JPS6226757A - 誘導結合プラズマ質量分析装置 - Google Patents

誘導結合プラズマ質量分析装置

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JPS6226757A
JPS6226757A JP60165277A JP16527785A JPS6226757A JP S6226757 A JPS6226757 A JP S6226757A JP 60165277 A JP60165277 A JP 60165277A JP 16527785 A JP16527785 A JP 16527785A JP S6226757 A JPS6226757 A JP S6226757A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inductive coupling
coupling plasma
light
mass spectrograph
mass
Prior art date
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Pending
Application number
JP60165277A
Other languages
English (en)
Inventor
Kozo Miishi
御石 浩三
Toshiya Kubodera
窪寺 俊也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、誘導結合プラズマ(■CP)中からイオンを
引き出して質量スペクトルを測定する装置に関するもの
である。
(従来技術) 近年、発光分析の光源に用いられている誘導結合プラズ
マを質量分析計のイオン源として用いて溶液中の元素分
析をイオンによって行なう試みがなされている(例えば
アナリスト(Analyst)誌、106巻、第125
5〜1267頁(19’81年)参照)。
この誘導結合プラズマ質量分析装置では、プラズマから
発生する光がバックグランドノイズとして検出され、分
析上S/N比を悪くしたり、検出限界を制限したりする
。そのため光によるバックグランドノイズをおさえる工
夫が種々なされている。
(発明が解決しようとする問題点) このような誘導結合プラズマ質量分析装置の操作におい
ては、プラズマ中へ試料が導入された後、操作者により
質量分析計の動作が開始される。その結果、操作者に負
担がかかるとともに、試料導入から測定開始までの間に
時間的余裕が必要となるため測定を迅速に行なうことが
難かしいという問題がある。
一方、プラズマ中に試料が導入されると、光の強度が変
化することが知られている。
そこで、本発明は本来の分析上は妨害成分になるプラズ
マからの光を積極的に利用して質量分析計の測定を自動
化することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明の誘導結合プラズマ質量分析装置では、装置内で
プラズマからの光を受光できる位置に光検出器が設けら
れ、この光検出器の検出強度が設定値以上になると質量
分析計の動作を開始させ。
この光検出器の検出強度が設定値未満になると質量分析
計の動作を停止させる制御回路が設けられている。
(実施例) 図は本発明の誘導結合プラズマ質量分析装置の一実施例
を概略的に表わす。
2は誘導結合プラズマを発生するトーチであり、中央の
ノズルに霧状の試料がキャリヤガス(Ar)とともに供
給され、その外側にプラズマガス(Ar)、さらにその
外側に冷却ガス(Ar)が供給される。トーチ2には高
周波コイル4が設けられている。
6は誘導結合プラズマの一部を採取する試料採取部で、
先端面が冷却ジャケット7となり、その冷却ジャケット
7にはサンプリングノズル8が開けられている。サンプ
リングノズル8は高温になるため、冷却ジャケット7は
冷却水9により冷却される。
誘導結合プラズマは大気圧で発生し、誘導結合プラズマ
と試料採取部6の圧力差によりサンプリングノズル8を
通して試料採取を行なう、10はレンズ系部で、採取し
た試料中のイオンビームの進行方向を整えるイオン収束
レンズ系12を備えている。14は分析部で四重極ロン
ド16を有し、レンズ系12から導かれたイオンビーム
から特定のm/Z(質量と電荷の比)をもつイオンを選
別する。四重極ロッド16は互いに対峙させられ、相対
する2組のロッドにそれぞれ直流電圧と高周波電圧が重
畳して印加される。18は検出器としての二次電子増倍
管である。
誘導結合プラズマは大気圧であるのに対し分析部は高真
空にする必要があるため、試料採取部6、レンズ系部1
0.及び分析部14にはそれぞれ真空排気系が設けられ
、各部の間を隔壁の小孔で連通させることにより差動排
気が行なわれている。
その結果、例えば試料採取部6は約I Torr、レン
ズ系部IOは10−’ 〜10−3Torr、分析部1
4は10−’〜10− ’ Torrというような真空
度に保たれる。
20は誘導結合プラズマの光をモニターするため四重極
ロッド16間の中心軸上に配置された光検出器としての
フォトダイオードである。
22はフォトダイオード20の検出信号を増幅する増幅
器、24は増幅器22により増幅された検出信号を微分
する微分回路である。
26は四重極ロッド16に印加する電圧を制御して走査
を行なう走査制御回路であり、28はこの走査制御回路
26の制御を受けて四重極ロッド16に直流電圧と高周
波電圧を重量して印加するR−F(高周波)1!源であ
る。走査制御回路26とR−F電源28の上記の機能は
従来の四重極質量分析計に備えられているものと同じで
あるが。
本実施例においては走査制御回路26は微分回路24の
出力信号を入力し、その入力信号が正の一定値以上にな
るとその信号をトリガーとしてR・F電源28による走
査を開始し、またその入力信号が負の一定値以下になる
とその信号をトリガーとしてR−F電源28による走査
を停止する機能も備えている。
微分回路24と走査制御回路26により、本発明におい
て誘導結合プラズマからの光の変化により質量分析計の
動作を開始、又は停止させる制御回路を摺成している。
次に本実施例の動作を説明すると、誘導結合プラズマ中
のイオンは、サンプリングノズル8で採取された後、収
束レンズ系12で収束作用をうけて四重極ロッド16の
間に導かれ、四重極ロッド16で質量分離された後、デ
ィフレクタ19で偏向されて二次電子増倍管18に達す
る。
一方、誘導結合プラズマからの光は直進してフォトダイ
オード20に達し、フォトダイオード20で電気信号に
変換される。光の強度変化を検出するために、フォトダ
イオード20の出力信号は増幅器22で増幅され、微分
回路24を通った後、走査制御回路26に導かれる。走
査制御回路26では、微分回路24から得られる出力信
号をトリガーとしてR−F電源28の走査を開始したり
停止したりする。
本実施例では光検出器20が四重極ロンド16間の中心
軸上に設けられているので、プラズマの光量変化を最も
有効に検出することができる。しかし、光検出器20は
例えばレンズ系部10や試料採取部6内でプラズマから
の光の散泌3受ける位置に設けることもできる。
(発明の効果) 本発明の誘導結合プラズマ質量分析装置は、キャリヤガ
スだけのプラズマを発生した直後から、質量分析計内に
設けた光検出器でプラズマからの光の光量をモニターす
る。試料導入に伴ない光量が変化するからこの光量の変
化をJR量分析計の走査開始信号として利用し、マスス
ペクトルの測定を自動的に始、め、また、マススペクト
ルの測定状態で試料導入を停止した場合、モニターして
いる光量変化を質量分析計の走査停止信号として用い、
マススペクトルの測定を終るように構成されたものであ
る。
その結果、次のような効果を実現することができる。
(1)測定操作が自動化できる。
(2)測定が迅速化される。
(3)測定に際し、操作者にかかる負担を軽減すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の一実施例を示す概略端面図である。 2・・・・・・誘導結合プラズマ用トーチ、6・・・・
・・試料採取部、 lO・・・・・・レンズ系部、 14・・・・・・分析部、 18・・・・・・二次電子増倍管、 20・・・・・・フォトダイオード、 22・・・・・・増幅器、 24・・・・・・微分回路、 26・・・・・・走査制御回路、 28・・・・・・R−F電源。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)誘導結合プラズマをイオン源として、その誘導結
    合プラズマ中のイオンを質量分析計で検出する装置にお
    いて、 装置内で前記誘導結合プラズマからの光を受光できる位
    置に光検出器を設けるとともに、 この光検出器の検出強度が設定値以上になると前記質量
    分析計の動作を開始させ、この光検出器の検出強度が設
    定値未満になると前記質量分析計の動作を停止させる制
    御回路を設けたことを特徴とする誘導結合プラズマ質量
    分析装置。
JP60165277A 1985-07-25 1985-07-25 誘導結合プラズマ質量分析装置 Pending JPS6226757A (ja)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS646352A (en) * 1987-06-29 1989-01-10 Yokogawa Electric Corp High-frequency inductive coupling plasma mass spectrometer
JPH01130253U (ja) * 1988-02-29 1989-09-05
DE3937547A1 (de) * 1988-11-11 1990-05-17 Hitachi Ltd Plasma-massenspektrometer
JPH03105841A (ja) * 1989-09-20 1991-05-02 Hitachi Ltd 質量分析方法
US5051584A (en) * 1989-01-30 1991-09-24 Vg Instruments Group Limited Plasma mass spectrometer
US5495107A (en) * 1994-04-06 1996-02-27 Thermo Jarrell Ash Corporation Analysis
GB2587055A (en) * 2019-05-31 2021-03-17 Micromass Ltd Ion guide

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS646352A (en) * 1987-06-29 1989-01-10 Yokogawa Electric Corp High-frequency inductive coupling plasma mass spectrometer
JPH01130253U (ja) * 1988-02-29 1989-09-05
DE3937547A1 (de) * 1988-11-11 1990-05-17 Hitachi Ltd Plasma-massenspektrometer
US5051584A (en) * 1989-01-30 1991-09-24 Vg Instruments Group Limited Plasma mass spectrometer
JPH03105841A (ja) * 1989-09-20 1991-05-02 Hitachi Ltd 質量分析方法
US5495107A (en) * 1994-04-06 1996-02-27 Thermo Jarrell Ash Corporation Analysis
GB2587055A (en) * 2019-05-31 2021-03-17 Micromass Ltd Ion guide
GB2587055B (en) * 2019-05-31 2021-12-01 Micromass Ltd Ion guide
US12112935B2 (en) 2019-05-31 2024-10-08 Micromass Uk Limited Ion guide

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