JPS6064108A - 減圧スチ−ム加熱装置 - Google Patents
減圧スチ−ム加熱装置Info
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- JPS6064108A JPS6064108A JP17162383A JP17162383A JPS6064108A JP S6064108 A JPS6064108 A JP S6064108A JP 17162383 A JP17162383 A JP 17162383A JP 17162383 A JP17162383 A JP 17162383A JP S6064108 A JPS6064108 A JP S6064108A
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- JP
- Japan
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- pressure
- steam
- reducing valve
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- reduced pressure
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- Granted
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- 230000006837 decompression Effects 0.000 title description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 27
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- Devices For Use In Laboratory Experiments (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、小型軽量にして安価な装置で常時安定した減
圧スチームを供給することにより、被処理物を通常１０
０°Ｃ以下の温度で安全且つ効率的に加熱処理すること
ができる減圧スチーム加熱装置に関する。
圧スチームを供給することにより、被処理物を通常１０
０°Ｃ以下の温度で安全且つ効率的に加熱処理すること
ができる減圧スチーム加熱装置に関する。
各種製造工場等においては、加熱処理が広く行なわれて
いる。一般に、かかる加熱処理は、被加熱物を１００°
Ｃ以上の比較的高温で加熱することが多く、ボイラから
のスチームを単純利用した、全体として加圧系の加熱装
置を用いて行なっている〇 一方、化学工場等においては、作業の安全や製品の品質
の関係で、被加熱物を１００°Ｃ以下の比較的低温で加
熱しなければならない場合がある。
いる。一般に、かかる加熱処理は、被加熱物を１００°
Ｃ以上の比較的高温で加熱することが多く、ボイラから
のスチームを単純利用した、全体として加圧系の加熱装
置を用いて行なっている〇 一方、化学工場等においては、作業の安全や製品の品質
の関係で、被加熱物を１００°Ｃ以下の比較的低温で加
熱しなければならない場合がある。
このような場合に従来、前記したような加圧系の加熱装
置を応用して、高価な圧力制御機構（ＰＩＣ）や温度制
御機構（ＴＩＣ）を駆使し、実際には相当量のスチーム
ロスを甘受しつつ、減圧スチームを発生させて加熱する
ことや、温水で加熱することが行なわれている。
置を応用して、高価な圧力制御機構（ＰＩＣ）や温度制
御機構（ＴＩＣ）を駆使し、実際には相当量のスチーム
ロスを甘受しつつ、減圧スチームを発生させて加熱する
ことや、温水で加熱することが行なわれている。
しかし、ＰＩＣやＴＩＣを駆使すればそれだけ高価にな
り、相当量のスチームロスを甘受すれば熱エネルギの面
で非効率的になることは避けられない。また、温水は熱
容量が小さく、境膜伝熱係数も低いため加熱効率が悪く
、必然に加熱装置も大型で重量に富むようになる。
り、相当量のスチームロスを甘受すれば熱エネルギの面
で非効率的になることは避けられない。また、温水は熱
容量が小さく、境膜伝熱係数も低いため加熱効率が悪く
、必然に加熱装置も大型で重量に富むようになる。
本発明は、斜上の如き実情に鑑み、従来欠点を解消する
改良された減圧スチーム加熱装置を提供するものである
。
改良された減圧スチーム加熱装置を提供するものである
。
以下、図面に基づいて本発明の構成を詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す系統図、第２図は本発
明における減圧弁を例示する略視図である。間接加熱容
器１に減圧弁２とスチームトラップ３とが接続されてい
る。減圧弁２の一次側Ｐｌに図中矢印Ａの如く供給され
たスチームを、スチームトラップ３の二次側Ｓ２に接続
されている減圧ポンプ４で誘導し、減圧弁２の二次側Ｐ
２及び間接加熱容器１並びにスチームドラッグ３０間に
減圧系を形成させ、間接加熱容器１を減圧スチームで加
熱する構成である。
明における減圧弁を例示する略視図である。間接加熱容
器１に減圧弁２とスチームトラップ３とが接続されてい
る。減圧弁２の一次側Ｐｌに図中矢印Ａの如く供給され
たスチームを、スチームトラップ３の二次側Ｓ２に接続
されている減圧ポンプ４で誘導し、減圧弁２の二次側Ｐ
２及び間接加熱容器１並びにスチームドラッグ３０間に
減圧系を形成させ、間接加熱容器１を減圧スチームで加
熱する構成である。
本発明において、減圧弁２は、その二次側の減圧程度に
より作動する逆負荷をかけられた弁５を有している。す
なわち、上下動用能な同県６を備える圧力室７に、弁５
と連結の画壁８が取シ付けられており、該画壁８には負
荷９が図面の場合下方へかけられている。二次側Ｐ２の
減圧程度が所望値よりも絶対圧で低い場合（系を減圧に
しすぎた場合）、該減圧程度が負荷９に打ち勝って、弁
５を図中上方へ移動させ、したがってそれだけ多くのス
チームが一次側Ｐ＋から二次側Ｐ２へと通過するため、
二次側Ｐ２の減圧程度が絶対圧で高くなり、系の減圧程
度が所望値に調整される。逆に、二次側Ｐ２の減圧程度
が所望値よシも絶対圧で高い場合（系をよシ減圧にする
必要のある場合）、該減圧程度が負荷９に打ち負けて、
負荷９が弁５を図中下方へ移動させ、したがってそれだ
け少ないスチームだけしか一次側Ｐ１から二次側Ｐ２へ
と通過しないため、二次側Ｐ２の減圧程度が絶対圧で低
くなシ、系の減圧程度が所望値に調整される。
より作動する逆負荷をかけられた弁５を有している。す
なわち、上下動用能な同県６を備える圧力室７に、弁５
と連結の画壁８が取シ付けられており、該画壁８には負
荷９が図面の場合下方へかけられている。二次側Ｐ２の
減圧程度が所望値よりも絶対圧で低い場合（系を減圧に
しすぎた場合）、該減圧程度が負荷９に打ち勝って、弁
５を図中上方へ移動させ、したがってそれだけ多くのス
チームが一次側Ｐ＋から二次側Ｐ２へと通過するため、
二次側Ｐ２の減圧程度が絶対圧で高くなり、系の減圧程
度が所望値に調整される。逆に、二次側Ｐ２の減圧程度
が所望値よシも絶対圧で高い場合（系をよシ減圧にする
必要のある場合）、該減圧程度が負荷９に打ち負けて、
負荷９が弁５を図中下方へ移動させ、したがってそれだ
け少ないスチームだけしか一次側Ｐ１から二次側Ｐ２へ
と通過しないため、二次側Ｐ２の減圧程度が絶対圧で低
くなシ、系の減圧程度が所望値に調整される。
従来のように、本来加圧系で使用される減圧弁は、第３
図の如き場合において、例えば画壁８ａが基壁１０に対
しスプリング１１で支持され、該画壁８ａにはスプリン
グ１１の押圧力で図中上方に負荷がかかっている。した
がって、その作用の一例を挙げると、二次側Ｐ２の圧力
が所望値よシも低い場合（系の圧力が足らない場合）、
該圧力がスプリング１１の押圧力に打ち負けて、スプリ
ング１１の押圧力が弁５ａを上方へ移動させ、この結果
それだけ多くのスチームが一次側Ｐ１から二次側Ｐ２へ
と通過するため、二次側の圧力が高くなり、系の圧力が
所望値に調整されるという構成であるが、二次側Ｐ２の
圧力が大気圧以下の場合は、作動しない。
図の如き場合において、例えば画壁８ａが基壁１０に対
しスプリング１１で支持され、該画壁８ａにはスプリン
グ１１の押圧力で図中上方に負荷がかかっている。した
がって、その作用の一例を挙げると、二次側Ｐ２の圧力
が所望値よシも低い場合（系の圧力が足らない場合）、
該圧力がスプリング１１の押圧力に打ち負けて、スプリ
ング１１の押圧力が弁５ａを上方へ移動させ、この結果
それだけ多くのスチームが一次側Ｐ１から二次側Ｐ２へ
と通過するため、二次側の圧力が高くなり、系の圧力が
所望値に調整されるという構成であるが、二次側Ｐ２の
圧力が大気圧以下の場合は、作動しない。
要するに、本発明における減圧弁は、系の減圧状態（絶
対圧で大気圧よシ低い圧力状態）を制御するため、第３
図の如き従来の減圧弁とは作用機構が全く逆になってお
り、その二次側の減圧程度により作動する逆負荷をかけ
られた弁を有しているのである。
対圧で大気圧よシ低い圧力状態）を制御するため、第３
図の如き従来の減圧弁とは作用機構が全く逆になってお
り、その二次側の減圧程度により作動する逆負荷をかけ
られた弁を有しているのである。
また本発明において、スチームトラップ３は、その−次
側Ｓ１から二次側Ｓ２に絶えず連通ずるバイパスを備え
ている。従来のように、本来加圧系で使用されるスチー
ムトラップにも、バイパスが設けられている。しかし、
かかる従来品のバイパスは、スチームの通過開始時やト
ラップされるスチーム量等によシ、その−次側と二次側
とを断続して連通ずるものである。この種の従来品によ
ると、本発明のように、スチームトラップ３の二次側Ｓ
２に接続されている減圧ポンプ４でスチームを誘導して
系の減圧状態等を制御する場合、その安定制御が著るし
く困難である。すなわち、本発明のごとき系の減圧制御
等をする場合、従来のスチームトラップを使用すると所
謂脈動が発生し、これが系の減圧制御等に著るしい障害
となるのである。
側Ｓ１から二次側Ｓ２に絶えず連通ずるバイパスを備え
ている。従来のように、本来加圧系で使用されるスチー
ムトラップにも、バイパスが設けられている。しかし、
かかる従来品のバイパスは、スチームの通過開始時やト
ラップされるスチーム量等によシ、その−次側と二次側
とを断続して連通ずるものである。この種の従来品によ
ると、本発明のように、スチームトラップ３の二次側Ｓ
２に接続されている減圧ポンプ４でスチームを誘導して
系の減圧状態等を制御する場合、その安定制御が著るし
く困難である。すなわち、本発明のごとき系の減圧制御
等をする場合、従来のスチームトラップを使用すると所
謂脈動が発生し、これが系の減圧制御等に著るしい障害
となるのである。
本発明において、系の減圧制御等を確実に行ない、した
がって間接加熱容器１に安定して減圧スチームを供給す
るには、前述の如く、系の減圧制御等に好適改良された
減圧弁及びスチームトラップを組み込むことが肝要なの
である。
がって間接加熱容器１に安定して減圧スチームを供給す
るには、前述の如く、系の減圧制御等に好適改良された
減圧弁及びスチームトラップを組み込むことが肝要なの
である。
次の第１表は、第１図に例示したような本発明に係る減
圧スチーム加熱装置を用いて減圧スチームを発生させ、
該減圧スチームの通過ジャケントを備える間接加熱容器
に２２℃の水を連続流入させた場合の試験結果の一例で
ある。この第１表より、減圧弁の二次側の温度及び圧力
は、負荷（水の流量）の変動にかかわらず、一定に近い
値を示していることが判る。
圧スチーム加熱装置を用いて減圧スチームを発生させ、
該減圧スチームの通過ジャケントを備える間接加熱容器
に２２℃の水を連続流入させた場合の試験結果の一例で
ある。この第１表より、減圧弁の二次側の温度及び圧力
は、負荷（水の流量）の変動にかかわらず、一定に近い
値を示していることが判る。
第１表
（＊１：絶対圧）
以上説明した本発明によると、小型軽量にして安価な装
置で常時安定した減圧スチームを供給することができ、
しだがって被処理物を通常１００℃以下の比較的低温で
安全且つ効率的に加熱処理することができる効果がある
。
置で常時安定した減圧スチームを供給することができ、
しだがって被処理物を通常１００℃以下の比較的低温で
安全且つ効率的に加熱処理することができる効果がある
。
第１図は本発明の一実施例を示す系統図、第２図は本発
明における減圧弁を例示する略視図、第３図は従来の減
圧弁を例示する略視図である。 ■・間接加熱容器、２・・・減圧弁、 ３−・・スチームトラップ、４・・・減圧ポンプ、５．
５ａ・・弁、６．６ａ・周壁、 ７．７ａ・・圧力室、
８．８ａ・・・画壁、９・・・負荷、１０・・・基壁、
１１・・・スプリング、 特許出願人 中央化工機株式会社 代理人 弁理士 入 山 宏 正 第１図 第２図 第３図
明における減圧弁を例示する略視図、第３図は従来の減
圧弁を例示する略視図である。 ■・間接加熱容器、２・・・減圧弁、 ３−・・スチームトラップ、４・・・減圧ポンプ、５．
５ａ・・弁、６．６ａ・周壁、 ７．７ａ・・圧力室、
８．８ａ・・・画壁、９・・・負荷、１０・・・基壁、
１１・・・スプリング、 特許出願人 中央化工機株式会社 代理人 弁理士 入 山 宏 正 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- １ 間接加熱容器を介在して減圧弁とスチームトラップ
とが接続され、減圧弁の一次側に供給されたスチームを
スチームトラップの二次側に接続された減圧ポンプで誘
導することにより、減圧弁の二次側及び間接加熱容器並
びにスチームトラップの間に所望の減圧系を形成させ、
間接加熱容器を減圧スチームで加熱する装置であって、
前記減圧弁がその二次側の減圧程度により作動する逆負
荷をかけられた弁を有しており、前記スチームトラップ
がその一次側と二次側に絶えず連通ずるバイパスを備え
ていて、前記間接加熱容器へ常時安定した減圧スチーム
を供給するようにして成る減圧スチーム加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17162383A JPS6064108A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | 減圧スチ−ム加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17162383A JPS6064108A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | 減圧スチ−ム加熱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6064108A true JPS6064108A (ja) | 1985-04-12 |
| JPH0465285B2 JPH0465285B2 (ja) | 1992-10-19 |
Family
ID=15926605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17162383A Granted JPS6064108A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | 減圧スチ−ム加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6064108A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS646603A (en) * | 1987-03-30 | 1989-01-11 | Tlv Co Ltd | Vacuum steam generator |
| FR2654817A1 (fr) * | 1989-11-14 | 1991-05-24 | Tlv Co Ltd | Dispositif de traitement thermique, notamment pour les industries chimiques et alimentaires. |
| US5096538A (en) * | 1989-01-20 | 1992-03-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Vacuum drying method |
| JP2001324092A (ja) * | 2000-05-15 | 2001-11-22 | Tlv Co Ltd | 復水排出装置 |
| GB2468562A (en) * | 2009-03-12 | 2010-09-15 | Lg Hausys Ltd | Decoration sheet having integrated printed and embossed patterns. |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4816660U (ja) * | 1971-03-17 | 1973-02-24 | ||
| JPS4949232A (ja) * | 1972-09-14 | 1974-05-13 | ||
| JPS5454330A (en) * | 1977-10-11 | 1979-04-28 | Tokico Ltd | Pilot valve |
| JPS575717U (ja) * | 1980-06-10 | 1982-01-12 |
-
1983
- 1983-09-16 JP JP17162383A patent/JPS6064108A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4816660U (ja) * | 1971-03-17 | 1973-02-24 | ||
| JPS4949232A (ja) * | 1972-09-14 | 1974-05-13 | ||
| JPS5454330A (en) * | 1977-10-11 | 1979-04-28 | Tokico Ltd | Pilot valve |
| JPS575717U (ja) * | 1980-06-10 | 1982-01-12 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS646603A (en) * | 1987-03-30 | 1989-01-11 | Tlv Co Ltd | Vacuum steam generator |
| US5096538A (en) * | 1989-01-20 | 1992-03-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Vacuum drying method |
| FR2654817A1 (fr) * | 1989-11-14 | 1991-05-24 | Tlv Co Ltd | Dispositif de traitement thermique, notamment pour les industries chimiques et alimentaires. |
| NL8902936A (nl) * | 1989-11-14 | 1991-06-17 | Tlv Co Ltd | Thermische behandelingsinrichting. |
| JP2001324092A (ja) * | 2000-05-15 | 2001-11-22 | Tlv Co Ltd | 復水排出装置 |
| GB2468562A (en) * | 2009-03-12 | 2010-09-15 | Lg Hausys Ltd | Decoration sheet having integrated printed and embossed patterns. |
| GB2468562B (en) * | 2009-03-12 | 2013-05-29 | Lg Hausys Ltd | Decoration sheet having integrated printed pattern and embossed pattern and manufacturing method thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0465285B2 (ja) | 1992-10-19 |
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