JPS607263B2 - 可視像形成方法 - Google Patents
可視像形成方法Info
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- JPS607263B2 JPS607263B2 JP50119013A JP11901375A JPS607263B2 JP S607263 B2 JPS607263 B2 JP S607263B2 JP 50119013 A JP50119013 A JP 50119013A JP 11901375 A JP11901375 A JP 11901375A JP S607263 B2 JPS607263 B2 JP S607263B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
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- Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は可視像を形成するためのプロセスに関する。
可視像は結晶性及びアモルファス相の両者を有する導電
性有機材料を含む板の露光及び非露光領域の外観の差を
利用して形成される。従来電子写真として知られたプロ
セスを含み、公知の多数の像形成プロセスが存在する。
性有機材料を含む板の露光及び非露光領域の外観の差を
利用して形成される。従来電子写真として知られたプロ
セスを含み、公知の多数の像形成プロセスが存在する。
しかしながら、本発明のプロセスは有機光導電体の結晶
相及び同一材料のアモルファス相間の可視的差異の存在
に基づいて予想される従来プロセスは知られていないと
思われる点で全ての従釆プロセスとの異なると居ぜられ
る。本発明に従って、基板及び同時にいくつかの本質的
な性質を有する有機化合物の層より成る板が形成される
。
相及び同一材料のアモルファス相間の可視的差異の存在
に基づいて予想される従来プロセスは知られていないと
思われる点で全ての従釆プロセスとの異なると居ぜられ
る。本発明に従って、基板及び同時にいくつかの本質的
な性質を有する有機化合物の層より成る板が形成される
。
有機化合物は光導電性でなければならない。又有機化合
物は薄膜を形成し得る非高分子体で、２００℃以下のガ
ラス転移温度を有し、結晶相及びアモルファス相の両方
を有さなければならない。本発明のプロセスにおいては
、上述の如き基板及び有機化合物の層より成る板が光パ
ターンに露光される。
物は薄膜を形成し得る非高分子体で、２００℃以下のガ
ラス転移温度を有し、結晶相及びアモルファス相の両方
を有さなければならない。本発明のプロセスにおいては
、上述の如き基板及び有機化合物の層より成る板が光パ
ターンに露光される。
次いで板は、露光及び非露光領域間で相の選択的変化を
生ぜしめる２つの方法のいずれかで現像される。現像の
１つの方法は有機光導電性化合物を、この有機化合物が
わずかに溶解可能である液体と接触させる事を含む。
生ぜしめる２つの方法のいずれかで現像される。現像の
１つの方法は有機光導電性化合物を、この有機化合物が
わずかに溶解可能である液体と接触させる事を含む。
上記の性質を有する化合物が液体によって接触される時
、相の変化が得られる。即ち、露光若しくは非露光領域
のいずれかにおいて、結晶領域からアモルファス相へ若
しくはアモルファス相から結晶相への変化が存在する。
有機化合物は板中結合剤の中に存在し得る。有機化合物
をわずかに溶解させる液体が結合剤の１部として使用さ
れる時は、現像プロセスは板を加熱する事により遂行さ
れ得る。この加熱は液体及び有機光導電性化合物間に接
触を生ぜしめるものと信じられている。加熱に基づき、
可視的差が露光及び非露光領域間で観察される。本発明
のプロセスの好ましい変形においては、基板は導電性で
あり「板はコロナ帯電を受ける。
、相の変化が得られる。即ち、露光若しくは非露光領域
のいずれかにおいて、結晶領域からアモルファス相へ若
しくはアモルファス相から結晶相への変化が存在する。
有機化合物は板中結合剤の中に存在し得る。有機化合物
をわずかに溶解させる液体が結合剤の１部として使用さ
れる時は、現像プロセスは板を加熱する事により遂行さ
れ得る。この加熱は液体及び有機光導電性化合物間に接
触を生ぜしめるものと信じられている。加熱に基づき、
可視的差が露光及び非露光領域間で観察される。本発明
のプロセスの好ましい変形においては、基板は導電性で
あり「板はコロナ帯電を受ける。
この方法によれば、感度の増大が得られる。帯電段階は
光パターンに露光される前に生ずる事が好ましい。本発
明のプロセスを使用する事によって、露光段階中に使用
された光パターンに対応する可視像が得られる。
光パターンに露光される前に生ずる事が好ましい。本発
明のプロセスを使用する事によって、露光段階中に使用
された光パターンに対応する可視像が得られる。
この可視像は種々の効果を生ずるために使用され得る異
なった溶解度ト湿潤性及び光学的性質を有する。本発明
のプロセスの結像特性は極めて高い解像力及び同機に高
い光感度によって特徴付けられる。約１０マイクロジュ
ール／鮒の程度の光感度が得られている。同様に本発明
のプロセスは連続的な階調を与える能力及び大面積を現
像する能力を有する。本発明は同一板上にポジ若しくは
ネガの像のいずれかを得るのに使用される追加の利点を
有する。本発明の高い隣像力はマイクロ・プロセスに特
に利点が多い。上記の如く、本発明の板は同様に溶解度
の差を示し得る。
なった溶解度ト湿潤性及び光学的性質を有する。本発明
のプロセスの結像特性は極めて高い解像力及び同機に高
い光感度によって特徴付けられる。約１０マイクロジュ
ール／鮒の程度の光感度が得られている。同様に本発明
のプロセスは連続的な階調を与える能力及び大面積を現
像する能力を有する。本発明は同一板上にポジ若しくは
ネガの像のいずれかを得るのに使用される追加の利点を
有する。本発明の高い隣像力はマイクロ・プロセスに特
に利点が多い。上記の如く、本発明の板は同様に溶解度
の差を示し得る。
現像された板上の結晶パターンは「例えば水酸化ナトリ
ウム溶液による食刻のためのマスクとして使用され得る
。アルミニウムめつきされたマィラの如き導電性基板上
の被覆上の結晶パターンがアルミニウムの選択的食刻を
生ずるのに使用される。従って、被覆はホトレジストの
性質を有する。更に結晶−アモルファス領域の表面の性
質はマスタ複製法においてアルコール−炭化水素混合物
中に溶解された染料を使用して選択的インキ印刷を生ず
るのに使用され得る。上記の如く「本発明の板のいくつ
かの必要とされる性質を有する有機化合物より成る。
ウム溶液による食刻のためのマスクとして使用され得る
。アルミニウムめつきされたマィラの如き導電性基板上
の被覆上の結晶パターンがアルミニウムの選択的食刻を
生ずるのに使用される。従って、被覆はホトレジストの
性質を有する。更に結晶−アモルファス領域の表面の性
質はマスタ複製法においてアルコール−炭化水素混合物
中に溶解された染料を使用して選択的インキ印刷を生ず
るのに使用され得る。上記の如く「本発明の板のいくつ
かの必要とされる性質を有する有機化合物より成る。
これは光導電性でなければならない。又これは非高分子
であり、薄膜を形成し得るものでなければならない。こ
れは２００００以下のガラス転移温度を有し「結晶及び
アモルファス相の両方を有さなければならない。これ等
の性質の各々の存在の有無を決定するのには通常のテス
ト方法が使用される。多くの材料は「 これ等の性質を
所持する。特に良好な結果は、１−フヱニル−３−（ｐ
−ジェチルアミノ．スチリル）−５−（ｐ−ジエチルア
ミノ−フェニル）ピラゾリンを使用して得られる。他の
有用な材料は２０５一ビスージメチルアミノｐ−フエノ
リン−１０３１５オキサジアゾール、１・３・５トリフ
ェニル・ピラゾリン及び１−フェニルー３−ｐ−ジベリ
ジオーフエニル−５−〔３−メチル−２−チエニル〕一
２ーピラゾリンを含む。極めて良好な結果は、同様に２
０４０７−トリニトロー９−フルオレノンを使用して得
られる。本発明のプロセスは、電子写真技法で公知の基
板の任意のものを使用して適用され得る。
であり、薄膜を形成し得るものでなければならない。こ
れは２００００以下のガラス転移温度を有し「結晶及び
アモルファス相の両方を有さなければならない。これ等
の性質の各々の存在の有無を決定するのには通常のテス
ト方法が使用される。多くの材料は「 これ等の性質を
所持する。特に良好な結果は、１−フヱニル−３−（ｐ
−ジェチルアミノ．スチリル）−５−（ｐ−ジエチルア
ミノ−フェニル）ピラゾリンを使用して得られる。他の
有用な材料は２０５一ビスージメチルアミノｐ−フエノ
リン−１０３１５オキサジアゾール、１・３・５トリフ
ェニル・ピラゾリン及び１−フェニルー３−ｐ−ジベリ
ジオーフエニル−５−〔３−メチル−２−チエニル〕一
２ーピラゾリンを含む。極めて良好な結果は、同様に２
０４０７−トリニトロー９−フルオレノンを使用して得
られる。本発明のプロセスは、電子写真技法で公知の基
板の任意のものを使用して適用され得る。
好ましい実施例は、マィラの薄膜である。マィラはポリ
エチレン・テレフタレートである。望まれるならば、マ
ィラは好ましい導電性基板を形成する様アルミめつきさ
れ得る。本発明の１つの変形においては、板は結合剤中
に存在する有機化合物で形成される。
エチレン・テレフタレートである。望まれるならば、マ
ィラは好ましい導電性基板を形成する様アルミめつきさ
れ得る。本発明の１つの変形においては、板は結合剤中
に存在する有機化合物で形成される。
多くの結合剤材料は、従来技法で公知でありも本発明で
使用されるのに適している。好ましい材料は低分子重量
のポリスチレンをベースとした樹脂である。Ｐｉｃｃｏ
ｌａｓｔｉｃＡ−７５である。他の特に有用な結合剤材
料は中間の分子重量のポリスチレンをベースとした樹脂
であるＰｉｃｃｏｌａｓｔｉｃＤ−７ふ Ｈｅｒｃｕｌ
ｅｓ社から市販されている熱可塑性ロジンであるＳねｙ
ｂｅｌｉにｅｓｔｅｒ５及びサツカローズ。ペンゾェー
トを含む。結合剤に対する有機材料の比はクリテイカル
でなく、事実、結合剤の使用は必須要件でなく、本発明
の可能な変形の１つに過ぎない。結合剤が使用される例
においては「有機化合物がわずかに溶解可能な液体が本
発明の他の変形に従い結合剤中に組込まれ得る。これは
２重の有利な効果を有するものと信ぜられる。即ち‘１
｝この様な例では、その後の現像工程は板を単に加熱す
る事によって達成これ得る。ｔ２｝結合剤の使用は有機
化合物のガラス転移温度を降下させ「結合剤中の液体の
使用はガラス転移温度を更に降下させる。本発明のプロ
セス中の使用に適した液体はパラフィン油、鉱物性油等
である。上述の如く、現像工程は本発明のプロセスの１
部を構成する。
使用されるのに適している。好ましい材料は低分子重量
のポリスチレンをベースとした樹脂である。Ｐｉｃｃｏ
ｌａｓｔｉｃＡ−７５である。他の特に有用な結合剤材
料は中間の分子重量のポリスチレンをベースとした樹脂
であるＰｉｃｃｏｌａｓｔｉｃＤ−７ふ Ｈｅｒｃｕｌ
ｅｓ社から市販されている熱可塑性ロジンであるＳねｙ
ｂｅｌｉにｅｓｔｅｒ５及びサツカローズ。ペンゾェー
トを含む。結合剤に対する有機材料の比はクリテイカル
でなく、事実、結合剤の使用は必須要件でなく、本発明
の可能な変形の１つに過ぎない。結合剤が使用される例
においては「有機化合物がわずかに溶解可能な液体が本
発明の他の変形に従い結合剤中に組込まれ得る。これは
２重の有利な効果を有するものと信ぜられる。即ち‘１
｝この様な例では、その後の現像工程は板を単に加熱す
る事によって達成これ得る。ｔ２｝結合剤の使用は有機
化合物のガラス転移温度を降下させ「結合剤中の液体の
使用はガラス転移温度を更に降下させる。本発明のプロ
セス中の使用に適した液体はパラフィン油、鉱物性油等
である。上述の如く、現像工程は本発明のプロセスの１
部を構成する。
この現像は有機光導電性化合物がわずかにしか溶解可能
でない液体に有機光導電性化合物を接触させる事によっ
て遂行され得る。この液体は有機化合物と化合的に反応
してはならない。有用な液体は、例えば炭化水素を含む
。好ましい液体は燈油炭化水素であるＳｏｈｉｏ無臭溶
剤３４４０である。他の有用な液体は、例えばナフサ、
エタノール等を含む。溶剤の選択は有機化合物の選択に
依存する。本発明のプロセスの他の変形においては、板
は基板及び有機光導電性化合物間に障壁を含み得る。
でない液体に有機光導電性化合物を接触させる事によっ
て遂行され得る。この液体は有機化合物と化合的に反応
してはならない。有用な液体は、例えば炭化水素を含む
。好ましい液体は燈油炭化水素であるＳｏｈｉｏ無臭溶
剤３４４０である。他の有用な液体は、例えばナフサ、
エタノール等を含む。溶剤の選択は有機化合物の選択に
依存する。本発明のプロセスの他の変形においては、板
は基板及び有機光導電性化合物間に障壁を含み得る。
一般に、この様な障壁は厚さが約１ミクロン若しくはこ
れ以下であり、障壁層として使用されるこの分野で公知
の材料の任意のものである。好ましい材料はアクリル樹
脂Ｅ１ｖａｃｉに２０１０である。他の有用な材料はポ
リスチレン及びポリビニル・ピロリドンである。実施例
１ １部ｌｍフェニル−３一（ｐ−ジェチルアミノ・スチリ
ル）５一（ｐージエチルアミノＱフヱニル） ピラゾリン（ＤＥＡＳＰ） １部 ＰｉｃｃｏｌａｓｔｉｃＡ−７５（低高分子重量
ポリスチレン）１６部 テトラヒドロフラン 上記の溶液が約１−２ミクロンの厚さにアルミニゥムめ
つきされたＭｙｌａｒ上に被覆される。
れ以下であり、障壁層として使用されるこの分野で公知
の材料の任意のものである。好ましい材料はアクリル樹
脂Ｅ１ｖａｃｉに２０１０である。他の有用な材料はポ
リスチレン及びポリビニル・ピロリドンである。実施例
１ １部ｌｍフェニル−３一（ｐ−ジェチルアミノ・スチリ
ル）５一（ｐージエチルアミノＱフヱニル） ピラゾリン（ＤＥＡＳＰ） １部 ＰｉｃｃｏｌａｓｔｉｃＡ−７５（低高分子重量
ポリスチレン）１６部 テトラヒドロフラン 上記の溶液が約１−２ミクロンの厚さにアルミニゥムめ
つきされたＭｙｌａｒ上に被覆される。
上記板は正若しくは負のモードのいずれかのコロナ帯電
を受け「次いで光像に露光される。現像はＳｏｈｉｏ無
臭溶剤３４４０を使用して行なわれる。実施例 ０１部
の２１４・７トリニトロ−９−フルオレノン及び４部の
ＳねｙｂｅｌｊにＥｓｔｅｒ５を含む層がＮＥＳＡガラ
スの導電性表面へ印加された。
を受け「次いで光像に露光される。現像はＳｏｈｉｏ無
臭溶剤３４４０を使用して行なわれる。実施例 ０１部
の２１４・７トリニトロ−９−フルオレノン及び４部の
ＳねｙｂｅｌｊにＥｓｔｅｒ５を含む層がＮＥＳＡガラ
スの導電性表面へ印加された。
被覆の厚さは略１０ミクロンである。被覆はＸｅｒｏｘ
Ｍｏｄｅｌ Ｄプロセッサ（登録商標）を使用して約１
５０ボルトの負電圧にコロナ帯電された。コロナ帯電後
、板は光源として水銀アーク灯及びマスタとしてネガ透
明体を使用して投影像に４秒に露光された。潜像は板を
Ｓｏｈｉｏ３４４０中に板を浸贋する事によって現像さ
れた。現像によって露光領域には、背景領域を透明若し
くはアモルファスとして結晶パターンが現われた。実施
例 ｍ 層は実施例ロの如く調製された。
Ｍｏｄｅｌ Ｄプロセッサ（登録商標）を使用して約１
５０ボルトの負電圧にコロナ帯電された。コロナ帯電後
、板は光源として水銀アーク灯及びマスタとしてネガ透
明体を使用して投影像に４秒に露光された。潜像は板を
Ｓｏｈｉｏ３４４０中に板を浸贋する事によって現像さ
れた。現像によって露光領域には、背景領域を透明若し
くはアモルファスとして結晶パターンが現われた。実施
例 ｍ 層は実施例ロの如く調製された。
試料は（事前のコロナ帯電なく）４秒間露光され、Ｓｏ
ｈｊｏ３４４０中に浸潰された。像は何等観測されなか
った。事前のコロナ帯電なく２分間露光された後はＳｏ
ｈｉｏ現像により像が得られた。この場合、露光領域が
アモルファスであり、背景則ち非露光領域が結晶性であ
る。実施例 Ｗ 被覆剤は２０４・７トリニトロー９−フルオレノン（Ｔ
ＮＦ）をテトラヒドロフラン中に溶解し、Ｓねｙｂｅｌ
船Ｅｓにｒ５をＴＮＦＩ部に対し、２部の比で加える事
により調製された。
ｈｊｏ３４４０中に浸潰された。像は何等観測されなか
った。事前のコロナ帯電なく２分間露光された後はＳｏ
ｈｉｏ現像により像が得られた。この場合、露光領域が
アモルファスであり、背景則ち非露光領域が結晶性であ
る。実施例 Ｗ 被覆剤は２０４・７トリニトロー９−フルオレノン（Ｔ
ＮＦ）をテトラヒドロフラン中に溶解し、Ｓねｙｂｅｌ
船Ｅｓにｒ５をＴＮＦＩ部に対し、２部の比で加える事
により調製された。
この溶液がガラス４スラィド‘こ付着され、溶媒は自然
蒸発された。被覆体は水銀ァーク源、マスタとしてネガ
透明体を使用して露光された。１分の露光の後、被覆体
は約１２０℃の温度に加熱された。
蒸発された。被覆体は水銀ァーク源、マスタとしてネガ
透明体を使用して露光された。１分の露光の後、被覆体
は約１２０℃の温度に加熱された。
明暗露光パターンに対応してアモルファス−結晶像が得
られた。実施例 Ｖ 被覆体は実施例Ｗとして調製された。
られた。実施例 Ｖ 被覆体は実施例Ｗとして調製された。
被覆体は１分間露光され、エタノール中に浸薄する事に
よって現像された。露光領域は透明則ちアモルファスで
、他方非露光領域は結晶である。実施例 Ｗ １ーフエニルー３ｐ−ピベリジオ。
よって現像された。露光領域は透明則ちアモルファスで
、他方非露光領域は結晶である。実施例 Ｗ １ーフエニルー３ｐ−ピベリジオ。
フエニルー５−〔３メチル−２−チエニル〕−２−ピラ
ゾリンが１１４ポリブタジェンとトルェン溶液中にピラ
ゾリン化合物５部、結合剤１部の比で混合され、ガラス
。スライド上に付着された。被覆スライドは被覆が若干
の残留溶媒を含んだまま露光された。アモルファスから
結晶への転移が露光によって得られ、露光領域はアモル
ファスにとどまり非露光領域は結晶性となった。実施例
血 加熱が現像工程に使用される時は、転移温度を下げるた
めに低溶点樹脂及び油を組込む事が好ましい。
ゾリンが１１４ポリブタジェンとトルェン溶液中にピラ
ゾリン化合物５部、結合剤１部の比で混合され、ガラス
。スライド上に付着された。被覆スライドは被覆が若干
の残留溶媒を含んだまま露光された。アモルファスから
結晶への転移が露光によって得られ、露光領域はアモル
ファスにとどまり非露光領域は結晶性となった。実施例
血 加熱が現像工程に使用される時は、転移温度を下げるた
めに低溶点樹脂及び油を組込む事が好ましい。
Claims (1)
- １ 結晶相及びアモルフアス相を呈し２００℃よりも低
いガラス転移温度を有し非高分子性で且つフイルムを形
成する性質の、ピラゾリン、オキサジアノール及びフル
オレノンから成る群より選択された１つの光導電性有機
化合物を含有する単一層を導電性基板上に有する板を光
パターンで露光し、 上記光導電性有機化合物がわずか
に溶解可能である液体と接触させることにより露光及び
非露光領域間で相の選択的変化を生ぜしめて上記板を現
像することを特徴とする可視像形成方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US53235674A | 1974-12-13 | 1974-12-13 | |
| US532356 | 2000-03-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5187035A JPS5187035A (ja) | 1976-07-30 |
| JPS607263B2 true JPS607263B2 (ja) | 1985-02-23 |
Family
ID=24121443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50119013A Expired JPS607263B2 (ja) | 1974-12-13 | 1975-10-03 | 可視像形成方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4150985A (ja) |
| JP (1) | JPS607263B2 (ja) |
| DE (1) | DE2552500A1 (ja) |
| FR (1) | FR2294471A1 (ja) |
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