JPS60708B2 - 欠陥検査装置 - Google Patents
欠陥検査装置Info
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- JPS60708B2 JPS60708B2 JP54143228A JP14322879A JPS60708B2 JP S60708 B2 JPS60708 B2 JP S60708B2 JP 54143228 A JP54143228 A JP 54143228A JP 14322879 A JP14322879 A JP 14322879A JP S60708 B2 JPS60708 B2 JP S60708B2
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95623—Inspecting patterns on the surface of objects using a spatial filtering method
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/46—Systems using spatial filters
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は１次元状もしくは２次元状に規則的に配列さ
れたパターンを有する被検体に生じた欠陥を光学的に検
出する装置に関する。
れたパターンを有する被検体に生じた欠陥を光学的に検
出する装置に関する。
」従来、被検体に生じた欠陥を光学的手法により検出す
る方法としては第１図に示すようなものが知られている
。
る方法としては第１図に示すようなものが知られている
。
同図において、１は被検体であり、例えば集積回路マス
クが用いられる。この被検体１はコヒーレント光２で照
明されると、レンズ３の作用によりレンズ３の後側，焦
点面には被検体１のフーリエ変換像が形成される。更に
このフーリエ変換像をレンズ４によって逆フーリエ変換
することにより結像面５上に被検体１のパターン像が結
像される。このときレンズ３の後側焦点面に空間フィル
夕６を配置し、このフィル夕６に被検体１の欠陥情報光
のみを通過させ、被検体１の正規パターンを表わす情報
光を遮断する特性を持たせると、結像面５には欠陥情報
光のみが達し、欠陥パターンのみが結像される。上記空
間フィル夕６としては例えばアクセルロッド「ブロシー
デイングオブアィトリプルィー」ｐｐ４４７一４８＆
１９７２王４月号に記載されている。このような装置に
おいては、被検体パターンからいかに効率よく欠陥情報
のみを抽出できるかが重要な問題であった。
クが用いられる。この被検体１はコヒーレント光２で照
明されると、レンズ３の作用によりレンズ３の後側，焦
点面には被検体１のフーリエ変換像が形成される。更に
このフーリエ変換像をレンズ４によって逆フーリエ変換
することにより結像面５上に被検体１のパターン像が結
像される。このときレンズ３の後側焦点面に空間フィル
夕６を配置し、このフィル夕６に被検体１の欠陥情報光
のみを通過させ、被検体１の正規パターンを表わす情報
光を遮断する特性を持たせると、結像面５には欠陥情報
光のみが達し、欠陥パターンのみが結像される。上記空
間フィル夕６としては例えばアクセルロッド「ブロシー
デイングオブアィトリプルィー」ｐｐ４４７一４８＆
１９７２王４月号に記載されている。このような装置に
おいては、被検体パターンからいかに効率よく欠陥情報
のみを抽出できるかが重要な問題であった。
このため、その検出原理は、被検体パターン＝正規パタ
ーン十欠陥・・・・・・（１’．・．欠陥＝被検体パタ
ーン一正親パターン・・・・・・（２｝なる式を考え、
■式に基いて欠陥情報のみを検出するものである。
ーン十欠陥・・・・・・（１’．・．欠陥＝被検体パタ
ーン一正親パターン・・・・・・（２｝なる式を考え、
■式に基いて欠陥情報のみを検出するものである。
上記の空間フィル夕はこの■式を実現しようとする一方
法であり、空間フィル夕を適当に定めることによって欠
陥情報のみを抽出することができる。そしてこの欠陥情
報の強度からその欠陥の大きさも知ることができる。と
ころで、いま被検体としてメッシュパターンの検査を行
なうことを考えると、メッシュパターンを為す個とのメ
ッシュには第２図ａ，ｂに示すような欠陥が生じる。
法であり、空間フィル夕を適当に定めることによって欠
陥情報のみを抽出することができる。そしてこの欠陥情
報の強度からその欠陥の大きさも知ることができる。と
ころで、いま被検体としてメッシュパターンの検査を行
なうことを考えると、メッシュパターンを為す個とのメ
ッシュには第２図ａ，ｂに示すような欠陥が生じる。
第２図ａはメッシュの面積が△Ｓだけ減少する欠陥であ
り、第２図ｂはメッシュの面積が△Ｓ′だけ増加する欠
陥である。したがって抽出された欠陥がどちらの性質（
種類）のものであるかを知ることができることが強く要
望されている。しかるに、第１図に示した光学系の性質
により、空間フィル夕の性質を｛２）式のように定めた
場合、実際には結像面５に現れる欠陥情報（光強度とし
て）は次式のようになる。
り、第２図ｂはメッシュの面積が△Ｓ′だけ増加する欠
陥である。したがって抽出された欠陥がどちらの性質（
種類）のものであるかを知ることができることが強く要
望されている。しかるに、第１図に示した光学系の性質
により、空間フィル夕の性質を｛２）式のように定めた
場合、実際には結像面５に現れる欠陥情報（光強度とし
て）は次式のようになる。
（欠陥）２＝（被検体パターン−正規パターン）２
．．・・．・■すなわち、こ
の２乗作用によって得られた欠陥情報からは第２図ａ又
は第２図ｂのいずれの欠陥であるかを判断することがで
きなかった。
．．・・．・■すなわち、こ
の２乗作用によって得られた欠陥情報からは第２図ａ又
は第２図ｂのいずれの欠陥であるかを判断することがで
きなかった。
本発明は、このような欠点を除き、欠陥の種類を判別で
きる欠陥検査装置を提供することを目的とする。
きる欠陥検査装置を提供することを目的とする。
本発明によれば、
被検体パターン＝正規パターンの高周波成分＋正規パタ
ーンの直流成分＋欠陥 ・…・・｛４’と考え、｛
４）式を次のように変形する。
ーンの直流成分＋欠陥 ・…・・｛４’と考え、｛
４）式を次のように変形する。
正規パターンの直流成分＋欠陥＝被検体パターン−正規
パターンの高周波成分 ・・・・・・‘５｝すなわ
ち、第１図に示した光学系において、空間フィル夕とし
ては欠陥情報のみを通過させるのではなく、正規パター
ンの直流成分も合わせて通過させる性質を持たせること
に特徴を有する。
パターンの高周波成分 ・・・・・・‘５｝すなわ
ち、第１図に示した光学系において、空間フィル夕とし
ては欠陥情報のみを通過させるのではなく、正規パター
ンの直流成分も合わせて通過させる性質を持たせること
に特徴を有する。
これによって、上記２乗作用を考慮しても、抽出される
信号は（正規パターンの直流成分十欠陥）２であるから
、（正規パターンの直流成分＋欠陥）２ ＝（正規パタ
ーンの直流成分）２ 十（欠陥）２ 十２（正規パター
ンの直流成分）・（欠陥） ・・・・・・【６）とな
り、欠陥の符号すなわち第２図ａか第２図ｂであるかを
容易に判別することができる。
信号は（正規パターンの直流成分十欠陥）２であるから
、（正規パターンの直流成分＋欠陥）２ ＝（正規パタ
ーンの直流成分）２ 十（欠陥）２ 十２（正規パター
ンの直流成分）・（欠陥） ・・・・・・【６）とな
り、欠陥の符号すなわち第２図ａか第２図ｂであるかを
容易に判別することができる。
第３図に本発明の一実施例を示す。
１０‘ま規則的に配列されたパターンを有する被検体で
あり、例えば第２図ａ，ｂに示すような２次元正方格子
パターンが用いられる。
あり、例えば第２図ａ，ｂに示すような２次元正方格子
パターンが用いられる。
１１はしーザ光源であり、ほぼ単一波長入のコヒーレン
トなしーザビームを出力する。
トなしーザビームを出力する。
このレーザピームはコリメートレンズ系１２を介して所
定ビーム径に設定され、平行光として被検体１０を照明
する。被検体１０からその焦点距離ｆの位置にレンズ１
３が設けられる。レンズ１３の後側焦Ｖ点面には第１の
空間フィル夕１４が配置され、かつレンズ１３を経た光
はハーフミラー１５を介して、同じくレンズ１３から焦
点距離だけ隔てた位置に第２の空間フィル夕１６が配置
される。したがって、被検体１０を透過した光はしンズ
１３のフーリエ変換作用により第１及び第２の空間フィ
ルター４，１６が配置された位置に被検体１０のフーリ
エ変換パターン像を形成する。いま空間フィル夕１４，
１６が存在しない場合を考えると、このフーリエ変換パ
ターン像は逆フーリエ変換レンズ１７，１８の作用によ
り、逆フーリエ変換され、各レンズ１７，１８の後側焦
点面に元の被検体１０のパターン像を形成する。本実施
例においては、第２の空間フィルター６として上記■式
の特性を持つものを用いている。
定ビーム径に設定され、平行光として被検体１０を照明
する。被検体１０からその焦点距離ｆの位置にレンズ１
３が設けられる。レンズ１３の後側焦Ｖ点面には第１の
空間フィル夕１４が配置され、かつレンズ１３を経た光
はハーフミラー１５を介して、同じくレンズ１３から焦
点距離だけ隔てた位置に第２の空間フィル夕１６が配置
される。したがって、被検体１０を透過した光はしンズ
１３のフーリエ変換作用により第１及び第２の空間フィ
ルター４，１６が配置された位置に被検体１０のフーリ
エ変換パターン像を形成する。いま空間フィル夕１４，
１６が存在しない場合を考えると、このフーリエ変換パ
ターン像は逆フーリエ変換レンズ１７，１８の作用によ
り、逆フーリエ変換され、各レンズ１７，１８の後側焦
点面に元の被検体１０のパターン像を形成する。本実施
例においては、第２の空間フィルター６として上記■式
の特性を持つものを用いている。
このため第２の空間フィル夕１６を通過する光はほぼ欠
陥情報光のみであり、レンズ１８の後側焦点面には被検
体１０の欠陥パターンのみが形成される。ここでレンズ
１８の後側焦点面にピンホール１９を配置し、その背後
に光電変換器２０を配置する。光電変換器２０に受光さ
れる光強度は上記の通り欠陥の大きさに依存するので、
得られる電気信号は欠陥の大きさに対応したものとなる
。この電気信号は大きさ検出部２１に供給され、例えば
欠陥の大きさ毎に分類される。一方、第１の空間フィル
ター４としては上記（５）式の特性を持つものを用いる
。
陥情報光のみであり、レンズ１８の後側焦点面には被検
体１０の欠陥パターンのみが形成される。ここでレンズ
１８の後側焦点面にピンホール１９を配置し、その背後
に光電変換器２０を配置する。光電変換器２０に受光さ
れる光強度は上記の通り欠陥の大きさに依存するので、
得られる電気信号は欠陥の大きさに対応したものとなる
。この電気信号は大きさ検出部２１に供給され、例えば
欠陥の大きさ毎に分類される。一方、第１の空間フィル
ター４としては上記（５）式の特性を持つものを用いる
。
このとき、第１の空間フィルター４を通過する光は、欠
陥情報光と被検体１０の正規パターンの直流成分とを含
んでいる。そこでレンズ１７の後側焦点面にピンホール
２２を配置し、その背後に光電変換器２３を配置すると
、光電変換器２３は上記｛６｝式に対応する電気信号を
出力する。この電気信号を判定部２４に供給し、欠陥の
種類が判別される。第３図には更に被検体１０の全面を
走査するための走査機構が示されている。
陥情報光と被検体１０の正規パターンの直流成分とを含
んでいる。そこでレンズ１７の後側焦点面にピンホール
２２を配置し、その背後に光電変換器２３を配置すると
、光電変換器２３は上記｛６｝式に対応する電気信号を
出力する。この電気信号を判定部２４に供給し、欠陥の
種類が判別される。第３図には更に被検体１０の全面を
走査するための走査機構が示されている。
駆動部２５はこの走査機構を制御するものでパルスモー
タ２６，２７を駆動する。パルスモ−夕２６は紙面に垂
直な平面内で被検体１０を支持する支持部材２８を回転
させる。パルスモ−夕２７は支持部材２８を紙面上下方
向に直線運動させる。この直線運動と回転運動とのへり
カルスキャンにより被検体１０の全面走査が可能である
。このヘリカルスキャン方法は被検体１０の高速走査に
適しているが、このためには後述するように空間フィル
夕１４，１６としては全方向性のものを用いる必要があ
る。次に上記実施例の各部の詳細作用を説明する。まず
、被検体１０として第２図ａ，ｂに示すような２次元正
方格子パターンを用いた場合のフーリエ変換パタ−ン像
を第４図ａに示す。同図において１００は被検体１０の
正規パターンの直流成分（０次光）からなる輝点、１０
１は正規パターンの繰り返し周波数成分（１次光）から
なる輝点、１０２は正規パターンの繰り返し周波数の２
倍の周波数成分（２次光）からなる麓点である。ここで
麓点のピッチｐｌは、ｐ，＝牛 で示される。
タ２６，２７を駆動する。パルスモ−夕２６は紙面に垂
直な平面内で被検体１０を支持する支持部材２８を回転
させる。パルスモ−夕２７は支持部材２８を紙面上下方
向に直線運動させる。この直線運動と回転運動とのへり
カルスキャンにより被検体１０の全面走査が可能である
。このヘリカルスキャン方法は被検体１０の高速走査に
適しているが、このためには後述するように空間フィル
夕１４，１６としては全方向性のものを用いる必要があ
る。次に上記実施例の各部の詳細作用を説明する。まず
、被検体１０として第２図ａ，ｂに示すような２次元正
方格子パターンを用いた場合のフーリエ変換パタ−ン像
を第４図ａに示す。同図において１００は被検体１０の
正規パターンの直流成分（０次光）からなる輝点、１０
１は正規パターンの繰り返し周波数成分（１次光）から
なる輝点、１０２は正規パターンの繰り返し周波数の２
倍の周波数成分（２次光）からなる麓点である。ここで
麓点のピッチｐｌは、ｐ，＝牛 で示される。
ここでｐは被検体１０の各格子のピッチであり（第２図
ａ）、入は使用した光の波長、ｆ‘まフーリエ変換作用
を示すレンズ１３の焦点距離である。このように正規パ
ターンのフーリエ変換パターン像は離散的な輝点からな
るパターンとなる。第４図ｂは第４図ａの藤方向の各輝
点の光強度を示す図である。
ａ）、入は使用した光の波長、ｆ‘まフーリエ変換作用
を示すレンズ１３の焦点距離である。このように正規パ
ターンのフーリエ変換パターン像は離散的な輝点からな
るパターンとなる。第４図ｂは第４図ａの藤方向の各輝
点の光強度を示す図である。
ここで破線１０４は被検体１０に欠陥がある場合の欠陥
のフーリエ変換パターン像であり、正規パターンの場合
と異なり一様に分布している。欠陥検査はこの性質の違
いを利用したもので、上記フーリエ変換パターン像がレ
ンズ１３の後側焦点面に形成されるから上記第２の空間
フィル夕１６としては、第４図ａで黒丸で示した位置へ
達する光を遮断しかつ残りの部分の光は通過させるよう
な形状とすれば上記‘２｝式を満足するものであること
が理解される。また上記第１の空間フィルター４として
は、第４図ａで示した破線１０３の内側の光のみを通過
させ、かつ破線１０３の外側の光を遮断させる形状とす
ることにより上記【５ー式をほぼ満足するものであるこ
とが理解される。いま説明した空間フィル夕はもちろん
本発明に利用できるが、その場合には空間フィル夕の設
計設定位置に高精度が要求され、また被検体１０も光軸
に対して正確に垂直保持させねばならないため、被検体
１０の高速走査には不向きである。
のフーリエ変換パターン像であり、正規パターンの場合
と異なり一様に分布している。欠陥検査はこの性質の違
いを利用したもので、上記フーリエ変換パターン像がレ
ンズ１３の後側焦点面に形成されるから上記第２の空間
フィル夕１６としては、第４図ａで黒丸で示した位置へ
達する光を遮断しかつ残りの部分の光は通過させるよう
な形状とすれば上記‘２｝式を満足するものであること
が理解される。また上記第１の空間フィルター４として
は、第４図ａで示した破線１０３の内側の光のみを通過
させ、かつ破線１０３の外側の光を遮断させる形状とす
ることにより上記【５ー式をほぼ満足するものであるこ
とが理解される。いま説明した空間フィル夕はもちろん
本発明に利用できるが、その場合には空間フィル夕の設
計設定位置に高精度が要求され、また被検体１０も光軸
に対して正確に垂直保持させねばならないため、被検体
１０の高速走査には不向きである。
これを解決し、上述したヘリカルスキャンのような簡単
な走査機構に適用できる空間フィル夕が実用上は望まし
い。このような空間フィル夕（以下全方向性空間フィル
夕と呼ぶ）を第５図ａ，ｂに示す。
な走査機構に適用できる空間フィル夕が実用上は望まし
い。このような空間フィル夕（以下全方向性空間フィル
夕と呼ぶ）を第５図ａ，ｂに示す。
第５図ａは上記第２の空間フィル夕１６として用いられ
る全方向性空間フィル夕であり、本発明者が先に提案し
たものである。（特顔昭５４一３１０２０号参照）。こ
れは例えばゼラチンフィル夕からなり、中心に光阻止領
域２００、中心から所定距離（ｐｌ山△）だけ隔てた周
囲に光阻止領域２０１があり、その間にリング状の光通
過領域２０２が形成されている。距離（ｐｌ−△）は正
規パターンの１次光成分以上はすべて阻止できるように
定められる。このフィル夕の形状は中心に対して点対称
であり特定の方向性を持っていないので被検体の回転等
の影響を受けることなく上記■式を満足する。第５図ｂ
は上記第１の空間フィルター４として最適な全方向性空
間フィル夕である。中心から半径（ｐｌ−△）の領域２
０３のみ光を通過させ、残りの領域２０４はすべて光を
阻止するものである。領域２０３によって、欠陥情報光
と正規パターンの直流成分光のみが通過し、正規パター
ンの繰り返し周波数以上の成分光はすべて遮断され、上
記｛５）式を満足している。次に光電変換器２３によっ
て得られる電気信号を第６図ａに示す。
る全方向性空間フィル夕であり、本発明者が先に提案し
たものである。（特顔昭５４一３１０２０号参照）。こ
れは例えばゼラチンフィル夕からなり、中心に光阻止領
域２００、中心から所定距離（ｐｌ山△）だけ隔てた周
囲に光阻止領域２０１があり、その間にリング状の光通
過領域２０２が形成されている。距離（ｐｌ−△）は正
規パターンの１次光成分以上はすべて阻止できるように
定められる。このフィル夕の形状は中心に対して点対称
であり特定の方向性を持っていないので被検体の回転等
の影響を受けることなく上記■式を満足する。第５図ｂ
は上記第１の空間フィルター４として最適な全方向性空
間フィル夕である。中心から半径（ｐｌ−△）の領域２
０３のみ光を通過させ、残りの領域２０４はすべて光を
阻止するものである。領域２０３によって、欠陥情報光
と正規パターンの直流成分光のみが通過し、正規パター
ンの繰り返し周波数以上の成分光はすべて遮断され、上
記｛５）式を満足している。次に光電変換器２３によっ
て得られる電気信号を第６図ａに示す。
欠陥がない場合には正規パターンの直流成分光に相当す
るレベル３００１こあるが、欠陥がある場合、第２図ａ
に示す格子の面積が減少する欠陥のときは波形３０２で
示す出力となり、第２図ｂに示す格子の面積が増加する
欠陥のときは波形３０１で示す出力となる。しかして、
判定部２４では適当な閥値３０３，３０４を定めておき
、光電変換器２３の出力がいずれの閥値を横切るかを検
出することにより欠陥の種類を知ることができる。以上
説明したように、本発明によれば欠陥の種類を判別する
ことができるので、各種親別的に配列されたパターンを
有する製品の製造ラインでの欠陥検査に有益である。
るレベル３００１こあるが、欠陥がある場合、第２図ａ
に示す格子の面積が減少する欠陥のときは波形３０２で
示す出力となり、第２図ｂに示す格子の面積が増加する
欠陥のときは波形３０１で示す出力となる。しかして、
判定部２４では適当な閥値３０３，３０４を定めておき
、光電変換器２３の出力がいずれの閥値を横切るかを検
出することにより欠陥の種類を知ることができる。以上
説明したように、本発明によれば欠陥の種類を判別する
ことができるので、各種親別的に配列されたパターンを
有する製品の製造ラインでの欠陥検査に有益である。
特に、製品によっては面積が増大する欠陥と減少する欠
陥とではその精度要求が異なることがあるが、本発明に
よれば両者の闇値を独立して決定できるので充分要求を
満足することができる。更に上記全方向性空間フィル夕
を用いることにより検査の高速化が達成されるとともに
、欠陥検査装置自体の精度要求もそれほど高いものを要
求されないので低価格高性能な装置を提供できる。なお
、被検体の検査速度を高める一方法は、被検体を照射す
るコヒーレント光のビーム径を大きくし、検出器ピンホ
ール径を大きくすることである。
陥とではその精度要求が異なることがあるが、本発明に
よれば両者の闇値を独立して決定できるので充分要求を
満足することができる。更に上記全方向性空間フィル夕
を用いることにより検査の高速化が達成されるとともに
、欠陥検査装置自体の精度要求もそれほど高いものを要
求されないので低価格高性能な装置を提供できる。なお
、被検体の検査速度を高める一方法は、被検体を照射す
るコヒーレント光のビーム径を大きくし、検出器ピンホ
ール径を大きくすることである。
しかしながら、この場合には、光電変換器２３に入射す
る平均光量が増大するにもかかわらず、欠陥による変化
量はほぼ一定であるため、出力信号としては第６図ｂの
ようになり、欠陥の判断が困願になる。これを解決する
方法としては、空間フィル夕１４として正規パターンの
直流成分については一部のみ通過させるようにすること
が考えられる。他の方法は、ビーム径の大きいコヒーレ
ント光で高速に走査し、大口径の光電変換器２０の出力
信号によって欠陥の存在が確認された場合に、小口径の
検出器で走査して光電変換器２３の出力信号からその欠
陥の種類を判断すればよい。なぜなら、第２の空間フィ
ルター６を用いる欠陥検出系は検出器径の影響を受けに
くいからである。すなわち、検出器の径が小さいときは
第７図ａとなり、検出器の径が大きいときは第７図ｂと
なるが、欠陥が存在しないときはほぼ０（ノイズレベル
）信号となるので欠陥の検出に問題はない。具体的には
、第３図において被検体１０をスパイラル運動させピン
ホール１９は比較的大きな開□とし、ピンホール２２は
小さな開口にしておく。まず、被検体１０をピンホール
１９の関口で定まる粗さの走査でスパイラル運動を行な
い、光電変換器２川こ出力信号が生じたら、被検体１０
の送りを高密度にして光電変換器２３の出力信号から欠
陥の種類を判断するようにすれば高速化も達成される。
また、上記実施例では２次元正方格子パターンを例とし
て説明したが、１次元状、２次元状に特ぅ定パターンが
繰り返し規則的に配列されているものであればよい。
る平均光量が増大するにもかかわらず、欠陥による変化
量はほぼ一定であるため、出力信号としては第６図ｂの
ようになり、欠陥の判断が困願になる。これを解決する
方法としては、空間フィル夕１４として正規パターンの
直流成分については一部のみ通過させるようにすること
が考えられる。他の方法は、ビーム径の大きいコヒーレ
ント光で高速に走査し、大口径の光電変換器２０の出力
信号によって欠陥の存在が確認された場合に、小口径の
検出器で走査して光電変換器２３の出力信号からその欠
陥の種類を判断すればよい。なぜなら、第２の空間フィ
ルター６を用いる欠陥検出系は検出器径の影響を受けに
くいからである。すなわち、検出器の径が小さいときは
第７図ａとなり、検出器の径が大きいときは第７図ｂと
なるが、欠陥が存在しないときはほぼ０（ノイズレベル
）信号となるので欠陥の検出に問題はない。具体的には
、第３図において被検体１０をスパイラル運動させピン
ホール１９は比較的大きな開□とし、ピンホール２２は
小さな開口にしておく。まず、被検体１０をピンホール
１９の関口で定まる粗さの走査でスパイラル運動を行な
い、光電変換器２川こ出力信号が生じたら、被検体１０
の送りを高密度にして光電変換器２３の出力信号から欠
陥の種類を判断するようにすれば高速化も達成される。
また、上記実施例では２次元正方格子パターンを例とし
て説明したが、１次元状、２次元状に特ぅ定パターンが
繰り返し規則的に配列されているものであればよい。
第１図は欠陥検査装置の構成を示す図、第２図ａ，ｂは
欠陥の一例を示す図、第３図はこの発明０の一実施例を
示す図、第４図ａ，ｂ、第５図ａ，ｂ、第６図ａ，ｂ及
び第７図ａ，ｂはこの発明の一実施例を説明するための
図である。 １０・・・・・・被検体、１１…・・・レーザ光源、１
３・・・…レンズ、１４，１６・・・…空間フィル夕、
１７，夕 １８・・・・・・逆フーリエ変換レンズ、１
９，２２・・・・・・ピンホール、２０，２３・・・・
・・光電変換器。 第１図第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図
欠陥の一例を示す図、第３図はこの発明０の一実施例を
示す図、第４図ａ，ｂ、第５図ａ，ｂ、第６図ａ，ｂ及
び第７図ａ，ｂはこの発明の一実施例を説明するための
図である。 １０・・・・・・被検体、１１…・・・レーザ光源、１
３・・・…レンズ、１４，１６・・・…空間フィル夕、
１７，夕 １８・・・・・・逆フーリエ変換レンズ、１
９，２２・・・・・・ピンホール、２０，２３・・・・
・・光電変換器。 第１図第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図
Claims (1)
- １ １次元状もしくは２次元状に規則的に配列されたパ
ターンを有する被検体にコヒーレント光を照射して前記
パターンのフーリエ変換パターン像を形成する手段と、
この手段によってフーリエ変換パターン像が形成される
位置に配置された空間フイルタとを備え、この空間フイ
ルタは、光を遮断する第１の領域と、光を通過させる第
２の領域とから成り、前記第１の領域は、円形の内側境
界を有し、前記被検体上のパターンに対する１次以上の
高次の回折光を全て遮断し、前記第２の領域は、前記第
１の領域の内側境界によって規定される円形の領域であ
って、前記被検体上のパターンに対する０次の回折光と
、前記被検体上の欠陥に基づく情報光とを通過させるよ
うに構成され、この空間フイルタの出力により前記被検
体の欠陥の種類を検出することを特徴とする欠陥検査装
置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54143228A JPS60708B2 (ja) | 1979-11-07 | 1979-11-07 | 欠陥検査装置 |
| EP80106681A EP0028774B1 (en) | 1979-11-07 | 1980-10-30 | Apparatus for detecting defects in a periodic pattern |
| DE8080106681T DE3071422D1 (en) | 1979-11-07 | 1980-10-30 | Apparatus for detecting defects in a periodic pattern |
| US06/202,320 US4360269A (en) | 1979-11-07 | 1980-10-30 | Apparatus for inspecting defects in a periodic pattern |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54143228A JPS60708B2 (ja) | 1979-11-07 | 1979-11-07 | 欠陥検査装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5667486A JPS5667486A (en) | 1981-06-06 |
| JPS60708B2 true JPS60708B2 (ja) | 1985-01-09 |
Family
ID=15333873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54143228A Expired JPS60708B2 (ja) | 1979-11-07 | 1979-11-07 | 欠陥検査装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4360269A (ja) |
| EP (1) | EP0028774B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60708B2 (ja) |
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- 1980-10-30 DE DE8080106681T patent/DE3071422D1/de not_active Expired
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| EP0028774A3 (en) | 1982-04-07 |
| JPS5667486A (en) | 1981-06-06 |
| EP0028774B1 (en) | 1986-02-12 |
| US4360269A (en) | 1982-11-23 |
| EP0028774A2 (en) | 1981-05-20 |
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