JPS6322255B2 - - Google Patents
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- JPS6322255B2 JPS6322255B2 JP56070345A JP7034581A JPS6322255B2 JP S6322255 B2 JPS6322255 B2 JP S6322255B2 JP 56070345 A JP56070345 A JP 56070345A JP 7034581 A JP7034581 A JP 7034581A JP S6322255 B2 JPS6322255 B2 JP S6322255B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- lens
- defect
- diffracted light
- far
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、規則的に配列された基本パターン
を有する被検体に生じた欠陥を検出するための欠
陥検査装置に関する。
を有する被検体に生じた欠陥を検出するための欠
陥検査装置に関する。
従来、規則的に配列された基本パターンを検査
するには、主に顕微鏡を用いた目視検査に頼つて
きた。この目視検査は顕微鏡を常時調整しなけれ
ばならないため、検査に時間を要し高速検査が困
難になる。また顕微鏡を覗きながら基本パターン
の欠陥を捜さなければならないため、眼の疲労が
激しく検査の精度が低下する恐れがある。
するには、主に顕微鏡を用いた目視検査に頼つて
きた。この目視検査は顕微鏡を常時調整しなけれ
ばならないため、検査に時間を要し高速検査が困
難になる。また顕微鏡を覗きながら基本パターン
の欠陥を捜さなければならないため、眼の疲労が
激しく検査の精度が低下する恐れがある。
近年、目視検査に替つて、コヒーレントな光と
空間フイルターとを用いた検査装置として、基体
パターンの周期情報と欠陥による非周期情報とを
分離して表示する装置が開発されている。
空間フイルターとを用いた検査装置として、基体
パターンの周期情報と欠陥による非周期情報とを
分離して表示する装置が開発されている。
従来、この種の装置として規則的に配列された
基本パターン（以後規則パターンと呼ぶ）のフー
リエ変換像が格子状に規則的に分布する性質を利
用して、格子状に分布する光不透過領域を有する
空間フイルターを用いて、規則パターンの周期情
報光を遮断し空間フイルターの透視部分から非周
期的な欠陥情報を検出するものがある。
基本パターン（以後規則パターンと呼ぶ）のフー
リエ変換像が格子状に規則的に分布する性質を利
用して、格子状に分布する光不透過領域を有する
空間フイルターを用いて、規則パターンの周期情
報光を遮断し空間フイルターの透視部分から非周
期的な欠陥情報を検出するものがある。
しかしながら、この種のものは空間フイルター
の不透過領域に被検体のフーリエ変換像を正確に
合せ、同期情報光を完全に遮断しなければならな
いため、空間フイルターの位置合せが難かしくな
るとともに、検査の対象となる基本パターンを光
軸に対して極めて正確に垂直度をもたせて保持し
なければならず操作が著しく煩雑になる欠点があ
る。
の不透過領域に被検体のフーリエ変換像を正確に
合せ、同期情報光を完全に遮断しなければならな
いため、空間フイルターの位置合せが難かしくな
るとともに、検査の対象となる基本パターンを光
軸に対して極めて正確に垂直度をもたせて保持し
なければならず操作が著しく煩雑になる欠点があ
る。
また、規則パターンの周期情報光を空間フイル
ターの不透過領域に正確に合せなければならない
ため、フーリエ面で歪の少ない高精度なレンズを
用いなければならずレンズが高価になる欠点があ
つた。
ターの不透過領域に正確に合せなければならない
ため、フーリエ面で歪の少ない高精度なレンズを
用いなければならずレンズが高価になる欠点があ
つた。
次に、規則パターンの周期情報と欠陥による非
周期情報とを分離して表示する装置として、規則
パターンのなかで特にメツシユに着目し、コヒー
レントな光とリング状の空間フイルターとを用い
てメツシユの欠陥を高速かつ高精度に検出する装
置が考えだされている。
周期情報とを分離して表示する装置として、規則
パターンのなかで特にメツシユに着目し、コヒー
レントな光とリング状の空間フイルターとを用い
てメツシユの欠陥を高速かつ高精度に検出する装
置が考えだされている。
このものは、光学系が比較的簡単で高精度を要
しない等の特徴を有するが、基本パターンの繰り
返し周期が極めて小さいものの場合（例えば光デ
イスクのプレグループの検査等）には被検体の回
折光が大きく広がりすぎる。このため、大口径か
つ明るいレンズが必要になり、レンズの価格が高
くなる。また明るいレンズは焦点深度が浅くなり
高精度な焦点合せ機構が必要となるとともに、焦
点合せに時間を要し検査の高速化を計ることがで
きなくなるなどの欠点があつた。
しない等の特徴を有するが、基本パターンの繰り
返し周期が極めて小さいものの場合（例えば光デ
イスクのプレグループの検査等）には被検体の回
折光が大きく広がりすぎる。このため、大口径か
つ明るいレンズが必要になり、レンズの価格が高
くなる。また明るいレンズは焦点深度が浅くなり
高精度な焦点合せ機構が必要となるとともに、焦
点合せに時間を要し検査の高速化を計ることがで
きなくなるなどの欠点があつた。
この発明は、上記の欠点を解消するためになさ
れたもので、基本パターンを規則的に配列した被
検体に略コヒーレントな光を照射して得られる第
ｎ次と第ｎ＋１次回折光の間に少なくとも１つの
レンズを配設し、このレンズにより再結像された
光を少なくとも１つの光電変換器を介して信号処
理部で処理し、レンズの互いに異なる遠視野座標
における光電出力に基づいて欠陥の種類を判別す
ることにより、小口径のレンズを用いることがで
き価格を著しく低減することができるとともに、
焦点深度が深くなり焦点合せを容易に行なうこと
ができるので検査を高速化することができ、かつ
欠陥の種類を判別することができる欠陥検査装置
を提供しようとするものである。
れたもので、基本パターンを規則的に配列した被
検体に略コヒーレントな光を照射して得られる第
ｎ次と第ｎ＋１次回折光の間に少なくとも１つの
レンズを配設し、このレンズにより再結像された
光を少なくとも１つの光電変換器を介して信号処
理部で処理し、レンズの互いに異なる遠視野座標
における光電出力に基づいて欠陥の種類を判別す
ることにより、小口径のレンズを用いることがで
き価格を著しく低減することができるとともに、
焦点深度が深くなり焦点合せを容易に行なうこと
ができるので検査を高速化することができ、かつ
欠陥の種類を判別することができる欠陥検査装置
を提供しようとするものである。
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説
明する。第１図において、１は基本パターンを規
則的に配列した被検体で、図示例では比較的単純
な基本パターンである多数の溝を規則的に配列し
たビデイオ・デイスクである。２はこのビデイ
オ・デイスク１を回転させる回転駆動装置で、こ
の装置２は回転モータ２ａとモータ２ａの回転軸
に設けられビデイオ・デイスク１を着脱可能に保
持させる保持部２ｂとにより構成されている。こ
の回転駆動装置２の側方に略コヒーレントな光例
えばHeNeレーザ装置よりなるレーザ光源３を配
設する。この光源３から発射されたレーザ光Ｒ
を、ハーフミラー４で反射させて、前記ビデイ
オ・デイスク１の規則パターンに照射させる。
明する。第１図において、１は基本パターンを規
則的に配列した被検体で、図示例では比較的単純
な基本パターンである多数の溝を規則的に配列し
たビデイオ・デイスクである。２はこのビデイ
オ・デイスク１を回転させる回転駆動装置で、こ
の装置２は回転モータ２ａとモータ２ａの回転軸
に設けられビデイオ・デイスク１を着脱可能に保
持させる保持部２ｂとにより構成されている。こ
の回転駆動装置２の側方に略コヒーレントな光例
えばHeNeレーザ装置よりなるレーザ光源３を配
設する。この光源３から発射されたレーザ光Ｒ
を、ハーフミラー４で反射させて、前記ビデイ
オ・デイスク１の規則パターンに照射させる。
このとき、ビデイオ・デイスク１の規則パター
ンにレーザ光Ｒを照射して得られる規則パターン
による回折光は、１波長ずれた方向に強め合い、
整数次回折光に集中する。また規則パターンから
ずれた欠陥部の回折光は強め合わず自然に消滅
し、また凹凸の欠損、ゴミなどのような弧立した
欠陥部から発生する回折光は全体に広がる。
ンにレーザ光Ｒを照射して得られる規則パターン
による回折光は、１波長ずれた方向に強め合い、
整数次回折光に集中する。また規則パターンから
ずれた欠陥部の回折光は強め合わず自然に消滅
し、また凹凸の欠損、ゴミなどのような弧立した
欠陥部から発生する回折光は全体に広がる。
このことから、レーザ光Ｒを規則パターンに照
射して得られる回折パターンの中の第ｎ次回折光
と第ｎ＋１次回折光、例えば第０次回折光５ａと
第１次回折光５ｂとの間にビデイオ・デイスク１
の欠陥部により発生した回折光６を受光する対物
レンズ７を配設する。この対物レンズ７により受
光された回折光６はピンホール８を介して光電変
換器９に再結像される。この回折光６は、光電変
換器９により光量に応じた電気信号に変換され
る。この電気信号はアナログ・デジタル変換器１
０によりデジタル信号に変換された後、信号処理
計算機１１に送られる。このデジタル信号は信号
処理計算機１１で所定の値以上のものを欠陥とし
ていき値処理され表示部１２に表示される。ここ
で１３は回転モータ２ａを回転させながら一周分
検査ごとにビデイオ・デイスク１を平行移動させ
るパルスモータである。このパルスモータ１３に
信号を繰返して送り回転駆動装置２を順次平行移
動させることによりビデイオ・デイスク１の規則
パターンの全面を検査することができる。
射して得られる回折パターンの中の第ｎ次回折光
と第ｎ＋１次回折光、例えば第０次回折光５ａと
第１次回折光５ｂとの間にビデイオ・デイスク１
の欠陥部により発生した回折光６を受光する対物
レンズ７を配設する。この対物レンズ７により受
光された回折光６はピンホール８を介して光電変
換器９に再結像される。この回折光６は、光電変
換器９により光量に応じた電気信号に変換され
る。この電気信号はアナログ・デジタル変換器１
０によりデジタル信号に変換された後、信号処理
計算機１１に送られる。このデジタル信号は信号
処理計算機１１で所定の値以上のものを欠陥とし
ていき値処理され表示部１２に表示される。ここ
で１３は回転モータ２ａを回転させながら一周分
検査ごとにビデイオ・デイスク１を平行移動させ
るパルスモータである。このパルスモータ１３に
信号を繰返して送り回転駆動装置２を順次平行移
動させることによりビデイオ・デイスク１の規則
パターンの全面を検査することができる。
ここに用いられる被検体は第２図に示すように
基板１ａ上に多数の溝１ｂを規則的に配列したビ
デイオ・デイスク１であり、溝の幅寸法をａ、深
さ寸法をｈ、ピツチ寸法をｐとし一部の溝に欠陥
（例えば規則パターン上からτだけずれたピツチ
ムラ）があるものとする。
基板１ａ上に多数の溝１ｂを規則的に配列したビ
デイオ・デイスク１であり、溝の幅寸法をａ、深
さ寸法をｈ、ピツチ寸法をｐとし一部の溝に欠陥
（例えば規則パターン上からτだけずれたピツチ
ムラ）があるものとする。
いま（2N＋１）個の溝にレーザ光Ｒが同時に
照射されると、ある距離をおいて写し出される回
折光のパターン（以後遠視野パターンと呼ぶ）
FT（ξ）は次式により与えられる。
照射されると、ある距離をおいて写し出される回
折光のパターン（以後遠視野パターンと呼ぶ）
FT（ξ）は次式により与えられる。
FT（ξ）＝Ｆ（ξ）＋Ｇ（ξ） ……(1)
ここでξは遠視野パターンが写しだされる位置の
座標（以後遠視野座標と呼ぶ）、Ｆ（ξ）は規則パ
ターンからの遠視野パターン、Ｇ（ξ）は欠陥部
からの遠視野パターンである。またＦ（ξ）は次
式で与えられる。
座標（以後遠視野座標と呼ぶ）、Ｆ（ξ）は規則パ
ターンからの遠視野パターン、Ｇ（ξ）は欠陥部
からの遠視野パターンである。またＦ（ξ）は次
式で与えられる。
Ｆ（ξ）＝｛（ｐ−ａ）sin ｃ〔（ｐ−ａ）ξ〕
＋ａ sin ｃ（aξ）exp〔−jπ（4h／λ＋pξ）〕
｝×sin｛2π（Ｎ＋１／２）pξ｝／sin（πpξ）……(
2) ただしsin ｃ（ｘ）＝sin πx／πxであり、λは照
射光波長、ｊは虚数単位を表わしている。このこ
とから｜Ｆ（ξ）｜2はξ＝ｎ／ｐで極大値をもつ
関数であり、整数（ｎ＝０，１，２，３……）以
外の次数の回折光は小さな値となり、｜Ｇ（ξ）｜2
とほぼ同程度になる。すなわち、対物レンズ７か
ら出力される光量は規則パターンによるものと、
欠陥部によるものとはほぼ同程度となる。
｝×sin｛2π（Ｎ＋１／２）pξ｝／sin（πpξ）……(
2) ただしsin ｃ（ｘ）＝sin πx／πxであり、λは照
射光波長、ｊは虚数単位を表わしている。このこ
とから｜Ｆ（ξ）｜2はξ＝ｎ／ｐで極大値をもつ
関数であり、整数（ｎ＝０，１，２，３……）以
外の次数の回折光は小さな値となり、｜Ｇ（ξ）｜2
とほぼ同程度になる。すなわち、対物レンズ７か
ら出力される光量は規則パターンによるものと、
欠陥部によるものとはほぼ同程度となる。
このとき欠陥部による回折光は、対物レンズ７
により欠陥に対応する点に再結像される。すなわ
ち第２図に示すように欠陥部が一ケ所であれば一
点に結像する。一方規則パターンによる整数次回
折光は対物レンズ７の結像位置にて規則パターン
に対応して結像面全体に広がる。すなわちＮ＝
100のときの規則パターンにレーザ光Ｒを照射す
ると、規則パターンからの回折光は201点に広が
る。
により欠陥に対応する点に再結像される。すなわ
ち第２図に示すように欠陥部が一ケ所であれば一
点に結像する。一方規則パターンによる整数次回
折光は対物レンズ７の結像位置にて規則パターン
に対応して結像面全体に広がる。すなわちＮ＝
100のときの規則パターンにレーザ光Ｒを照射す
ると、規則パターンからの回折光は201点に広が
る。
このことから、対物レンズ７を通過する光量は
欠陥による回折光６と規則パターンからの回折光
とはほぼ同程度になるため、対物レンズ７を介し
て一点に結像される欠陥部からの光量は201点に
広がる規則パターンよりもはるかに強くなる。こ
れにより、対物レンズ７の結像面での規則パター
ンによる光量を無視することができる。
欠陥による回折光６と規則パターンからの回折光
とはほぼ同程度になるため、対物レンズ７を介し
て一点に結像される欠陥部からの光量は201点に
広がる規則パターンよりもはるかに強くなる。こ
れにより、対物レンズ７の結像面での規則パター
ンによる光量を無視することができる。
したがつて、この結像面で観測した光の輝点は
欠陥によるものとして考えられ、その光量は対物
レンズ７の遠視野座標をξ0とし、対物レンズ７の
開口が充分に小さいものとすれば次式により与え
られる。
欠陥によるものとして考えられ、その光量は対物
レンズ７の遠視野座標をξ0とし、対物レンズ７の
開口が充分に小さいものとすれば次式により与え
られる。
Ｉ＝｜Ｇ（ξ0）｜2＝８／π2ξ0 2sin2（πτξ0）si
n2（πaξ0）｛１−cos（4h／λπ）｝……(3) この第(3)式からピンホール８の位置での光量
は、ピツチムラｒのsin関数の２乗に比例するこ
とがわかる。そこでこの光量を光電変換器９によ
り光電変換し、さらにアナログ・デジタル変換器
１０でＡ／Ｄ変換した値を信号処理計算機１１に
かけ第(3)式によりピツチムラを求めることができ
る。なお高速化を計るために、第(3)式からあらか
じめ計算し数表として信号処理計算機１１に記録
しておくと、第(3)式の演算のかわりに数表を引く
ことにより処理時間を著しく短縮させることがで
きる。
n2（πaξ0）｛１−cos（4h／λπ）｝……(3) この第(3)式からピンホール８の位置での光量
は、ピツチムラｒのsin関数の２乗に比例するこ
とがわかる。そこでこの光量を光電変換器９によ
り光電変換し、さらにアナログ・デジタル変換器
１０でＡ／Ｄ変換した値を信号処理計算機１１に
かけ第(3)式によりピツチムラを求めることができ
る。なお高速化を計るために、第(3)式からあらか
じめ計算し数表として信号処理計算機１１に記録
しておくと、第(3)式の演算のかわりに数表を引く
ことにより処理時間を著しく短縮させることがで
きる。
またゴミ、キズなどによる弧立欠陥がある場合
にも前述と同様に結像面で観測した輝点は欠陥に
よるものとして考えられ、その光量Ｉは対物レン
ズ７の遠視野座標をξ0、欠陥の大きさをｄとし、
対物レンズ７の開口が充分に小さいものとすれば
次式により与えられる。
にも前述と同様に結像面で観測した輝点は欠陥に
よるものとして考えられ、その光量Ｉは対物レン
ズ７の遠視野座標をξ0、欠陥の大きさをｄとし、
対物レンズ７の開口が充分に小さいものとすれば
次式により与えられる。
この第(4)式から欠陥の大きさを求めることがで
きる。しかしながら、実際の検査においては欠陥
の大きさ正確に知る必要はなく、ある大きさ以上
の欠陥の個数を求めることのほうが重要視され
る。このため第(4)式によりいき値をあらかじめ求
めておいて比較すれば良い。
きる。しかしながら、実際の検査においては欠陥
の大きさ正確に知る必要はなく、ある大きさ以上
の欠陥の個数を求めることのほうが重要視され
る。このため第(4)式によりいき値をあらかじめ求
めておいて比較すれば良い。
次に対物レンズ７の遠視野座標ξ0を変えると、
第３図に示すように光量Ｉの最大値点が変わる。
第３図は遠視野座標ξ0＝0.2、ξ0＝0.4のときのピ
ツチムラに対する光量Ｉを第(3)式より計算で求め
たものである。この図からピツチムラの大きさτ
が12μm（遠視野座標ξ0＝0.4において光量Ｉの最
大値を示す点）以下ならば遠視野座標ξ0＝0.2の
場合に比べてξ0＝0.4の場合のほうがはるかに感
度が良くなることがわかる。一方遠視野座標ξ0を
ξ0＝0.4からξ0＝0.2に変えると、光量Ｉの最大値
点はピツチムラの大きさτ＝1.2μmからτ＝
2.5μmに移動するため、測定範囲を広くすること
ができる。このことから、対物レンズ７の遠視野
座標ξ0を移動させることにより感度および測定範
囲を変えることができる。
第３図に示すように光量Ｉの最大値点が変わる。
第３図は遠視野座標ξ0＝0.2、ξ0＝0.4のときのピ
ツチムラに対する光量Ｉを第(3)式より計算で求め
たものである。この図からピツチムラの大きさτ
が12μm（遠視野座標ξ0＝0.4において光量Ｉの最
大値を示す点）以下ならば遠視野座標ξ0＝0.2の
場合に比べてξ0＝0.4の場合のほうがはるかに感
度が良くなることがわかる。一方遠視野座標ξ0を
ξ0＝0.4からξ0＝0.2に変えると、光量Ｉの最大値
点はピツチムラの大きさτ＝1.2μmからτ＝
2.5μmに移動するため、測定範囲を広くすること
ができる。このことから、対物レンズ７の遠視野
座標ξ0を移動させることにより感度および測定範
囲を変えることができる。
次にこの発明の効果を列挙する。
第ｎ次回折光と第ｎ＋１次回折光との間に生
じている一部の回折光を開口径の小さな、しか
も暗いレンズを用いて充分に検出することがで
きるため、従来のものに比べてレンズの価格を
著しく安価にすることができる。
じている一部の回折光を開口径の小さな、しか
も暗いレンズを用いて充分に検出することがで
きるため、従来のものに比べてレンズの価格を
著しく安価にすることができる。
対物レンズ７の焦点深度が深いため、一度焦
点を合せれば検査中に再度合せる必要がなくな
るとともに焦点合せを容易に行なうことがで
き、検査の高速化を計るうえで有利になる。
点を合せれば検査中に再度合せる必要がなくな
るとともに焦点合せを容易に行なうことがで
き、検査の高速化を計るうえで有利になる。
従来のように高精度な焦点合せ機構を必要と
しないため、構成の簡略を計ることができると
ともに価格の低減を計ることができる。
しないため、構成の簡略を計ることができると
ともに価格の低減を計ることができる。
対物レンズ７を第ｎ次回折光と第ｎ＋１次回
折光との間に配置すればよいため、対物レンズ
７の位置合せを容易に行なうことができる。
折光との間に配置すればよいため、対物レンズ
７の位置合せを容易に行なうことができる。
遠視野座標ξ0を移動させ感度および測定範囲
を測定の対象に応じて適切に選ぶことにより高
精度の測定が可能になる。
を測定の対象に応じて適切に選ぶことにより高
精度の測定が可能になる。
また、上記第(3)式と第(4)式とを比較して見る
と、遠視野座標ξ0により光量Ｉの分布に相違点が
あることがわかる。ここで第４図ａは第(3)式の遠
視野座標と光量Ｉとの関係を示す曲線図、第４図
ｂは第(4)式の遠視野座標と光量Ｉとの関係を示す
曲線図である。この図から第(3)式ではξ0＝０でＩ
＝０となり、また第(4)式でばξ0＝０でＩは最大値
をとる。
と、遠視野座標ξ0により光量Ｉの分布に相違点が
あることがわかる。ここで第４図ａは第(3)式の遠
視野座標と光量Ｉとの関係を示す曲線図、第４図
ｂは第(4)式の遠視野座標と光量Ｉとの関係を示す
曲線図である。この図から第(3)式ではξ0＝０でＩ
＝０となり、また第(4)式でばξ0＝０でＩは最大値
をとる。
この点に鑑みて、上記実施例と同様にコヒーレ
ントな光を規則パターンに照射して得られる回折
パターンの第ｎ次回折光と第ｎ＋１次回折光との
間に例えば１対の対物レンズを配設し、この１対
の対物レンズに対応させてピンホール、光電変換
器等を配設する。このとき第１の対物レンズまた
は第２の対物レンズを異なる遠視野座標ξ01また
はξ02に設定すれば、異なつた遠視野座標ξ0から
それぞれの光量I0を検出することができる。この
ことから第１の対物レンズの遠視野座標ξ01のと
きの光量I01とし、第２の対物レンズの遠視野座
標ξ02のときの光量をI02とすると、第４図から０
＜ξ01＜ξ02でI01＞I02ならばゴミ、キズなどの弧立
欠陥であり、また０＜ξ01＜ξ02でI01＜I02ならばピ
ツチムラ欠陥であることがわかる。
ントな光を規則パターンに照射して得られる回折
パターンの第ｎ次回折光と第ｎ＋１次回折光との
間に例えば１対の対物レンズを配設し、この１対
の対物レンズに対応させてピンホール、光電変換
器等を配設する。このとき第１の対物レンズまた
は第２の対物レンズを異なる遠視野座標ξ01また
はξ02に設定すれば、異なつた遠視野座標ξ0から
それぞれの光量I0を検出することができる。この
ことから第１の対物レンズの遠視野座標ξ01のと
きの光量I01とし、第２の対物レンズの遠視野座
標ξ02のときの光量をI02とすると、第４図から０
＜ξ01＜ξ02でI01＞I02ならばゴミ、キズなどの弧立
欠陥であり、また０＜ξ01＜ξ02でI01＜I02ならばピ
ツチムラ欠陥であることがわかる。
したがつて、このようにレンズの互いに異なる
遠視野座標における複数の光電変換出力を用いる
ことにより、ピツチムラ欠陥かゴミ、キズなどの
個立欠陥かを判別することができる。
遠視野座標における複数の光電変換出力を用いる
ことにより、ピツチムラ欠陥かゴミ、キズなどの
個立欠陥かを判別することができる。
次に、この発明の他の実施例を説明する。
第５図は上記実施例においてハーフミラーをミ
ラー２１に取り替えた例を示したもので他の構成
は第１図の場合と同様である。なお第５図におい
て第１図と同一部分は説明の便宜上同一符号を付
して説明を省略する。このものの場合、ビデイ
オ・デイスク１の規則パターンにコヒーレントな
光（レーザ光Ｒ）を照射して得られる回折パター
ンの中の第ｎ次回折光および第ｎ＋１次回折光が
ミラー２１により反射されないようにコヒーレン
トな光の照射角を調整する必要がある。
ラー２１に取り替えた例を示したもので他の構成
は第１図の場合と同様である。なお第５図におい
て第１図と同一部分は説明の便宜上同一符号を付
して説明を省略する。このものの場合、ビデイ
オ・デイスク１の規則パターンにコヒーレントな
光（レーザ光Ｒ）を照射して得られる回折パター
ンの中の第ｎ次回折光および第ｎ＋１次回折光が
ミラー２１により反射されないようにコヒーレン
トな光の照射角を調整する必要がある。
したがつて、このような構成によれば、上記実
施例に挙げた効果の他に対物レンズ７をビデイ
オ・デイスク１とミラー２１との間に配設するこ
とができるため、被検体に対物レンズ７を接近さ
せることができ、作動距離の短いレンズを使用す
ることができる。
施例に挙げた効果の他に対物レンズ７をビデイ
オ・デイスク１とミラー２１との間に配設するこ
とができるため、被検体に対物レンズ７を接近さ
せることができ、作動距離の短いレンズを使用す
ることができる。
第６図は透明な部材よりなる被検体３１の規則
パターンにコヒーレントな光を透過して得られる
第ｎ次回折光３２ａと第ｎ＋１次回折光３２ｂと
の間に対物レンズ７を配設したもので、他の構成
は第１図の場合と同様である。
パターンにコヒーレントな光を透過して得られる
第ｎ次回折光３２ａと第ｎ＋１次回折光３２ｂと
の間に対物レンズ７を配設したもので、他の構成
は第１図の場合と同様である。
したがつて、このような構成によれば、被検体
３１にコヒーレントな光を照射してこの透過回折
した光３３を検出することにより、上記実施例と
同様な効果を挙げることができる。
３１にコヒーレントな光を照射してこの透過回折
した光３３を検出することにより、上記実施例と
同様な効果を挙げることができる。
なお、この発明は上記実施例に限定されるもの
ではなく、要旨を変更しない範囲において種々変
形して実施することができる。
ではなく、要旨を変更しない範囲において種々変
形して実施することができる。
例えば上記実施例では欠陥部より発生する回折
光を１個のレンズにより遠視野座標ξを移動させ
て感度および測定範囲の切換えを行なつたが、こ
の発明はこれに限定されるものではなく、例えば
複数個のレンズを配設し各レンズの遠視野座標を
変えるとともにそれぞれのレンズに対応させて光
電変換器を配設し、この光電変換器を切換えるこ
とにより感度および測定範囲を測定対象に応じて
任意に選ぶことができる。
光を１個のレンズにより遠視野座標ξを移動させ
て感度および測定範囲の切換えを行なつたが、こ
の発明はこれに限定されるものではなく、例えば
複数個のレンズを配設し各レンズの遠視野座標を
変えるとともにそれぞれのレンズに対応させて光
電変換器を配設し、この光電変換器を切換えるこ
とにより感度および測定範囲を測定対象に応じて
任意に選ぶことができる。
また上記実施例では被検体に溝を規則的に配列
したビデイオ・デイスクを用いたが被検体に形成
される基本パターンは必ずしも溝に限定されるも
のではないことはいうまでもない。また光源はレ
ーザ光源に限定されるものではなく、コヒーレン
トな光を発する光源であれ白色光源を用いること
もできる。
したビデイオ・デイスクを用いたが被検体に形成
される基本パターンは必ずしも溝に限定されるも
のではないことはいうまでもない。また光源はレ
ーザ光源に限定されるものではなく、コヒーレン
トな光を発する光源であれ白色光源を用いること
もできる。
以上述べたようにこの発明によれば、基本パタ
ーンを規則的に配列した被検体に略コヒーレント
な光を照射して得られる第ｎ次と第ｎ＋１次回折
光の間にレンズを配設して欠陥部の回折光を検出
することにより、小口径のレンズを用いることが
でき価格を著しく低減することができるとともに
焦点深度が深くなり焦点合せを容易に行なうこと
ができるので検査を高速化することができる欠陥
検査装置を提供することができる。
ーンを規則的に配列した被検体に略コヒーレント
な光を照射して得られる第ｎ次と第ｎ＋１次回折
光の間にレンズを配設して欠陥部の回折光を検出
することにより、小口径のレンズを用いることが
でき価格を著しく低減することができるとともに
焦点深度が深くなり焦点合せを容易に行なうこと
ができるので検査を高速化することができる欠陥
検査装置を提供することができる。
第１図はこの発明の一実施例を示す概略的な構
成図、第２図は同実施例に用いられる被検体の一
部分を拡大して示す縦断面図、第３図は同実施例
を説明するためのピツチムラの大きさτに対する
光量Ｉの関係を示す波形図、第４図は他の実施例
を説明するための遠視野座標ξ0に対する光量Ｉの
分布を示す波形図、第５図または第６図はそれぞ
れ他の実施例を示す概略的な構成図である。 １…ビデイオ・デイスク、１ａ…基板、１ｂ…
溝、２…回転駆動装置、２ａ…回転モータ、２ｂ
…保持部、３…レーザ光源、４…ハーフミラー、
５ａ…第０次回折光、５ｂ…第１次回折光、６…
回折光、７…対物レンズ、８…ピンホール、９…
光電変換器、１０…アナログ・デジタル変換器、
１１…信号処理計算機、１２…表示部、１３…パ
ルスモータ、２１…ミラー、３１…被検体、３２
ａ…第ｎ次回折光、３２ｂ…第ｎ＋１次回折光、
３３…透過回折した光。
成図、第２図は同実施例に用いられる被検体の一
部分を拡大して示す縦断面図、第３図は同実施例
を説明するためのピツチムラの大きさτに対する
光量Ｉの関係を示す波形図、第４図は他の実施例
を説明するための遠視野座標ξ0に対する光量Ｉの
分布を示す波形図、第５図または第６図はそれぞ
れ他の実施例を示す概略的な構成図である。 １…ビデイオ・デイスク、１ａ…基板、１ｂ…
溝、２…回転駆動装置、２ａ…回転モータ、２ｂ
…保持部、３…レーザ光源、４…ハーフミラー、
５ａ…第０次回折光、５ｂ…第１次回折光、６…
回折光、７…対物レンズ、８…ピンホール、９…
光電変換器、１０…アナログ・デジタル変換器、
１１…信号処理計算機、１２…表示部、１３…パ
ルスモータ、２１…ミラー、３１…被検体、３２
ａ…第ｎ次回折光、３２ｂ…第ｎ＋１次回折光、
３３…透過回折した光。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基本パターンを規則的に配列した被検体と、
この被検体の基本パターンに略コヒーレントな光
を照射する光源と、 前記基本パターンに略コヒーレントな光を照射
して得られる回折パターンの中の第ｎ次回折光と
第ｎ＋１次回折光との間に配置され前記被検体の
欠陥部より発生する回折光を再結像させる少なく
とも１つのレンズと、 このレンズにより再結像された光を電気信号に
変換する少なくとも１つの光電変換器と、 この光電変換器の出力から前記欠陥部の欠陥の
種類を判別する信号処理部とを備え、 前記レンズの互いに異なる遠視野座標における
複数の光電変換出力を用いて欠陥の種類を判別す
ることを特徴とする欠陥検査装置。 ２ 複数のレンズを互いに異なる遠視野座標に配
置し、夫々のレンズに対応させて複数の光電変換
器を配設したことを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の欠陥検査装置。 ３ 被検体の欠陥部より発生する回折光は、ピン
ホールを介して光電変換器に導かれることを特徴
とする特許請求の範囲第１項または第２項記載の
欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7034581A JPS57184957A (en) | 1981-05-09 | 1981-05-09 | Defect inspecting device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7034581A JPS57184957A (en) | 1981-05-09 | 1981-05-09 | Defect inspecting device |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57184957A JPS57184957A (en) | 1982-11-13 |
| JPS6322255B2 true JPS6322255B2 (ja) | 1988-05-11 |
Family
ID=13428733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7034581A Granted JPS57184957A (en) | 1981-05-09 | 1981-05-09 | Defect inspecting device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57184957A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01147747U (ja) * | 1988-03-28 | 1989-10-12 | ||
| KR102832561B1 (ko) * | 2024-02-09 | 2025-07-11 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 유지 장치 및 기판 처리 장치 |
| KR102832562B1 (ko) * | 2024-02-01 | 2025-07-11 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 유지 장치 및 기판 처리 장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4581370B2 (ja) * | 2003-10-09 | 2010-11-17 | ソニー株式会社 | 凹凸パターン検査装置及び凹凸パターン検査方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4030835A (en) * | 1976-05-28 | 1977-06-21 | Rca Corporation | Defect detection system |
| JPS5414790A (en) * | 1977-07-05 | 1979-02-03 | Mitsubishi Electric Corp | Surface inspecting apparatus |
-
1981
- 1981-05-09 JP JP7034581A patent/JPS57184957A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01147747U (ja) * | 1988-03-28 | 1989-10-12 | ||
| KR102832562B1 (ko) * | 2024-02-01 | 2025-07-11 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 유지 장치 및 기판 처리 장치 |
| KR102832561B1 (ko) * | 2024-02-09 | 2025-07-11 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 기판 유지 장치 및 기판 처리 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57184957A (en) | 1982-11-13 |
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