JPS6060133A - ポリエステルの製造法 - Google Patents
ポリエステルの製造法Info
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Landscapes
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はポリエステルの製造法に関する。詳しくはポリ
エステル特に芳香族ポリエステルの直接的な製造法に関
する。
エステル特に芳香族ポリエステルの直接的な製造法に関
する。
ポリエステル特に芳香族ポリエステルは、ジフェノール
類とジカルボン酸ジノ1ライドとの界面重縮合ないし溶
液重縮合、ジフェノール類のジアセテートとジカルボン
酸との溶融重縮合、ジフェノール類とジカルボン酸ジフ
ェニルエステルとの溶融重縮合、p−アセトキシ安息香
酸類の溶融重縮合、p−ヒドロキシ安息香酸フェニルエ
ステル類の溶融重縮合は知られているが、ジフェノール
類とジカルボン酸とを直接反応させてポリエステルを製
造することは一般に困難であることが知られている。
類とジカルボン酸ジノ1ライドとの界面重縮合ないし溶
液重縮合、ジフェノール類のジアセテートとジカルボン
酸との溶融重縮合、ジフェノール類とジカルボン酸ジフ
ェニルエステルとの溶融重縮合、p−アセトキシ安息香
酸類の溶融重縮合、p−ヒドロキシ安息香酸フェニルエ
ステル類の溶融重縮合は知られているが、ジフェノール
類とジカルボン酸とを直接反応させてポリエステルを製
造することは一般に困難であることが知られている。
本発明者は鋭意検討の結果、ジンエノール類とジカルボ
ン酸を直接反応させることによシ、およびヒドロキシ安
息香酸類を直接反応させることによシポリエステル、特
に芳香族ポリエステルを製造する方法を見出した。
ン酸を直接反応させることによシ、およびヒドロキシ安
息香酸類を直接反応させることによシポリエステル、特
に芳香族ポリエステルを製造する方法を見出した。
また、本発明者はこの方法ではジフェノール以外のジオ
ール類を用いてポリエステルを製造することも可能であ
り、さらにジオール、ジカルボン酸およびベンゼン環に
フェノール性水酸基とカルボキシル基を有するオキシ酸
との重縮合によってもポリエステルが製造出来ることを
見出した。
ール類を用いてポリエステルを製造することも可能であ
り、さらにジオール、ジカルボン酸およびベンゼン環に
フェノール性水酸基とカルボキシル基を有するオキシ酸
との重縮合によってもポリエステルが製造出来ることを
見出した。
すなわち本発明の要旨はジカルボン酸とジオールトの重
縮合、ベンゼン環にフェノール性水酸基とカルボキシル
基を有するオキシ酸の重縮合またHgオキシ酸とジオー
ルとジカルボン酸との重縮合反応において一般式(1) (式中R”、WおよびR1は水素原子、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基またはシクロアルキル基を示す
〕で表わされるアミド化合物またル′および一般式(旧 (式中R4は炭素数3以上の枝分れしてもよいアルキレ
ン基を示し、RIは水素原子、アルキル基、アリール基
、アラルキル基またはシクロアルキル基を示す。)で表
わされるアミド化合物と一般式(Ill) (式中R6およびR7はアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基またはシクロヘキシル基を示し、XIはハロゲ
ン原子を示す)で表わされるハロゲン化リン化合物との
反応によシ生成する四級塩を存在させることを特徴とす
るポリエステルの製造法に存する。
縮合、ベンゼン環にフェノール性水酸基とカルボキシル
基を有するオキシ酸の重縮合またHgオキシ酸とジオー
ルとジカルボン酸との重縮合反応において一般式(1) (式中R”、WおよびR1は水素原子、アルキル基、ア
リール基、アラルキル基またはシクロアルキル基を示す
〕で表わされるアミド化合物またル′および一般式(旧 (式中R4は炭素数3以上の枝分れしてもよいアルキレ
ン基を示し、RIは水素原子、アルキル基、アリール基
、アラルキル基またはシクロアルキル基を示す。)で表
わされるアミド化合物と一般式(Ill) (式中R6およびR7はアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基またはシクロヘキシル基を示し、XIはハロゲ
ン原子を示す)で表わされるハロゲン化リン化合物との
反応によシ生成する四級塩を存在させることを特徴とす
るポリエステルの製造法に存する。
本発明の詳細な説明するに本発明において使用されるジ
カルボン酸としては一般式(■)HOOO−R’−00
0H−−−−−−−(1%l)(式中Raはコ価の芳香
族基、 Re xt RIG−基、Ym ’ya で表わされる化合物が挙げられる。ここでR9およびR
10はコ価の芳香族基であシ、XIは酸素原子、硫黄原
子、スルホニル基、カルボニル基、アルキレン基、アル
キリデン基またはなしを示す。
カルボン酸としては一般式(■)HOOO−R’−00
0H−−−−−−−(1%l)(式中Raはコ価の芳香
族基、 Re xt RIG−基、Ym ’ya で表わされる化合物が挙げられる。ここでR9およびR
10はコ価の芳香族基であシ、XIは酸素原子、硫黄原
子、スルホニル基、カルボニル基、アルキレン基、アル
キリデン基またはなしを示す。
2価の芳香族基としては
Y? Yi
ン原子アルコキシ基またはアルキル基を示す)sY4
いてY1〜Y4は水素原子、ハロゲンa子、アルコキシ
基またはアルキル基を示す。
基またはアルキル基を示す。
具体例としてはテレフタル酸、インフタル酸、ナフタリ
ンーー、6−ジカルポン酸、ナフタリン−/、5−ジカ
ルボン酸、ジフェニル−+、 lI’−ジカルボン酸、
メチルテレフタル酸、メチルイソフタル酸、シンエニル
エーデルータ、q′−ジカルボン酸、ジンエニルチオエ
ーテルー乞り′−ジカルボン酸、ジンエニルスルホンー
タ、り′−ジカルボン酸、ジフェニルケトンータ、り′
−ジカルボン酸、コ、+2−ジフェニルプロパンーグ+
’l”/カルボン酸、ジンエニルーク、り′−ジカルボ
ン酸のような芳香族ジカルボン酸、/、4I−キシリレ
ンジカルボン酸、l、3−キシリレンジカルボン酸のよ
うなアラルキレン系ジカルボン酸、マロン酸、コハク酸
、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、
アゼライン酸のような鎖状脂肪族ジカルボン酸、ノ、l
lシクロヘキシルジカルボン酸、/、Jシクロヘキシル
ジカルボン酸、/、4シクロヘキシルジカルボンr#/
、3シクロペンチルジカルボンR1/、2シクロヘキシ
ルジカルボン酸等の環状脂肪族ジカルボン酸が挙げられ
るが必ずしもこれらに限定されるものではない。またこ
れらは混合物としても使用してもよい。
ンーー、6−ジカルポン酸、ナフタリン−/、5−ジカ
ルボン酸、ジフェニル−+、 lI’−ジカルボン酸、
メチルテレフタル酸、メチルイソフタル酸、シンエニル
エーデルータ、q′−ジカルボン酸、ジンエニルチオエ
ーテルー乞り′−ジカルボン酸、ジンエニルスルホンー
タ、り′−ジカルボン酸、ジフェニルケトンータ、り′
−ジカルボン酸、コ、+2−ジフェニルプロパンーグ+
’l”/カルボン酸、ジンエニルーク、り′−ジカルボ
ン酸のような芳香族ジカルボン酸、/、4I−キシリレ
ンジカルボン酸、l、3−キシリレンジカルボン酸のよ
うなアラルキレン系ジカルボン酸、マロン酸、コハク酸
、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、
アゼライン酸のような鎖状脂肪族ジカルボン酸、ノ、l
lシクロヘキシルジカルボン酸、/、Jシクロヘキシル
ジカルボン酸、/、4シクロヘキシルジカルボンr#/
、3シクロペンチルジカルボンR1/、2シクロヘキシ
ルジカルボン酸等の環状脂肪族ジカルボン酸が挙げられ
るが必ずしもこれらに限定されるものではない。またこ
れらは混合物としても使用してもよい。
ジオールとしては一般式(V)
HO−RII−OH−−−−e・−(V)(式中R1″
はコ価の芳香族基、コ価の脂肪族基、す)で表わされる
化合物が挙げられる。R”およびR”は前記R9および
RIoと同意義を表わし、Xlは前記X1と同意義、Y
9〜Yl″は前記Y”〜Y゛と同意義を表わす。具体例
としては・・イドロキノン、レソルシン、メチルハイド
ロキノン、クロロハイドロキノン、アセチルハイドロキ
ノン、アセトキシハイドルキノン、ニトロハイドロキノ
ン、ジメチルアミノハイドロキノン、/、クージヒドロ
キシナフトール、1.!−ジヒドロキシナフトール、l
、6−ジヒドロキシナフトール、2.A−ジヒドロキシ
ナフトール、ツアージヒドロキシナフトール、2.2’
−ビス(4t−ヒドロキシフェニル)プロパン、!、2
’−ビス(lI−ヒドロキシ−3,3−ジメチルフェニ
ル)プロパン、占、2’−ビス(クーヒドロキシ3.S
−ジクロロフェニル)−プロパン、コ、2′−ビス(グ
ーヒドロキシ−3−メチルンエニル)−プロパン、2.
2’−ビス(クーヒドロキ’/−3−クロロフェニル)
フロパン、ビス(41−ヒドロキシフェニル〕−メタン
、ビス(ターヒドロキシ−J、5−ジメチルフェニル)
−メタン、ビス(lI−ヒドロキシ−3,3−ジクロロ
フェニル)−メタン、ビス(ターヒドロキシ−3,3−
ジブロモフェニル)−メタン、/、 / −ヒス(クー
ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4/、llI′
−ジヒドロキシジフェニルビス(4t−ヒドロキシフェ
ニル)−ケトン、ビス(lI−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)−ケトン、ビス(μmヒドロキシ−3
,5−ジクロロフェニル)−ケトン、ビス(クーヒドロ
キシフェニル)スルフィド、ビス(9−ヒ)”o*フシ
−3−クロロフェニル)スルフィト0、ヒス(ターヒド
ロキシフェニル)スルホン、ビス(弘−ヒドロキシ−a
、s−ジクロロフェニル)エーテル、乞y′−ジヒドロ
キシジフェニル、/、+−ブタンジオール、/、lI−
シクロヘキサンジオール、/、6−へキサメチレンジオ
ール、/、クーシクロヘキサンジメタツール、キシリデ
ン−7,l−ジオール、1.3−シクロヘキサンジオー
ル等が挙げられるが、必ずしもこれらに駆足されるもの
ではない。またこれらは混合物として使用してもよい。
はコ価の芳香族基、コ価の脂肪族基、す)で表わされる
化合物が挙げられる。R”およびR”は前記R9および
RIoと同意義を表わし、Xlは前記X1と同意義、Y
9〜Yl″は前記Y”〜Y゛と同意義を表わす。具体例
としては・・イドロキノン、レソルシン、メチルハイド
ロキノン、クロロハイドロキノン、アセチルハイドロキ
ノン、アセトキシハイドルキノン、ニトロハイドロキノ
ン、ジメチルアミノハイドロキノン、/、クージヒドロ
キシナフトール、1.!−ジヒドロキシナフトール、l
、6−ジヒドロキシナフトール、2.A−ジヒドロキシ
ナフトール、ツアージヒドロキシナフトール、2.2’
−ビス(4t−ヒドロキシフェニル)プロパン、!、2
’−ビス(lI−ヒドロキシ−3,3−ジメチルフェニ
ル)プロパン、占、2’−ビス(クーヒドロキシ3.S
−ジクロロフェニル)−プロパン、コ、2′−ビス(グ
ーヒドロキシ−3−メチルンエニル)−プロパン、2.
2’−ビス(クーヒドロキ’/−3−クロロフェニル)
フロパン、ビス(41−ヒドロキシフェニル〕−メタン
、ビス(ターヒドロキシ−J、5−ジメチルフェニル)
−メタン、ビス(lI−ヒドロキシ−3,3−ジクロロ
フェニル)−メタン、ビス(ターヒドロキシ−3,3−
ジブロモフェニル)−メタン、/、 / −ヒス(クー
ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、4/、llI′
−ジヒドロキシジフェニルビス(4t−ヒドロキシフェ
ニル)−ケトン、ビス(lI−ヒドロキシ−3,5−ジ
メチルフェニル)−ケトン、ビス(μmヒドロキシ−3
,5−ジクロロフェニル)−ケトン、ビス(クーヒドロ
キシフェニル)スルフィド、ビス(9−ヒ)”o*フシ
−3−クロロフェニル)スルフィト0、ヒス(ターヒド
ロキシフェニル)スルホン、ビス(弘−ヒドロキシ−a
、s−ジクロロフェニル)エーテル、乞y′−ジヒドロ
キシジフェニル、/、+−ブタンジオール、/、lI−
シクロヘキサンジオール、/、6−へキサメチレンジオ
ール、/、クーシクロヘキサンジメタツール、キシリデ
ン−7,l−ジオール、1.3−シクロヘキサンジオー
ル等が挙げられるが、必ずしもこれらに駆足されるもの
ではない。またこれらは混合物として使用してもよい。
ベンゼン環にフェノール性水醒基トカルボキシル基を有
するオキシ酸としては、一般式%式% 0ゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を示す)で
表わされる化合物が使用しつる。具体例としてはp−ヒ
ドロキシ安息香酸、m−ヒト。
するオキシ酸としては、一般式%式% 0ゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を示す)で
表わされる化合物が使用しつる。具体例としてはp−ヒ
ドロキシ安息香酸、m−ヒト。
ロキシ安息香酸、シキリンガー酸、ノ(二1ノン酸、ダ
ーヒドロキS/ y/−カルボキシジフェニルエーテル
、ダーヒドロキシー7′−カルボキシビフエ= ル1.
2. is−ジクロロ−p−ヒドロキシ安息香酸、ノー
クロロ−Pmヒドロキシ安息香敵。
ーヒドロキS/ y/−カルボキシジフェニルエーテル
、ダーヒドロキシー7′−カルボキシビフエ= ル1.
2. is−ジクロロ−p−ヒドロキシ安息香酸、ノー
クロロ−Pmヒドロキシ安息香敵。
コ、乙−ジフルオローp−ヒドロキシ安息香酸等のヒド
ロキシ安息香酸類が挙けられる0これらは混合物であっ
てもよい。
ロキシ安息香酸類が挙けられる0これらは混合物であっ
てもよい。
用可能であるが、N、N−ジメチルホルムアミドi.N
−ジエチルホルムアミド、N,N−シフ゛チルホルムア
ミド、N−メチル」1ルムアミド、ホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトア
ミド、N−メチルアセトアミド、アセトアニリド、N,
N−ジフェニルホルムアミド、ベンゾイルアミド、N,
N−ジメチルベンゾイルアミド、N−メチルベンゾイル
アミド、N、N−ジエチルアセトアミドのように前示f
f式C1)においてR゛、R゛およびR1が水素原子、
アルキル基およびアリール基のものが特に好ましい。ま
た一般式(1)で表わされるものとして[N−メチルー
−ピロリドンがコストの点カラ好ましい。
−ジエチルホルムアミド、N,N−シフ゛チルホルムア
ミド、N−メチル」1ルムアミド、ホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトア
ミド、N−メチルアセトアミド、アセトアニリド、N,
N−ジフェニルホルムアミド、ベンゾイルアミド、N,
N−ジメチルベンゾイルアミド、N−メチルベンゾイル
アミド、N、N−ジエチルアセトアミドのように前示f
f式C1)においてR゛、R゛およびR1が水素原子、
アルキル基およびアリール基のものが特に好ましい。ま
た一般式(1)で表わされるものとして[N−メチルー
−ピロリドンがコストの点カラ好ましい。
本発明で用いられるリン化合物としては、一般式(1)
で表わされるものはいずれも使用可能であるが、具体例
としてはジンエニルクロル7オスフエート、ジノニルフ
ェニルクロルフオスフエノート、ジベンジルクロルフォ
スフェート、ジブチルクロルフオスフエノート、ジシク
ロヘス キシルクロルフオ虎フェート、ジヘキシルクロルフオス
フエート、ジオクチルクロルフォスフェート、ジドデシ
ルクロルフォスフェート、ジンエニルブロモフオスフエ
ート、ジンエニルフルオロフオス7エートフェニルブチ
ルクロルフオスフエート、ベンジルオクチルクロルフォ
スフェートなどが挙けられるがハロゲン原子として塩素
原子を含むフォスフェートが好ましい。
で表わされるものはいずれも使用可能であるが、具体例
としてはジンエニルクロル7オスフエート、ジノニルフ
ェニルクロルフオスフエノート、ジベンジルクロルフォ
スフェート、ジブチルクロルフオスフエノート、ジシク
ロヘス キシルクロルフオ虎フェート、ジヘキシルクロルフオス
フエート、ジオクチルクロルフォスフェート、ジドデシ
ルクロルフォスフェート、ジンエニルブロモフオスフエ
ート、ジンエニルフルオロフオス7エートフェニルブチ
ルクロルフオスフエート、ベンジルオクチルクロルフォ
スフェートなどが挙けられるがハロゲン原子として塩素
原子を含むフォスフェートが好ましい。
アミド化合物の使用量はジオール又はオキシ酸1モルに
対して//A; 0モル以上用いることが必要であシ、
リン化合物の使用量はジオールまたはオキシ酸1モルに
対し2〜70倍モル、好ましくはコーグ倍モル用いるこ
とが必要である。
対して//A; 0モル以上用いることが必要であシ、
リン化合物の使用量はジオールまたはオキシ酸1モルに
対し2〜70倍モル、好ましくはコーグ倍モル用いるこ
とが必要である。
重合に際しては塩基単独あるいは塩基と溶媒中でアミド
化合物とリン化合物を予め反応させて、四級塩を系内申
で生成〔その生成量はジオール又はオキシ酸1モルに対
し//jtθモル以上〕させた後に前記モノマー(ジカ
ルボン酸トジオール、あるいは/およびオキシ酸〕を混
合加熱する方法が適当であシ、反応温度は通常O−SO
℃程度、好ましくは室温程度がよい。この目的のために
使用される塩基としてはピリジン、覆−ピコリン、β−
ピコリン、r−ピコリン、3.5−ルチジン、3,4!
−ルチジン、λ、ダールチジン、コ、6−ルチジン、2
3−ルチジン、2.J−ルチジン、コ、ダ、6−コリジ
ン、キノリン、インキノリン、ジメチルアニリン等が挙
げられるが、第三級アミンであれヴいずれも使用可能で
ある。
化合物とリン化合物を予め反応させて、四級塩を系内申
で生成〔その生成量はジオール又はオキシ酸1モルに対
し//jtθモル以上〕させた後に前記モノマー(ジカ
ルボン酸トジオール、あるいは/およびオキシ酸〕を混
合加熱する方法が適当であシ、反応温度は通常O−SO
℃程度、好ましくは室温程度がよい。この目的のために
使用される塩基としてはピリジン、覆−ピコリン、β−
ピコリン、r−ピコリン、3.5−ルチジン、3,4!
−ルチジン、λ、ダールチジン、コ、6−ルチジン、2
3−ルチジン、2.J−ルチジン、コ、ダ、6−コリジ
ン、キノリン、インキノリン、ジメチルアニリン等が挙
げられるが、第三級アミンであれヴいずれも使用可能で
ある。
また溶媒としては、クロルベンゼン、0−ジクロルベン
ゼン、四塩化炭素、ジクロルメタン、テトラクロルエタ
ンのような塩素系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド%N−メチルピロリド、γ−ブチロラク
トン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ヘキサメチ
ルホスホルアミドのような極性溶媒・6ン57・トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素が挙げられる。重
縮合温度は溶媒によシ異なる力よ、通常go−コθO℃
程度、好ましくはioo〜/20℃程度がよい。
ゼン、四塩化炭素、ジクロルメタン、テトラクロルエタ
ンのような塩素系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド%N−メチルピロリド、γ−ブチロラク
トン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ヘキサメチ
ルホスホルアミドのような極性溶媒・6ン57・トルエ
ン、キシレンのような芳香族炭化水素が挙げられる。重
縮合温度は溶媒によシ異なる力よ、通常go−コθO℃
程度、好ましくはioo〜/20℃程度がよい。
なお、本発明では重合中に生成するボ1ツマ−の溶解性
や膨潤性を調節するための添加剤として、および重合度
を上昇させるための助斉Uとして用いられるLi0j?
、 OaO/、、Mgc/l、LiBrなどのようなア
ルカリまたはアルカリ土類金属のノ・ロゲン化物の添加
なしに高重合度で分子量分布の非常ニ狭いポリエステル
が容易に得られる。
や膨潤性を調節するための添加剤として、および重合度
を上昇させるための助斉Uとして用いられるLi0j?
、 OaO/、、Mgc/l、LiBrなどのようなア
ルカリまたはアルカリ土類金属のノ・ロゲン化物の添加
なしに高重合度で分子量分布の非常ニ狭いポリエステル
が容易に得られる。
重合中の系は、均一系、析出系、ゲル様系と使用する七
ツマ−の組合せおよび溶媒、添加剤の種類等により種々
であるが、重合体の単離は低級アルコール、低級ケトン
のような有機溶媒中への再沈、または水のみによる再沈
、洗浄などによって行なうことができる。
ツマ−の組合せおよび溶媒、添加剤の種類等により種々
であるが、重合体の単離は低級アルコール、低級ケトン
のような有機溶媒中への再沈、または水のみによる再沈
、洗浄などによって行なうことができる。
以下本発明を実施例によシ詳細に説明する。
実施例/ −4(、比較例/
ジフェニルクロロホスフェ−) (/ 3 ミIJモル
)のピリジン(lOml)溶液にN、N−ジメチルホル
ムアミド(DMF、0〜λtミリモル)を加え、室温に
て3θ分攪拌した。この混合物にp−ヒドロキシ安息香
酸(sミリモル)とシリンガ酸(3ミリモル)を溶解し
たピリジン(20ml)溶液を加え、120℃の油浴中
で3時間反応させた。反応終了後、メタノールに注入す
ることにより、定景的収率で下記に示すη1nh(p−
クロロフェノール中、o、s%、50℃で測定)をもつ
ポリマーを得た。結果を表−1に示す。
)のピリジン(lOml)溶液にN、N−ジメチルホル
ムアミド(DMF、0〜λtミリモル)を加え、室温に
て3θ分攪拌した。この混合物にp−ヒドロキシ安息香
酸(sミリモル)とシリンガ酸(3ミリモル)を溶解し
たピリジン(20ml)溶液を加え、120℃の油浴中
で3時間反応させた。反応終了後、メタノールに注入す
ることにより、定景的収率で下記に示すη1nh(p−
クロロフェノール中、o、s%、50℃で測定)をもつ
ポリマーを得た。結果を表−1に示す。
表−1
実施例S〜/l
DMFを26ミリモルとし、p−オキシ安息香酸とシリ
ンガ酸の割合を変えたこと以外は実施例ノと同様に操作
して、下記表−一に示すηinhのポリマーを定量的収
率で合成した。
ンガ酸の割合を変えたこと以外は実施例ノと同様に操作
して、下記表−一に示すηinhのポリマーを定量的収
率で合成した。
実施例12〜lS
モ
DMFをJAミリtルとし、モノマーのオキシ酸を溶解
する溶媒を変化させたこと以外は実施例/と同様に操作
して、定量的収率で下記のηinhをもつポリマーを得
た。結果を表−3に示す。
する溶媒を変化させたこと以外は実施例/と同様に操作
して、定量的収率で下記のηinhをもつポリマーを得
た。結果を表−3に示す。
表−3
実施例16
シリンガ酸(Sミリモル)の代シにバニリン酸(3ミリ
モル)を用い、DMFを、26ミリモルとしたこと以外
は実施例1と同徐に操作して定量的収率でηinhが0
.73 dlJ/1/のポリマーを得た。
モル)を用い、DMFを、26ミリモルとしたこと以外
は実施例1と同徐に操作して定量的収率でηinhが0
.73 dlJ/1/のポリマーを得た。
実施例17
シフエニルクロロホスフエート(/ −2ミ!Jモル)
のピリジン(loml)溶液にDMF(Sミリモル)を
加え、室温にて30分間攪拌した。
のピリジン(loml)溶液にDMF(Sミリモル)を
加え、室温にて30分間攪拌した。
この混合物にイソフタル酸(コ、Sミリモル)とテレフ
タル酸(コ、5ミリモル)を溶解したピリジン(10m
t)溶液を加え室温で70分、さらに720℃の油浴中
で10分間加熱した後、ビスフェノールA(549モル
)のピリジン(7ON)溶液な10分間を要して滴下し
、さらに720℃の油浴中で3時間加熱した。反応後、
反応液をメタノール中に注入してηinh (フェノー
ル/ /l i、コ、2−テトラクロロエタン、3/2
(重量比ン中、o、s俤、30℃で測定)がQ、gダd
ll&のポリマーを定量的収率で得た。
タル酸(コ、5ミリモル)を溶解したピリジン(10m
t)溶液を加え室温で70分、さらに720℃の油浴中
で10分間加熱した後、ビスフェノールA(549モル
)のピリジン(7ON)溶液な10分間を要して滴下し
、さらに720℃の油浴中で3時間加熱した。反応後、
反応液をメタノール中に注入してηinh (フェノー
ル/ /l i、コ、2−テトラクロロエタン、3/2
(重量比ン中、o、s俤、30℃で測定)がQ、gダd
ll&のポリマーを定量的収率で得た。
出 願 人 三菱化成工業株式会社
代 理 人 弁理士 長谷J11−
ほか/名
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11ジカルボン酸とジオールとの重縮合、ベンゼン環
にフェノール性水酸基とカル7IZキシル基を有するオ
キシ酸の重縮合または該オキシ酸とジカルボン酸とジオ
ールとの重縮合反応において、一般式(1) (式中R゛、R2およびR1は水素原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基またはシクロアルキル基を示
す)で表わされるアミド化合物または/および一般式(
n) (式中R4は炭素数3以上の枝分れしてもよいアルキレ
ン基を示し、Wは水素原子、アルキル基、アリール基、
アラルキル基またはシクロアルキル基を示す。〕で表わ
されるアミド化合物と一般式(1) (式中R6およびR7はアルキル基、アリール基、アラ
ルキル基またはシクロヘキシル基を示し、xlはハロゲ
ン原子を示す)で表わされるハロゲン化リン化合物との
反応によυ生成する四級塩を存在させることを特徴とす
るポリエステルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58167768A JPS6060133A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | ポリエステルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58167768A JPS6060133A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | ポリエステルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6060133A true JPS6060133A (ja) | 1985-04-06 |
| JPH0477014B2 JPH0477014B2 (ja) | 1992-12-07 |
Family
ID=15855737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58167768A Granted JPS6060133A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | ポリエステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6060133A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980028822A (ko) * | 1996-10-24 | 1998-07-15 | 이명환 | 미반응 유기물이 감소된 폴리에스테르의 제조방법 |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP58167768A patent/JPS6060133A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980028822A (ko) * | 1996-10-24 | 1998-07-15 | 이명환 | 미반응 유기물이 감소된 폴리에스테르의 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0477014B2 (ja) | 1992-12-07 |
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