JPS605935Y2 - フィ−ドバ−移動装置 - Google Patents
フィ−ドバ−移動装置Info
- Publication number
- JPS605935Y2 JPS605935Y2 JP16679678U JP16679678U JPS605935Y2 JP S605935 Y2 JPS605935 Y2 JP S605935Y2 JP 16679678 U JP16679678 U JP 16679678U JP 16679678 U JP16679678 U JP 16679678U JP S605935 Y2 JPS605935 Y2 JP S605935Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- feed bar
- piston
- cylinder
- piston rod
- slider
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Press Drives And Press Lines (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はトランスファープレスにおいてフィードバーが
２種類以上の内山寸法で使用される時のフィードバーの
移送装置に関するものである。
２種類以上の内山寸法で使用される時のフィードバーの
移送装置に関するものである。
従来、プレスの金型を交換する際フィードバーを交換作
業の邪摩にならない位置に移動させるフィードバー移動
装置はフィードバーがある一定の内向をもった位置にあ
る場合しか使用できなかった。
業の邪摩にならない位置に移動させるフィードバー移動
装置はフィードバーがある一定の内向をもった位置にあ
る場合しか使用できなかった。
本考案はこの欠点を除去しフィードバーが２種類以上の
内山寸法であってもフィードバーを迅速かつ簡便に邪魔
にならない位置に運び、またもとの位置又は別の位置に
戻すことができるフィードバー移動装置を提供せんとす
るものである。
内山寸法であってもフィードバーを迅速かつ簡便に邪魔
にならない位置に運び、またもとの位置又は別の位置に
戻すことができるフィードバー移動装置を提供せんとす
るものである。
本考案の一実施例の図面について説明すれば、第１図は
フィードバーの位置が２種類の場合を示し第２図は第１
図のＡ矢視図で本装置の主要部は横移動用シリンダＡ及
びＢとフィトバー支７をピストンロッド８の先端に取付
けたフィードバーリフト用シリンダＣとで構成され、横
移動用シリンダＡのピストンロッド１の先端はベット２
の中央に立設したブラケット３に固定され、横移動用シ
リンダＢのピストンロッド４の先端はフィードバーリフ
ト用シリンダＣを保持しかつブラケット３とコラム１６
との間に架設した上下２本の水平なガイドバー５にガイ
ドされ横移動できるようになっているスライダ６に固定
されている。
フィードバーの位置が２種類の場合を示し第２図は第１
図のＡ矢視図で本装置の主要部は横移動用シリンダＡ及
びＢとフィトバー支７をピストンロッド８の先端に取付
けたフィードバーリフト用シリンダＣとで構成され、横
移動用シリンダＡのピストンロッド１の先端はベット２
の中央に立設したブラケット３に固定され、横移動用シ
リンダＢのピストンロッド４の先端はフィードバーリフ
ト用シリンダＣを保持しかつブラケット３とコラム１６
との間に架設した上下２本の水平なガイドバー５にガイ
ドされ横移動できるようになっているスライダ６に固定
されている。
スライダ６に上向に固定されたリフト用シリンダＣとフ
ィトバー支え７との間には回り止めピン１７が設けられ
ている。
ィトバー支え７との間には回り止めピン１７が設けられ
ている。
上述の装置はトランスファプレスの左右両側の前後のコ
ラム１６．１６間に設けられている。
ラム１６．１６間に設けられている。
シリンダＡのピストン両側のシリンダ室には夫々ポート
ａ、ｂが、シリンダＢのピストン両側のシリンダ室には
夫々ポートＣ９ｄが、またシリンダＣのピストン両側の
シリンダ室にはポートｅ、ｆが設けられている。
ａ、ｂが、シリンダＢのピストン両側のシリンダ室には
夫々ポートＣ９ｄが、またシリンダＣのピストン両側の
シリンダ室にはポートｅ、ｆが設けられている。
ポートａ、 ｄ、 ｆから圧油を供給した状態を第１
図に示し、このときフィトバー支え７は、内幅が小に調
整された場合のアンクランプ状態のフィードバー１０の
直下に位置している。
図に示し、このときフィトバー支え７は、内幅が小に調
整された場合のアンクランプ状態のフィードバー１０の
直下に位置している。
またポートｂ、 ｄ。ｆに圧油を供給したときはシリ
ンダＣは一点鎖線を示すＣ１、に位置し、フィトバー支
え７は内幅が大に調整された場合のアンクランプ状態の
フィードバー１０の直下に位置する。
ンダＣは一点鎖線を示すＣ１、に位置し、フィトバー支
え７は内幅が大に調整された場合のアンクランプ状態の
フィードバー１０の直下に位置する。
一点鎖線Ｃ２はポートｂ、ｃに圧油を供給したときのシ
リンダＣの位置を示す。
リンダＣの位置を示す。
内幅が小さい位置にフィードバーがあるとき■ ポート
ａ、 ａｔ ｆに油が入る。
ａ、 ａｔ ｆに油が入る。
■ ポートｅより油が入り、フィードバーを干渉する物
がない所まで持ち上げる。
がない所まで持ち上げる。
■ ポートｂ及びＣに油が入り、フィードバーを横移動
させる。
させる。
■ ポートｅより油が入り、フィードバーをさらに邪魔
にならない位置にまで上げる 内幅が大きい位置にフィードバーがあるとき■ ポート
ｂ、ｄ、ｆに油が入る。
にならない位置にまで上げる 内幅が大きい位置にフィードバーがあるとき■ ポート
ｂ、ｄ、ｆに油が入る。
■ ポートｅより油が入り、フィードバーを干渉する物
がない所まで持ち上げる。
がない所まで持ち上げる。
■ ポートＣに油が入り、フィードバーを横移動させる
。
。
■ ポートｅより油が入り、フィードバーをさらに邪魔
にならない位置まで上げる フィードバーを戻すときは上記の逆動作を行なつ。
にならない位置まで上げる フィードバーを戻すときは上記の逆動作を行なつ。
第３図はフィードバー１０内幅が３段階（仕様上３段階
）ある場合の図で、Ｐｌ、 Ｐ２． Ｐ、は各段階にお
けるフィードバー１０のアンクランプ状態を示している
。
）ある場合の図で、Ｐｌ、 Ｐ２． Ｐ、は各段階にお
けるフィードバー１０のアンクランプ状態を示している
。
従来、Ｐ２はクランプ駆動ボックス１２を移動させるこ
とによりＰ３にした後、すなわちＰ２をＰ、の位置にし
た後、フィードバー１０は処理されていた。
とによりＰ３にした後、すなわちＰ２をＰ、の位置にし
た後、フィードバー１０は処理されていた。
この場合フィードバー１０の処理はＰ４の位置でないと
できない構造であったので、Ｐｌのときは手作業で処理
していた。
できない構造であったので、Ｐｌのときは手作業で処理
していた。
本考案はＰｌとＰ、若しくは、Ｐ□をＰ２に移動させる
ことにより、Ｐ２とＰ、の位置にあるフィードバー１０
を移動できる構造である。
ことにより、Ｐ２とＰ、の位置にあるフィードバー１０
を移動できる構造である。
フィードバー１０を処理するためのフィードバー支え７
とフィードバー受け１１は別のものであって、フィトバ
ー支え７はフィードバー移動の時のみ上昇してフィード
バーを支え、他の時は下降している。
とフィードバー受け１１は別のものであって、フィトバ
ー支え７はフィードバー移動の時のみ上昇してフィード
バーを支え、他の時は下降している。
すなわち、プレス作業が終了し、フィードバーをアンク
ランプの位置（第３図Ｐ１．Ｐ２゜Ｐ４の位置）にフィ
ードバー受と共にフィードバーが来たとき、フィードバ
ー支え７を上昇させてフィードバーを上昇させることに
より上方にフィードバーを退避させることができる。
ランプの位置（第３図Ｐ１．Ｐ２゜Ｐ４の位置）にフィ
ードバー受と共にフィードバーが来たとき、フィードバ
ー支え７を上昇させてフィードバーを上昇させることに
より上方にフィードバーを退避させることができる。
上述せる構成と作用を有する本考案によれば、従来とく
らべ下記のようなすぐれている点がある。
らべ下記のようなすぐれている点がある。
−例としてクランプユニット１３上でスペーサ１４をか
いしてフィードバー受け１５を第４図において位置りか
ら位置Ｅへ移動させる場合、本装置を使用してフィード
バーを邪魔にならない任意の位置Ｆへ移動させてからフ
ィードバー受は取付ボルト９をはずし、受けを別の位置
Ｅに取付ける。
いしてフィードバー受け１５を第４図において位置りか
ら位置Ｅへ移動させる場合、本装置を使用してフィード
バーを邪魔にならない任意の位置Ｆへ移動させてからフ
ィードバー受は取付ボルト９をはずし、受けを別の位置
Ｅに取付ける。
装置を利用してフィードバーをフィードバー受け１５に
入れることができる。
入れることができる。
この間、人は重いフィードバーを持つことなく簡便に行
なうことができるものである。
なうことができるものである。
第１図は本考案の一実施例説明用断面図、第２図は第１
図のＡ矢視図、第３図はフィードバー内幅が３段階ある
場合のフィードバー移動処理説明用図、第４図は２種類
のフィードバー内幅を有する場合の移動説明用図である
。 １はピストンロッド、２はヘッド、３はブラケット、４
はピストンロッド、５はガイドバー、６はスライダー
７はフィトバー支え、８はピストンロッド、９は取付ボ
ルト、１０はフィードバー、１１はフィードバー受け、
１２はクランプ駆動ボックス、１３はクランプユニット
、１４はスペーサ、１５はフィードバー受け、１６はコ
ラム、１７は回り止めピンである。
図のＡ矢視図、第３図はフィードバー内幅が３段階ある
場合のフィードバー移動処理説明用図、第４図は２種類
のフィードバー内幅を有する場合の移動説明用図である
。 １はピストンロッド、２はヘッド、３はブラケット、４
はピストンロッド、５はガイドバー、６はスライダー
７はフィトバー支え、８はピストンロッド、９は取付ボ
ルト、１０はフィードバー、１１はフィードバー受け、
１２はクランプ駆動ボックス、１３はクランプユニット
、１４はスペーサ、１５はフィードバー受け、１６はコ
ラム、１７は回り止めピンである。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 トランスファプレスの左右両側の前後のコラムと、その
中央部のベットに立設したブラケット３との夫々の間に
、上下に間隔をあけて２本の水平なガイドバー５，５を
設け、ガイドバー５，５に平行でかつ摺動自在の２個の
横移動用シリンダＡ、 Ｂを直列に連結して設け、シリ
ンダＡに適合するピストンのピストンロッド１をブラケ
ット３に連結腰シリンダＢに適合するピストンのピスト
ンロッド４に連結され、ガイドバー５，５に摺動自在の
スライダ６を設け、スライダ６に上向のリフト用シリン
ダＣを固設し、シリンダＣに適合するピストンのピスト
ンロッド８上端にフィトバー支え７を回り止めして設け
、シリンダＡ、Ｂ。 Ｃのピストン両側のシリンダ室に連絡する各ポートに選
択的に圧油を給排制御することを特徴とするフィードバ
ー移送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16679678U JPS605935Y2 (ja) | 1978-12-05 | 1978-12-05 | フィ−ドバ−移動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16679678U JPS605935Y2 (ja) | 1978-12-05 | 1978-12-05 | フィ−ドバ−移動装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5588332U JPS5588332U (ja) | 1980-06-18 |
| JPS605935Y2 true JPS605935Y2 (ja) | 1985-02-25 |
Family
ID=29166427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16679678U Expired JPS605935Y2 (ja) | 1978-12-05 | 1978-12-05 | フィ−ドバ−移動装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS605935Y2 (ja) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6873087B1 (en) | 1999-10-29 | 2005-03-29 | Board Of Regents, The University Of Texas System | High precision orientation alignment and gap control stages for imprint lithography processes |
| EP1303792B1 (en) | 2000-07-16 | 2012-10-03 | Board Of Regents, The University Of Texas System | High-resolution overlay alignement methods and systems for imprint lithography |
| AU2001277907A1 (en) | 2000-07-17 | 2002-01-30 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Method and system of automatic fluid dispensing for imprint lithography processes |
| KR101031528B1 (ko) | 2000-10-12 | 2011-04-27 | 더 보드 오브 리전츠 오브 더 유니버시티 오브 텍사스 시스템 | 실온 저압 마이크로- 및 나노- 임프린트 리소그래피용템플릿 |
| US6964793B2 (en) | 2002-05-16 | 2005-11-15 | Board Of Regents, The University Of Texas System | Method for fabricating nanoscale patterns in light curable compositions using an electric field |
| US6926929B2 (en) | 2002-07-09 | 2005-08-09 | Molecular Imprints, Inc. | System and method for dispensing liquids |
| US6900881B2 (en) | 2002-07-11 | 2005-05-31 | Molecular Imprints, Inc. | Step and repeat imprint lithography systems |
| US6908861B2 (en) | 2002-07-11 | 2005-06-21 | Molecular Imprints, Inc. | Method for imprint lithography using an electric field |
| US7019819B2 (en) | 2002-11-13 | 2006-03-28 | Molecular Imprints, Inc. | Chucking system for modulating shapes of substrates |
| US7027156B2 (en) | 2002-08-01 | 2006-04-11 | Molecular Imprints, Inc. | Scatterometry alignment for imprint lithography |
| US6916584B2 (en) | 2002-08-01 | 2005-07-12 | Molecular Imprints, Inc. | Alignment methods for imprint lithography |
| US7070405B2 (en) | 2002-08-01 | 2006-07-04 | Molecular Imprints, Inc. | Alignment systems for imprint lithography |
| US7071088B2 (en) | 2002-08-23 | 2006-07-04 | Molecular Imprints, Inc. | Method for fabricating bulbous-shaped vias |
| US6980282B2 (en) | 2002-12-11 | 2005-12-27 | Molecular Imprints, Inc. | Method for modulating shapes of substrates |
| US6871558B2 (en) | 2002-12-12 | 2005-03-29 | Molecular Imprints, Inc. | Method for determining characteristics of substrate employing fluid geometries |
| US7452574B2 (en) | 2003-02-27 | 2008-11-18 | Molecular Imprints, Inc. | Method to reduce adhesion between a polymerizable layer and a substrate employing a fluorine-containing layer |
| US7179396B2 (en) | 2003-03-25 | 2007-02-20 | Molecular Imprints, Inc. | Positive tone bi-layer imprint lithography method |
| US7122079B2 (en) | 2004-02-27 | 2006-10-17 | Molecular Imprints, Inc. | Composition for an etching mask comprising a silicon-containing material |
| US7396475B2 (en) | 2003-04-25 | 2008-07-08 | Molecular Imprints, Inc. | Method of forming stepped structures employing imprint lithography |
| US7157036B2 (en) | 2003-06-17 | 2007-01-02 | Molecular Imprints, Inc | Method to reduce adhesion between a conformable region and a pattern of a mold |
| US7136150B2 (en) | 2003-09-25 | 2006-11-14 | Molecular Imprints, Inc. | Imprint lithography template having opaque alignment marks |
| US7090716B2 (en) | 2003-10-02 | 2006-08-15 | Molecular Imprints, Inc. | Single phase fluid imprint lithography method |
| US7292326B2 (en) | 2004-11-30 | 2007-11-06 | Molecular Imprints, Inc. | Interferometric analysis for the manufacture of nano-scale devices |
| US7630067B2 (en) | 2004-11-30 | 2009-12-08 | Molecular Imprints, Inc. | Interferometric analysis method for the manufacture of nano-scale devices |
-
1978
- 1978-12-05 JP JP16679678U patent/JPS605935Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5588332U (ja) | 1980-06-18 |
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