭く、蒸着工程の管理が非
常に困難である。 銀蒸着層の厚さに特に制限はないが、通常500
〜1500Åの範囲から選ばれる。銀蒸着層の厚さが
500Å未満のばあいには光の透過率が高くなり銀
固有の金属光沢がえられがたく、また1500Åを超
えるばあいは過剰膜厚となり省資源的観点からも
好ましくない。 転写箔（）において、銀とイリジウムとのほ
ぼ均一な混合物からなる蒸着層における銀とイリ
ジウムとの割合は100：0.5〜100：60（重量比、
以下同様）という広範囲にわたつて変化せしめう
るものである。イリジウムの割合が0.5より少な
いと耐硫化性が乏しく蒸着層の変色が生じて好ま
しくなく、一方イリジウムの割合が60を超えると
銀固有の金属光沢が失なわれるの好ましくない。
本発明においてはイリジウムの混入割合が前記の
ごとく広いので蒸着工程の工程管理が容易であ
る。ちなみに従来用いられていたインジウム、ス
ズ、ガリウムおよびケイ素のばあい、銀固有の金
属光沢をさまたげずに耐硫化性を向上せしめうる
これら金属の銀に対する混入割合の許容範囲は
100：0.5〜100：７と非常に狭く、蒸着工程の工
程管理が非常に困難である。 蒸着層の厚さは特に制限はないが、通常500〜
1500Åの範囲から選ばれる。蒸着層の厚さが500
Å未満のばあいには光の透過率が高くなり銀固有
の金属光沢がえられがたく、また1500Åを超える
ばあいは過剰膜厚となり省資源的観点からも好ま
しくない。 転写箔（）および（）における可撓性基体
としては印圧または印圧熱により転写層（剥離層
＋蒸着層＋接着剤層）を被転写物上に転写しうる
ものであればいずれも用いられ、たとえばポリエ
ステル、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポ
リ塩化ビニル、セルロースアセテートなどの樹脂
類のフイルム状物、シート状物、セロハン、紙
類、金属のフイルム状物、シート状物がいずれも
用いられうる。 剥離層および接着剤層としては従来の転写箔で
用いられているものがいずれも用いられる。剥離
層としてはたとえば変性フエノール樹脂、アクリ
ル樹脂、ニトロセルロース、マレイン酸樹脂、セ
ルロース、シリコーン、ロジン、ワツクスなどの
コーテイング層が用いられる。また接着剤層とし
ては感圧性、感熱性のいずれも用いられ、たとえ
ばアクリル酸エステル−塩化ビニル共重合体、ポ
リビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体などのコーテイング層が
用いられる。 転写層が被転写物に転写されたばあいには剥離
層が蒸着層の保護層となるが、剥離層が保護層と
しての役目をはたしえないばあいには、剥離層と
蒸着層との間に樹脂層を設けてもよい。かかる樹
脂層としてはアクリル樹脂、ウレタン樹脂、尿素
−メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキツ
ド樹脂、ニトロセルロースなどの樹脂の単独また
はブレンド物のコーテイング層が用いられる。樹
脂層または剥離層はこれらが透明または半透明で
あるかぎり染料または顔料などの着色剤で着色し
てもよい。かかるばあいには各種色調の銀光沢色
がえられる。 本発明の転写箔は可撓性基体の片面に、剥離層
を設け、もし要すれば樹脂層を設け、そのうえに
(1)イリジウム蒸着層および銀蒸着層を順次設ける
か、(2)銀蒸着層およびイリジウム蒸着層を順次設
けるか、(3)イリジウム蒸着層、銀蒸着層およびイ
リジウム蒸着層を設けるか、または(4)銀とイリジ
ウムとのほぼ均一な混合物からなる蒸着層を設
け、さらに接着剤層を設けることによつて容易に
えられる。 転写箔（）における銀蒸着層およびイリジウ
ム蒸着層の形成には真空蒸着法、スパツタリング
法、イオンプレーテイング法などの通常の薄膜成
形法がいずれも採用されうる。薄膜形成条件とし
てはたとえば真空蒸着法のばあい蒸着金属の種類
に応じて３×10-4〜１×10-6トールの範囲の真空
度、1000〜3000℃の範囲の蒸発源温度が適宜採用
される。 転写箔（）における銀とイリジウムとのほぼ
均一な混合物からなる蒸着層は、(1)銀とイリジウ
ムとを同時蒸着（たとえば蒸発源を２個別々に加
熱蒸発させる）するか、または(2)銀とイリジウム
との合金を蒸着することにより形成される。銀と
イリジウムを同時蒸着するには真空蒸着法、スパ
ツタリング法、イオンプレーテイング法などの通
常の薄膜成形法がいずれも採用されうる。薄膜形
成条件としてはたとえば真空蒸着法のばあい、え
られる蒸着層中の銀とイリジウムとの割合が所望
の範囲におさまるように３×10-4〜１×10-6トー
ルの範囲の真空度において銀とイリジウムとの蒸
発源温度が1000〜3000℃の範囲から適宜選択され
る。銀とイリジウムとの合金を蒸着するばあいに
も前記薄膜形成法のいずれもが採用されうる。た
とえば真空蒸着法では蒸発源の加熱手段として電
子ビームを用いるのが好ましく、またえられる蒸
着層中における銀とイリジウムとの割合を所望の
範囲に調節しやすい点からスパツタリング法がと
くに好ましい。合金のかわりに銀とイリジウムと
の混合物を用いてもよい。スパツタリングは通常
5.0×10-2〜1.0×10-3トールの範囲のアルゴンガ
ス雰囲気中で行なわれる。 本発明の転写箔は耐硫化性および耐汗性がきわ
めてすぐれており、銀特有の金属光沢が変色する
ことがないため、銀特有の金属光沢が所望される
各種装飾用途にきわめて有利に適用される。たと
えばラベル、ネームプレート、マークなどの作製
用に、クリスマスカード、化粧品の包装、ポスタ
ー、週刊誌、書籍、アルバム、サンダル、銘板、
各種プラスチツク成形品、布地などの装飾用に用
いられる。 つぎに参考例、参考比較例および実施例をあげ
て本発明を説明する。 参考例 １ 厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上に銀を1.0×10-4トール、蒸発源温度1400℃
で800Åの厚さに真空蒸着し、そのうえにイリジ
ウムを1.0×10-4トール、蒸発源温度3000℃で10
Åの厚さに真空蒸着して金属蒸着積層体をえた
（これを試料Ａとする）。 試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらに尿素
−メラミン系樹脂のアルコール−トルエン溶液を
塗布、乾燥して乾燥膜厚0.5μのトツプコート層
を設けた（これを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて製造直後およ
び硫化水素テストならびに人工汗テスト後の外観
評価を行なつた。 硫化水素テストは試料を温度20℃、RH95％、
硫化水素濃度0.6％の雰囲気中に80時間放置する
ことによつて行なつた。人工汗テストはJIS
L0848A−１法に準拠して行なつた。 外観評価はポリエチレンテレフタレートフイル
ムの反対側における光沢ならびに変色を観察する
ことによつて行なつた。外観評価の判定はつぎの
５段階評価によつて行なつた。 評価値 ５ きわめて良好 ４ 良好 ３ やや良好 ２ やや不良 １ 不良 結果を第１表に示す。 参考例 ２ 坪量19ｇの和紙上にウレタン系樹脂のセロソル
ブアセテート−酢酸エチル−トルエン溶液（固形
分20重量％）を塗布、乾燥してアンダーコート層
を設け、そのうえに銀を2.0×10-4トール、蒸発
源温度1500℃で600Åの厚さに真空蒸着し、さら
にイリジウムを2.0×10-4トール、蒸発源温度
3000℃で50Åの厚さに真空蒸着して金属蒸着積層
体をえた（これを試料Ａとする）。 試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらにエポ
キシ系樹脂のメチルエチルケトン−酢酸エチル−
アルコール溶液を塗布、乾燥して乾燥膜厚0.3μ
のトツプコート層を設けた（これを試料Ｂとす
る）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。結果を第１表に示
す。 参考例 ３ イリジウム蒸着層の厚さを100Åに変更したほ
かは参考例１と同様にして金属蒸着積層体をえた
（ただしトツプコート層省略）。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第１表に示す。 参考例 ４ イリジウム蒸着層の厚さを200Åに変更したほ
かは参考例１と同様にして金属蒸着積層体をえた
（ただしトツプコート層省略）。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第１表に示す。 比較参考例 １ イリジウムにかえてインジウムを1.0×10-4ト
ール、蒸発源温度1100℃で10Åの厚さに真空蒸着
したほかは参考例１と同様にして金属蒸着積層体
をえた（ただしトツプコート層省略）。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第１表に示す。 比較参考例 ２ イリジウムにかえてスズを1.0×10-4トール、
蒸発源温度1500℃で100Åの厚さに真空蒸着した
ほかは参考例１と同様にして金属蒸着積層体をえ
た（ただしトツプコート層省略）。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第１表に示す。 比較参考例 ３ イリジウム蒸着層を省略したほかは参考例２と
同様にして金属蒸着積層体をえた（トツプコート
層のないものを試料Ａ、トツプコート層のあるも
のを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。結果を第１表に示
す。
【表】
参考例 ５
厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上にイリジウムを1.0×10-4トール、蒸発源温
度3000℃で20Åの厚さに真空蒸着し、そのうえに
銀を1.0×10-4トール、蒸発源温度1400℃で1000
Åの厚さに真空蒸着して金属蒸着積層体をえた
（これを試料Ａとする）。 試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらに尿素
−メラミン系樹脂のアルコール−トルエン溶液を
塗布、乾燥して乾燥膜厚0.5μのトツプコート層
を設けた（これを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。えられた結果を第
２表に示す。なおこのばあいポリエチレンテレフ
タレートフイルム側の光沢および変色を観察し
た。 比較参考例 ４ イリジウムにかえてガリウムを1.0×10-5トー
ル、蒸発源温度1200℃で20Åの厚さに真空蒸着し
たほかは参考例５と同様にして金属蒸着積層体を
えた（トツプコート層のないものを試料Ａ、トツ
プコート層のあるものを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。結果を第２表に示
す。
ム上にイリジウムを1.0×10-4トール、蒸発源温
度3000℃で20Åの厚さに真空蒸着し、そのうえに
銀を1.0×10-4トール、蒸発源温度1400℃で1000
Åの厚さに真空蒸着して金属蒸着積層体をえた
（これを試料Ａとする）。 試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらに尿素
−メラミン系樹脂のアルコール−トルエン溶液を
塗布、乾燥して乾燥膜厚0.5μのトツプコート層
を設けた（これを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。えられた結果を第
２表に示す。なおこのばあいポリエチレンテレフ
タレートフイルム側の光沢および変色を観察し
た。 比較参考例 ４ イリジウムにかえてガリウムを1.0×10-5トー
ル、蒸発源温度1200℃で20Åの厚さに真空蒸着し
たほかは参考例５と同様にして金属蒸着積層体を
えた（トツプコート層のないものを試料Ａ、トツ
プコート層のあるものを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。結果を第２表に示
す。
【表】
参考例 ６
厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上にイリジウム1.0×10-4トール、蒸発源温度
3000℃で５Åの厚さに真空蒸着し、そのうえに銀
を1.0×10-4トール、蒸発源温度1400℃で600Åの
厚さに真空蒸着し、さらにそのうえにイリジウム
前記と同じ条件で５Åの厚さに真空蒸着して金属
蒸着積層体をえた（これを試料Ａとする）。 試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらに尿素
−メラミン系樹脂のアルコール−トルエン溶液を
塗布、乾燥して乾燥膜厚0.5μのトツプコート層
を設けた（これを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。えられた結果を第
３表に示す。 参考例 ７ 厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上に1.0×10-4トールの真空度下において銀を
蒸発源温度1500℃でイリジウムを蒸発源温度3000
℃で同時に２個のルツボ（蒸発源、以下同様）よ
り真空蒸着して厚さ1000Å、銀とイリジウムとの
割合が100：１の蒸着層を設けて金属蒸着積層体
をえた（これを試料Ａとする）。 試料Ａの蒸着層のうえにさらに尿素−メラミン
系樹脂のアルコール−トルエン溶液を塗布、乾燥
して乾燥膜厚0.5μのトツプコート層を設けた
（これを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。結果を第３表に示
す。 参考例 ８ 1.0×10-4トールの真空度下において銀を蒸発
源温度1500℃でイリジウムを蒸発源温度3000℃で
同時に２個のルツボより真空蒸着して厚さ1000
Å、銀とイリジウムとの割合が100：20の蒸着層
を設けたほかは参考例７と同様にして金属蒸着積
層体をえた（トツプコート層のないものを試料
Ａ、トツプコート層のあるものを試料Ｂとす
る）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。結果を第３表に示
す。 参考例 ９ 厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上に銀−イリジウム合金（100：60）を5.0×
10-3トールのアルゴンガス雰囲気中で投入電力
2.0KWで高周波スパツタリングして厚さ1000
Å、銀とイリジウムとの割合が100：60の蒸着層
を設けて金属蒸着積層体をえた。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第３表に示す。 比較参考例 ５ 1.0×10-4トールの真空度下において銀を蒸発
源温度1500℃でケイ素を蒸発源温度1500℃で同時
に２個のルツボより真空蒸着して厚さが1000Å、
銀とケイ素との割合が100：20の蒸着層を設けた
ほかは参考例７と同様にして金属蒸着積層体をえ
た。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第３表に示す。
ム上にイリジウム1.0×10-4トール、蒸発源温度
3000℃で５Åの厚さに真空蒸着し、そのうえに銀
を1.0×10-4トール、蒸発源温度1400℃で600Åの
厚さに真空蒸着し、さらにそのうえにイリジウム
前記と同じ条件で５Åの厚さに真空蒸着して金属
蒸着積層体をえた（これを試料Ａとする）。 試料Ａのイリジウム蒸着層のうえにさらに尿素
−メラミン系樹脂のアルコール−トルエン溶液を
塗布、乾燥して乾燥膜厚0.5μのトツプコート層
を設けた（これを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。えられた結果を第
３表に示す。 参考例 ７ 厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上に1.0×10-4トールの真空度下において銀を
蒸発源温度1500℃でイリジウムを蒸発源温度3000
℃で同時に２個のルツボ（蒸発源、以下同様）よ
り真空蒸着して厚さ1000Å、銀とイリジウムとの
割合が100：１の蒸着層を設けて金属蒸着積層体
をえた（これを試料Ａとする）。 試料Ａの蒸着層のうえにさらに尿素−メラミン
系樹脂のアルコール−トルエン溶液を塗布、乾燥
して乾燥膜厚0.5μのトツプコート層を設けた
（これを試料Ｂとする）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。結果を第３表に示
す。 参考例 ８ 1.0×10-4トールの真空度下において銀を蒸発
源温度1500℃でイリジウムを蒸発源温度3000℃で
同時に２個のルツボより真空蒸着して厚さ1000
Å、銀とイリジウムとの割合が100：20の蒸着層
を設けたほかは参考例７と同様にして金属蒸着積
層体をえた（トツプコート層のないものを試料
Ａ、トツプコート層のあるものを試料Ｂとす
る）。 えられた試料ＡおよびＢについて参考例１と同
様にして外観評価を行なつた。結果を第３表に示
す。 参考例 ９ 厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上に銀−イリジウム合金（100：60）を5.0×
10-3トールのアルゴンガス雰囲気中で投入電力
2.0KWで高周波スパツタリングして厚さ1000
Å、銀とイリジウムとの割合が100：60の蒸着層
を設けて金属蒸着積層体をえた。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第３表に示す。 比較参考例 ５ 1.0×10-4トールの真空度下において銀を蒸発
源温度1500℃でケイ素を蒸発源温度1500℃で同時
に２個のルツボより真空蒸着して厚さが1000Å、
銀とケイ素との割合が100：20の蒸着層を設けた
ほかは参考例７と同様にして金属蒸着積層体をえ
た。 えられた試料について参考例１と同様にして外
観評価を行なつた。結果を第３表に示す。
【表】
【表】
実施例
厚さ12μのポリエチレンテレフタレートフイル
ム上にワツクスのトルエン溶液を塗布、乾燥して
乾燥膜厚0.1μの剥離層を設け、そのうえに尿素
−メラミン系樹脂のアルコール−トルエン溶液を
塗布、乾燥して乾燥膜厚1.0μの樹脂層を設け、
ついでイリジウムを1.0×10-4トール、蒸発源温
度3000℃で20Åの厚さに真空蒸着し、ひきつづき
銀を1.0×10-4トール、蒸発源温度1400℃で800Å
の厚さに真空蒸着し、さらにそのうえに塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体のトルエン−酢酸エチル
溶液を塗布、乾燥して乾燥膜厚1.5μの接着剤層
を設けて転写箔をえた。 えられた転写箔を用いて常法にしたがつて紙の
うえにホツトスタンプした。紙のうえにえられた
転写層は美麗な銀光沢を呈し長期間経過後も変色
することがなかつた。
ム上にワツクスのトルエン溶液を塗布、乾燥して
乾燥膜厚0.1μの剥離層を設け、そのうえに尿素
−メラミン系樹脂のアルコール−トルエン溶液を
塗布、乾燥して乾燥膜厚1.0μの樹脂層を設け、
ついでイリジウムを1.0×10-4トール、蒸発源温
度3000℃で20Åの厚さに真空蒸着し、ひきつづき
銀を1.0×10-4トール、蒸発源温度1400℃で800Å
の厚さに真空蒸着し、さらにそのうえに塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体のトルエン−酢酸エチル
溶液を塗布、乾燥して乾燥膜厚1.5μの接着剤層
を設けて転写箔をえた。 えられた転写箔を用いて常法にしたがつて紙の
うえにホツトスタンプした。紙のうえにえられた
転写層は美麗な銀光沢を呈し長期間経過後も変色
することがなかつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 可撓性基体の片面に、剥離層、銀蒸着層およ
びこれと直接接する少なくとも１層のイリジウム
蒸着層、さらに接着剤層をこの順に設けたことを
特徴とする転写箔。 ２ イリジウム蒸着層が５〜200Åの範囲の厚さ
を有する特許請求の範囲第１項記載の転写箔。 ３ 銀蒸着層が500〜1500Åの範囲の厚さを有す
る特許請求の範囲第１項記載の転写箔。 ４ 剥離層の基体と反対側にさらに樹脂層を設け
てなる特許請求の範囲第１項記載の転写箔。 ５ 可撓性基体の片面に、剥離層、銀とイリジウ
ムとのほぼ均一な混合物からなる蒸着層および接
着剤層をこの順に設けたことを特徴とする転写
箔。 ６ 銀とイリジウムとの割合が重量比で100：0.5
〜100：60の範囲にある特許請求の範囲第５項記
載の転写箔。 ７ 蒸着層の厚さが500〜1500Åの範囲にある特
許請求の範囲第５項記載の転写箔。 ８ 剥離層と蒸着層の間にさらに樹脂層を設けて
なる特許請求の範囲第５項記載の転写箔。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16153685A JPS6189100A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 転写箔 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16153685A JPS6189100A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 転写箔 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6189100A JPS6189100A (ja) | 1986-05-07 |
| JPS6143200B2 true JPS6143200B2 (ja) | 1986-09-26 |
Family
ID=15736962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16153685A Granted JPS6189100A (ja) | 1985-07-22 | 1985-07-22 | 転写箔 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6189100A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016112726A (ja) * | 2014-12-12 | 2016-06-23 | 東レフィルム加工株式会社 | 紙用転写箔 |
-
1985
- 1985-07-22 JP JP16153685A patent/JPS6189100A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6189100A (ja) | 1986-05-07 |
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