JPS6058532A - 元素分析装置 - Google Patents
元素分析装置Info
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- JPS6058532A JPS6058532A JP16958883A JP16958883A JPS6058532A JP S6058532 A JPS6058532 A JP S6058532A JP 16958883 A JP16958883 A JP 16958883A JP 16958883 A JP16958883 A JP 16958883A JP S6058532 A JPS6058532 A JP S6058532A
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- Japan
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- plasma
- measured
- light
- gas
- spectral analysis
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/73—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited using plasma burners or torches
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は例えば、あるガス中に含まれる不純物ガスの
分析に用いる元素分析装置に関するものである。
分析に用いる元素分析装置に関するものである。
第1図は従来装置を示し、第1図(a)はその縦断面図
、第1図(b)は第1図(a)のIB−IB線での断面
図で、第1図(a)は第1図(b)の■A−IA線での
断面図に相当する。図において、(1)は真空容器、(
2)はその排気孔、(3)はイオン源、(4)は4極子
分析子、(5)はそのイオン入口(小孔) 、(f3)
は出口、(7)はイオンコレクタで、4極分析子(4)
には第1図(b)に示すような形に高周波布、源(8)
によって高周波電圧が印加される。
、第1図(b)は第1図(a)のIB−IB線での断面
図で、第1図(a)は第1図(b)の■A−IA線での
断面図に相当する。図において、(1)は真空容器、(
2)はその排気孔、(3)はイオン源、(4)は4極子
分析子、(5)はそのイオン入口(小孔) 、(f3)
は出口、(7)はイオンコレクタで、4極分析子(4)
には第1図(b)に示すような形に高周波布、源(8)
によって高周波電圧が印加される。
この装置は2次元の双曲槻形電界中における荷電粒子の
運動軌道の安定性を利用して、ある比電荷e/mをもっ
た粒子のみをイオンコレクタ(7)に向って走らせ到達
させるようにしたものである。
運動軌道の安定性を利用して、ある比電荷e/mをもっ
た粒子のみをイオンコレクタ(7)に向って走らせ到達
させるようにしたものである。
第1図において、4極分栢子(4)には高周波電源(8
)から高周波電圧(振幅V)が印加しておいて、イオン
コレクタ(7)に直流電圧Uを印加して4隠分折子(4
)の中心軸に平行に分析すべきガスイオン源(3)から
のガスイオンを走らすことによって、上記印加電圧値に
対応した特定の質量をもったイオンのみがイオンコレク
タ(7)に到達できるように工夫されている。
)から高周波電圧(振幅V)が印加しておいて、イオン
コレクタ(7)に直流電圧Uを印加して4隠分折子(4
)の中心軸に平行に分析すべきガスイオン源(3)から
のガスイオンを走らすことによって、上記印加電圧値に
対応した特定の質量をもったイオンのみがイオンコレク
タ(7)に到達できるように工夫されている。
ところが、この従来の分析装置ではその製作に精度の高
い機械加工が要求される上に、高周波の高圧電源を必要
とし、しかもこの電圧をU/Vを一定として変化せねば
ならないという問題点があったO 〔発明の概要〕 この発明は以上のような点に鑑みてなされたもので、元
素特有のプラズマの色を分光分析することによって、簡
単でかつ、微量のガス成分でも分析検出できるガス分析
装置を提供するものである。
い機械加工が要求される上に、高周波の高圧電源を必要
とし、しかもこの電圧をU/Vを一定として変化せねば
ならないという問題点があったO 〔発明の概要〕 この発明は以上のような点に鑑みてなされたもので、元
素特有のプラズマの色を分光分析することによって、簡
単でかつ、微量のガス成分でも分析検出できるガス分析
装置を提供するものである。
第2図はこの発明の一実施例の本体部を断面で示す構成
系統図で、αυは被測定ガス源、(6)は光遮へい材か
らなる本体外箱、(ト)は本体内排気路、α→は排気路
パルプ、(ILL9は排気ポンプ、σQは被測定ガス導
入路、αのはガス導入路パルプ、(ト)は本体内をl= プラズマ発生室aすと分光室(1)と寺仕切る保護ガラ
ス板、Qυはプラズマ発生室ao内に設けられた対向電
極、(イ)は対向電極OJ)に電圧を供給する電源、(
23a) 、 (23b)は分光室四内に設けられたス
リット板、(ハ)はガラスフィルタ、に)は分光器、(
ホ)は光電管、(イ)は増幅器、に)はデータ処理用コ
ンピュータである。
系統図で、αυは被測定ガス源、(6)は光遮へい材か
らなる本体外箱、(ト)は本体内排気路、α→は排気路
パルプ、(ILL9は排気ポンプ、σQは被測定ガス導
入路、αのはガス導入路パルプ、(ト)は本体内をl= プラズマ発生室aすと分光室(1)と寺仕切る保護ガラ
ス板、Qυはプラズマ発生室ao内に設けられた対向電
極、(イ)は対向電極OJ)に電圧を供給する電源、(
23a) 、 (23b)は分光室四内に設けられたス
リット板、(ハ)はガラスフィルタ、に)は分光器、(
ホ)は光電管、(イ)は増幅器、に)はデータ処理用コ
ンピュータである。
この実施例装置では排気ポンプQ5でプラズマ発生室θ
呻内を排気し、高真空に保つ。次に、プラズマの光の減
衰や散乱を防ぐためその光が通過する分光室(4)内を
も排気して真空に保持する。
呻内を排気し、高真空に保つ。次に、プラズマの光の減
衰や散乱を防ぐためその光が通過する分光室(4)内を
も排気して真空に保持する。
次に、ガス導入路パルプQ71Q少し開いて被測定ガス
源Ql)から導入路θQを経て微量の被測定ガスをプラ
ズマ発生室0りを注入し、電源に)から対向電極Q])
間に電圧を印加してプラズマを余生させる0そこで発生
したプラズマ特有の光が保護ガラス(l樟を透過して、
分光室(1)に入り、スリット板(23a)で光束をし
ぼられ、ガラスフィルタ(ハ)で高調波成分が除去され
たのち分光器に)を通り、特定の波長に分けられる。そ
して、その光を更にスリット板(23b)で調光して、
光電管(イ)に照射する。このようにして光電管(1)
では、プラズマの特定の光を電気信号に変換し、その電
気信号を増幅器(財)で増幅してデータ処理用のコンピ
ュータに)に送る。この操作を所定の各種のガラスフィ
ルタ(ハ)について繰り返す。そして、コンピュータ(
ハ)で各波長と電気信号の強弱関係とについてデータ処
理する。また、このコンピュータ(ハ)には各元素のプ
ラズマ光の既知のデータが入力されており、比較分析で
きるようにガっておシ、かつ、保護ガラス板(至)およ
び使用した各ガラスフィルタ(財)の光の透過特性の補
正や光電管に)の感光特性の補正も行ない、綜合的に評
価できる。
源Ql)から導入路θQを経て微量の被測定ガスをプラ
ズマ発生室0りを注入し、電源に)から対向電極Q])
間に電圧を印加してプラズマを余生させる0そこで発生
したプラズマ特有の光が保護ガラス(l樟を透過して、
分光室(1)に入り、スリット板(23a)で光束をし
ぼられ、ガラスフィルタ(ハ)で高調波成分が除去され
たのち分光器に)を通り、特定の波長に分けられる。そ
して、その光を更にスリット板(23b)で調光して、
光電管(イ)に照射する。このようにして光電管(1)
では、プラズマの特定の光を電気信号に変換し、その電
気信号を増幅器(財)で増幅してデータ処理用のコンピ
ュータに)に送る。この操作を所定の各種のガラスフィ
ルタ(ハ)について繰り返す。そして、コンピュータ(
ハ)で各波長と電気信号の強弱関係とについてデータ処
理する。また、このコンピュータ(ハ)には各元素のプ
ラズマ光の既知のデータが入力されており、比較分析で
きるようにガっておシ、かつ、保護ガラス板(至)およ
び使用した各ガラスフィルタ(財)の光の透過特性の補
正や光電管に)の感光特性の補正も行ない、綜合的に評
価できる。
上記説明ではガス分析の場合について述べたが、固体の
場合でも電極Qルをその固体で構成し、既知のガスを用
いてプラズマを発生させれば、その固体元素のプラズマ
も発生するので、固体の元素分析にも用いることができ
る。
場合でも電極Qルをその固体で構成し、既知のガスを用
いてプラズマを発生させれば、その固体元素のプラズマ
も発生するので、固体の元素分析にも用いることができ
る。
以上説明したように、この発明では被測定物質のプラズ
マの光を分析するだけで、容易にかつ広範な分析が精度
よく行なうことが可能であり、被測定試料も比較的少量
でよいという利点もある。
マの光を分析するだけで、容易にかつ広範な分析が精度
よく行なうことが可能であり、被測定試料も比較的少量
でよいという利点もある。
第1図は従来装置を示し、同図(a)はその縦断面図、
図(b)は図(a)の1B−IB線での断面図、第2図
はこの発明の一実施例の本体部を断面で示す構成系統図
である。 図において、a])は被測定ガス源、0埠は本体外箱、
(至)は本体内排気路、04)は排気路パルプ、θυは
排気ポンプ、a・は被測定ガス導入路、Q71はガス導
入路パルプ、(ト)は仕切シガラス板、(1すはプラズ
マ発生室、翰は分光室、(2])は対向電極、(イ)は
高周波電源、(23a) 、 (23b)はスリット板
、(ハ)はガラスフィルタ、(イ)は分光器、に)は光
電管、(イ)は増幅器、(ハ)はコンピュータである。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 第1図 、! (#) A I
図(b)は図(a)の1B−IB線での断面図、第2図
はこの発明の一実施例の本体部を断面で示す構成系統図
である。 図において、a])は被測定ガス源、0埠は本体外箱、
(至)は本体内排気路、04)は排気路パルプ、θυは
排気ポンプ、a・は被測定ガス導入路、Q71はガス導
入路パルプ、(ト)は仕切シガラス板、(1すはプラズ
マ発生室、翰は分光室、(2])は対向電極、(イ)は
高周波電源、(23a) 、 (23b)はスリット板
、(ハ)はガラスフィルタ、(イ)は分光器、に)は光
電管、(イ)は増幅器、(ハ)はコンピュータである。 なお、図中同一符号は同一または相当部分を示す。 代理人 大 岩 増 雄 第1図 、! (#) A I
Claims (3)
- (1)被測定体のプラズマを発生させ、上記プラズマの
発する光を分光分析することKよって上記被測定体の元
素分析をすることを特徴とする元素分析装置。 - (2)被測定体が気体の場合は、所定対向電極が設けら
れた高真空空間に上記被測定体を導入し上記対向電極間
に高周波電圧を印加してプラズマを発生させることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の元素分析装置。 - (3)被測定体が固体の場合は上記被測定体で構成され
た対向電極が設けられた高真空空間に既知の気体を導入
し、上記対向電極間に高周波電圧を印加してプラズマを
発生させることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の元素分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16958883A JPS6058532A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 元素分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16958883A JPS6058532A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 元素分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6058532A true JPS6058532A (ja) | 1985-04-04 |
Family
ID=15889264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16958883A Pending JPS6058532A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 元素分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6058532A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02154143A (ja) * | 1988-12-07 | 1990-06-13 | Hitachi Ltd | 高周波プラズマ微量元素分析装置 |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP16958883A patent/JPS6058532A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02154143A (ja) * | 1988-12-07 | 1990-06-13 | Hitachi Ltd | 高周波プラズマ微量元素分析装置 |
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