JPS6074879A - 固体撮像装置 - Google Patents
固体撮像装置Info
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- JPS6074879A JPS6074879A JP58182870A JP18287083A JPS6074879A JP S6074879 A JPS6074879 A JP S6074879A JP 58182870 A JP58182870 A JP 58182870A JP 18287083 A JP18287083 A JP 18287083A JP S6074879 A JPS6074879 A JP S6074879A
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- Japan
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- solid
- state imaging
- imaging device
- semiconductor chip
- semiconductor
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/10—Integrated devices
- H10F39/12—Image sensors
- H10F39/18—Complementary metal-oxide-semiconductor [CMOS] image sensors; Photodiode array image sensors
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F39/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one element covered by group H10F30/00, e.g. radiation detectors comprising photodiode arrays
- H10F39/10—Integrated devices
- H10F39/12—Image sensors
- H10F39/15—Charge-coupled device [CCD] image sensors
- H10F39/157—CCD or CID infrared image sensors
- H10F39/1575—CCD or CID infrared image sensors of the hybrid type
Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Instruments For Viewing The Inside Of Hollow Bodies (AREA)
- Endoscopes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
上1豆更
本発明は固体撮像装置、特に体腔内部や機械的構造体内
部を観察するための内視鏡に内蔵して使用するのに好適
な固体撮像装置に関するものである。
部を観察するための内視鏡に内蔵して使用するのに好適
な固体撮像装置に関するものである。
従来技術
従来の内視鏡は、被検体内部に挿入される可撓性外筒の
内部にオプチカルファイバ束より成るライトガイドとイ
メージガイドとを延在させ、外部に設けた照明光源から
放射される光をライトガイドを経て内視鏡先端まで導き
、照明レンズ系を経て被検体に照射し、被検体の像を対
物レンズ系およびイメージガイドを経て外部へ導き、接
眼レンズ系を介して直接観察するかまたは撮像装置で撮
像してモニタ上に表示するようにしている。このような
イメージガイドを用いた従来の内視鏡における分解能は
イメージガイドを構成するファイバの径で決まるが、フ
ァイバ径を現状よりもさらに細くするには非常に困難で
あり、分解能はほぼ限界に達している。また、イメージ
ガイドは破損し易いので耐久性の点でも問題がある。
内部にオプチカルファイバ束より成るライトガイドとイ
メージガイドとを延在させ、外部に設けた照明光源から
放射される光をライトガイドを経て内視鏡先端まで導き
、照明レンズ系を経て被検体に照射し、被検体の像を対
物レンズ系およびイメージガイドを経て外部へ導き、接
眼レンズ系を介して直接観察するかまたは撮像装置で撮
像してモニタ上に表示するようにしている。このような
イメージガイドを用いた従来の内視鏡における分解能は
イメージガイドを構成するファイバの径で決まるが、フ
ァイバ径を現状よりもさらに細くするには非常に困難で
あり、分解能はほぼ限界に達している。また、イメージ
ガイドは破損し易いので耐久性の点でも問題がある。
このような問題を解決するために、内視鏡先端に小形の
撮像装置を組込み、これによって被検体像を撮像して画
像信号に変換し、この画像信号を導線を経て外部へ導き
、モニタ上に被検体像を表・示することが提案されてい
る。撮像装置としては、00D、BBD、MOS−FE
T AR,RAY。
撮像装置を組込み、これによって被検体像を撮像して画
像信号に変換し、この画像信号を導線を経て外部へ導き
、モニタ上に被検体像を表・示することが提案されてい
る。撮像装置としては、00D、BBD、MOS−FE
T AR,RAY。
PIN−PHOTODIODE ARRAY。
SIT ARRAYなどの半導体固体撮像装置が開発さ
れており、これらの固体撮像装置は小形でありながら分
解能が高く、シかも寿命も長いという特長を有しており
、内視鏡に内蔵するのに好適である。しかしながら、現
在製造されている固体撮像装置は従来の撮像管に比べれ
ば小形ではあるが、現状のままでは内視鏡先端に内蔵す
ることは困難である。特に体腔内観察用の内視鏡は最も
大径の直腸鏡でも直径は十数ミリ程度であり、現状の固
体撮像装置を組込むことはできない。このような問題は
内視鏡だけに限られるものではなく、らの検出信号は微
弱であるので一般に素子単独で用いられるより、検出信
号を増幅する増幅回路等を構成する信号処理回路素子と
共に実装した半導体搬像装置が多用されつつある。この
場合、光検出半導体素子と信号処理回路素子とを単一の
半導体チップ内に構成する場合と、複数個の半導体チッ
プ内に構成する場合とがある。第1図は従来の固体撮像
装置の一例の構成を示すものであり、第1図に示す例で
はパッケージを構成するセラミック基板l上に1枚の半
導体チップ2を設け、その左側の部分2LにCOD、B
BD等の電荷転送素子、MOSトランジスタ、フォトダ
イオード、フォトトランジスタ、静電誘導トランジスタ
等の光検出半導体素子を形成し、右側の部分2Rには水
平、垂直シフトレジスタ、アドレスレジスタ、各種の選
択スイッチ、ビデオラインに接続された負荷抵抗、コン
デンサ、アンプ等を構成する信号処理回路素子を形成す
る。この信号処理回路素子を形成した部分2Rの上には
遮光膜または遮光板8が設けられており、透明ガラスキ
ャップ4を経て照射される光によって半導体内に発生す
る電子−正孔対に起因する微少電流による悪影響が信号
処理回路に及ぶことを防いでいるg光検出半導体素子と
信号処理回路素子との間での信号の授受は半・導体領域
または導体パターンを介して行ない、信号処理半導体領
域からの出力信号や外部回路からの制御信号等の授受は
、リード5、セラミック基板1に設けられたボンディン
グパット6および導線7を介して行なわれている。この
ような構成の固体撮像装置では光検出半導体素子と信号
処理回路素子とを単一の半導体チップ1内に形成できる
ので、これらを別々の半導体チップに形成する場合に比
べて小形とすることができるが、内視鏡の先端に内蔵す
ることができる程小形ではない。また、信号処理回路内
の増幅回路等で発生する熱が光検出半導体素子に伝達さ
れ、暗電流が増大し、また光検出領域に入射した光によ
って発生したキャリヤ電荷が増幅回路やその周辺回路に
拡散し誤動作あ原因となる。さらに大きな問題点として
光検出半導体素子と信号処理回路素子とを単一の半導体
チップ上に構成するので、特性およびチップ製造ブ彎セ
スの合わせ込みの困難さに起因するコストアップが生ず
る0 技術的背景 上述したような問題を解決するために、本願人は特願昭
58−46967号において第2図に示すようなバンク
接合と呼ばれる実装方法を提案している。第2図におい
て、光検出半導体素子は上側の半導体チップ11に形成
し、信号処理回路素子は下側の半導体チップ12に形成
し、これらチップは絶縁性のホルダ18と一体に形成し
た隔壁】4により離間されて支持されている。光検出半
導体素子と信号処理回路素子との間の信号の授受を行な
うために半導体チップ11および12の表面に形成した
接点パッド15および16を導線17および18を介し
てホルダ13の表裏に設けた接点パッド19および20
にそれぞれ接続し、さらにこれらの接点パッド19と2
0との間をホルダ18の側面を延在するリード21によ
り接続している。さらに固体撮像装置を外部回路に接続
するためのリード22をホルダ18から延在させている
。実際の固体撮像装置においては、第2図に示す全体を
さらにパッケージに収納しているが、・第2図ではパッ
ケージは図示していない。
れており、これらの固体撮像装置は小形でありながら分
解能が高く、シかも寿命も長いという特長を有しており
、内視鏡に内蔵するのに好適である。しかしながら、現
在製造されている固体撮像装置は従来の撮像管に比べれ
ば小形ではあるが、現状のままでは内視鏡先端に内蔵す
ることは困難である。特に体腔内観察用の内視鏡は最も
大径の直腸鏡でも直径は十数ミリ程度であり、現状の固
体撮像装置を組込むことはできない。このような問題は
内視鏡だけに限られるものではなく、らの検出信号は微
弱であるので一般に素子単独で用いられるより、検出信
号を増幅する増幅回路等を構成する信号処理回路素子と
共に実装した半導体搬像装置が多用されつつある。この
場合、光検出半導体素子と信号処理回路素子とを単一の
半導体チップ内に構成する場合と、複数個の半導体チッ
プ内に構成する場合とがある。第1図は従来の固体撮像
装置の一例の構成を示すものであり、第1図に示す例で
はパッケージを構成するセラミック基板l上に1枚の半
導体チップ2を設け、その左側の部分2LにCOD、B
BD等の電荷転送素子、MOSトランジスタ、フォトダ
イオード、フォトトランジスタ、静電誘導トランジスタ
等の光検出半導体素子を形成し、右側の部分2Rには水
平、垂直シフトレジスタ、アドレスレジスタ、各種の選
択スイッチ、ビデオラインに接続された負荷抵抗、コン
デンサ、アンプ等を構成する信号処理回路素子を形成す
る。この信号処理回路素子を形成した部分2Rの上には
遮光膜または遮光板8が設けられており、透明ガラスキ
ャップ4を経て照射される光によって半導体内に発生す
る電子−正孔対に起因する微少電流による悪影響が信号
処理回路に及ぶことを防いでいるg光検出半導体素子と
信号処理回路素子との間での信号の授受は半・導体領域
または導体パターンを介して行ない、信号処理半導体領
域からの出力信号や外部回路からの制御信号等の授受は
、リード5、セラミック基板1に設けられたボンディン
グパット6および導線7を介して行なわれている。この
ような構成の固体撮像装置では光検出半導体素子と信号
処理回路素子とを単一の半導体チップ1内に形成できる
ので、これらを別々の半導体チップに形成する場合に比
べて小形とすることができるが、内視鏡の先端に内蔵す
ることができる程小形ではない。また、信号処理回路内
の増幅回路等で発生する熱が光検出半導体素子に伝達さ
れ、暗電流が増大し、また光検出領域に入射した光によ
って発生したキャリヤ電荷が増幅回路やその周辺回路に
拡散し誤動作あ原因となる。さらに大きな問題点として
光検出半導体素子と信号処理回路素子とを単一の半導体
チップ上に構成するので、特性およびチップ製造ブ彎セ
スの合わせ込みの困難さに起因するコストアップが生ず
る0 技術的背景 上述したような問題を解決するために、本願人は特願昭
58−46967号において第2図に示すようなバンク
接合と呼ばれる実装方法を提案している。第2図におい
て、光検出半導体素子は上側の半導体チップ11に形成
し、信号処理回路素子は下側の半導体チップ12に形成
し、これらチップは絶縁性のホルダ18と一体に形成し
た隔壁】4により離間されて支持されている。光検出半
導体素子と信号処理回路素子との間の信号の授受を行な
うために半導体チップ11および12の表面に形成した
接点パッド15および16を導線17および18を介し
てホルダ13の表裏に設けた接点パッド19および20
にそれぞれ接続し、さらにこれらの接点パッド19と2
0との間をホルダ18の側面を延在するリード21によ
り接続している。さらに固体撮像装置を外部回路に接続
するためのリード22をホルダ18から延在させている
。実際の固体撮像装置においては、第2図に示す全体を
さらにパッケージに収納しているが、・第2図ではパッ
ケージは図示していない。
半導体チップ12とは別体となっていると共に隔壁14
を挟んで上下に重ねられているため入射光側から見た面
積は第1図に示した従来の固体撮像装置に比べて小さく
なっていると共に熱の影響やキャリヤ電荷の拡散の問題
は解消されているが、そのままでは内視鏡先端に組込む
ことは実際上不可能である。すなわち、内視鏡の径は非
常に小さく、固体撮像装置を組込むだけの十分なスペー
スが得られない。例えば体腔内観察用の内視鏡では上述
したライトガイドの他に標本を採取するための鉗子およ
びこれを操作するためのワイヤが挿通されるようになっ
ていると共に対物レンズ系の先頭レンズを洗浄するため
の送水チューブや、先頭レンズに付着した洗浄水を吹き
飛ばしたり体腔を膨らませたりする送気チューブなども
挿通されており、固体撮像装置を内蔵するために利用で
きるスペースは非常に狭くなっている。したがって高・
解像度の固体撮像装置を内視鏡先端のように極めて狭い
空間に組込むためには固体撮像素子自体の構成を改良す
る必要があるが、光検出半導体チップと信号処理半導体
チップとの結合と配置、両生導体チップ間の信号ライン
の結合、パッケージの方法、リードの導出方法など種々
の困難な問題を解決しなければならない。
を挟んで上下に重ねられているため入射光側から見た面
積は第1図に示した従来の固体撮像装置に比べて小さく
なっていると共に熱の影響やキャリヤ電荷の拡散の問題
は解消されているが、そのままでは内視鏡先端に組込む
ことは実際上不可能である。すなわち、内視鏡の径は非
常に小さく、固体撮像装置を組込むだけの十分なスペー
スが得られない。例えば体腔内観察用の内視鏡では上述
したライトガイドの他に標本を採取するための鉗子およ
びこれを操作するためのワイヤが挿通されるようになっ
ていると共に対物レンズ系の先頭レンズを洗浄するため
の送水チューブや、先頭レンズに付着した洗浄水を吹き
飛ばしたり体腔を膨らませたりする送気チューブなども
挿通されており、固体撮像装置を内蔵するために利用で
きるスペースは非常に狭くなっている。したがって高・
解像度の固体撮像装置を内視鏡先端のように極めて狭い
空間に組込むためには固体撮像素子自体の構成を改良す
る必要があるが、光検出半導体チップと信号処理半導体
チップとの結合と配置、両生導体チップ間の信号ライン
の結合、パッケージの方法、リードの導出方法など種々
の困難な問題を解決しなければならない。
発明の目的
本発明の目的は、上述した従来の欠点を除去し、小形に
構成することができしかも実装密度を向上して解像度を
上げることができ、きわめて小径の内視鏡先端にも組込
むことができ、特に内視鏡先端に組込むのに好適な固体
撮像装置を提供しようとするものである。
構成することができしかも実装密度を向上して解像度を
上げることができ、きわめて小径の内視鏡先端にも組込
むことができ、特に内視鏡先端に組込むのに好適な固体
撮像装置を提供しようとするものである。
発明の概要
本発明による固体撮像装置は、光検出半導体素子および
信号処理回路素子を形成した少なく共1個の半導体チッ
プの、入射光側より見た裏側に、固体撮像装置を外部回
部に接続するためのリードを設け、前記光検出半導体素
子および信号処理回路素子とリードとの間の接続を半導
体チップの表面から裏面まで延在する導体領域によって
行なうよう構成したことを特徴とするものである。
信号処理回路素子を形成した少なく共1個の半導体チッ
プの、入射光側より見た裏側に、固体撮像装置を外部回
部に接続するためのリードを設け、前記光検出半導体素
子および信号処理回路素子とリードとの間の接続を半導
体チップの表面から裏面まで延在する導体領域によって
行なうよう構成したことを特徴とするものである。
遣in
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第8図は本発明の固体撮像装置の一実施例の構成を示す
縮図的断面図である。本例では単一の半導体チップa1
に光検出半導体領域81aと、信号処理半導体領域81
bとを構成し、光検出半導体領域31aにはCOD、B
BD等の電荷結合半導体素子、MOS )ランジスタア
レイ、ピンフォトダイオードアレイ、フォトトランジス
タアレイ静電誘導トランジスタアレイなどの半導体撮像
素子を形成すると共に表面には絶縁膜を介してモザイク
状色フィルタ膜を形成するが、これら素子の各領域や、
絶縁膜、色フィルタ膜などの図示は省略する。また、信
号処理半導体領域81bには水平、垂直シフトレジスタ
、増幅回路、スイッチなどを構成する半導体素子や負荷
抵抗、コンデンサなどの受動回路素子を形成するが、こ
れらの図示は省略した。また、信号処理半導体領域81
bの表面上には絶縁膜を介して遮光膜82を形成し、信
号処理半導体領域31bに不所望な光が入射して悪影響
を及ぼすのを防止する。本発明においては固体撮像装置
と外部回路との間で信号の授受を行なうためのリード3
3を固体撮像装置の裏側に設けるが、本例ではこのため
に、半導体チップ3】1の表面から裏面まで貫通する低
抵抗の導体領域34を半導体チップ31に形成する。こ
の導体領域34は、例えば半導体チップa1をn形とす
るときはP形不純物を多量に添加したP形熱拡散領域を
以って形成することができる。この導体領域34のt半
導体チップ3】の表面に達する部分は導体パターン35
を介して、光検出半導体領域31aおよび信号処理半導
体領域、91bの表面に形成される所定の領域36に接
続する。まだ、導体領域84の、半導値チップ31の裏
面に露出する部分には接点領域37を形成し、この接点
領域にリード83・をボンディングする。また、光検出
半導体領域31aと信号処理半導体領域31bとの間で
信号の授受を行なうために、これら領域の表面に形成さ
れた領域88の間を導体パターン39により接続する。
縮図的断面図である。本例では単一の半導体チップa1
に光検出半導体領域81aと、信号処理半導体領域81
bとを構成し、光検出半導体領域31aにはCOD、B
BD等の電荷結合半導体素子、MOS )ランジスタア
レイ、ピンフォトダイオードアレイ、フォトトランジス
タアレイ静電誘導トランジスタアレイなどの半導体撮像
素子を形成すると共に表面には絶縁膜を介してモザイク
状色フィルタ膜を形成するが、これら素子の各領域や、
絶縁膜、色フィルタ膜などの図示は省略する。また、信
号処理半導体領域81bには水平、垂直シフトレジスタ
、増幅回路、スイッチなどを構成する半導体素子や負荷
抵抗、コンデンサなどの受動回路素子を形成するが、こ
れらの図示は省略した。また、信号処理半導体領域81
bの表面上には絶縁膜を介して遮光膜82を形成し、信
号処理半導体領域31bに不所望な光が入射して悪影響
を及ぼすのを防止する。本発明においては固体撮像装置
と外部回路との間で信号の授受を行なうためのリード3
3を固体撮像装置の裏側に設けるが、本例ではこのため
に、半導体チップ3】1の表面から裏面まで貫通する低
抵抗の導体領域34を半導体チップ31に形成する。こ
の導体領域34は、例えば半導体チップa1をn形とす
るときはP形不純物を多量に添加したP形熱拡散領域を
以って形成することができる。この導体領域34のt半
導体チップ3】の表面に達する部分は導体パターン35
を介して、光検出半導体領域31aおよび信号処理半導
体領域、91bの表面に形成される所定の領域36に接
続する。まだ、導体領域84の、半導値チップ31の裏
面に露出する部分には接点領域37を形成し、この接点
領域にリード83・をボンディングする。また、光検出
半導体領域31aと信号処理半導体領域31bとの間で
信号の授受を行なうために、これら領域の表面に形成さ
れた領域88の間を導体パターン39により接続する。
本例ではリード88を半導体チップ81の裏面に接続す
ると共に光検出半導体領域81aおよび信号処理半導体
領域81bとリード83との間の接続を半導体チップ8
1の表面がら裏面まで貫通する導体領域34を介して行
なうため、固体撮像装置の入射光側から見た横方向寸法
Wを小さくすることができる。また半導体チップ81の
裏面全体をリード83の接続に利用することができるの
で多数のリードを容易に接続することができるO 第4図A−0は半導体チップ8】の表面から裏面まで貫
通する導体領域84の形成方法の一例の順次の工程を示
す線図である。先ず第41i1Aに示すようにn形シリ
コン基板41の表裏に所定の位置に開口42aを有する
マスク42を介してP形不純物を多量に熱拡散させP
拡散領域43を形成1する。次に第4[ff1Bに示す
ように基板41の表面にn−形エピタキシャル層44を
成長させた後、表面に開口45aを有するマスク45を
形成してP形不純物を多量に熱拡散させると共にP形拡
赦領域43からもP形不純物を熱拡散させ、第4図C+ に示すようにP 形拡散領域48と接触するP 形拡散
領M46を形成する。このようにして半導体チップ(4
]、44)の表面から裏面まで貫通する導体領域(48
,46)を形成することができる。
ると共に光検出半導体領域81aおよび信号処理半導体
領域81bとリード83との間の接続を半導体チップ8
1の表面がら裏面まで貫通する導体領域34を介して行
なうため、固体撮像装置の入射光側から見た横方向寸法
Wを小さくすることができる。また半導体チップ81の
裏面全体をリード83の接続に利用することができるの
で多数のリードを容易に接続することができるO 第4図A−0は半導体チップ8】の表面から裏面まで貫
通する導体領域84の形成方法の一例の順次の工程を示
す線図である。先ず第41i1Aに示すようにn形シリ
コン基板41の表裏に所定の位置に開口42aを有する
マスク42を介してP形不純物を多量に熱拡散させP
拡散領域43を形成1する。次に第4[ff1Bに示す
ように基板41の表面にn−形エピタキシャル層44を
成長させた後、表面に開口45aを有するマスク45を
形成してP形不純物を多量に熱拡散させると共にP形拡
赦領域43からもP形不純物を熱拡散させ、第4図C+ に示すようにP 形拡散領域48と接触するP 形拡散
領M46を形成する。このようにして半導体チップ(4
]、44)の表面から裏面まで貫通する導体領域(48
,46)を形成することができる。
第5図は本発明の固体撮像装置の他の実施例を示すもの
であり、本例では半導体チップにリードを直接接続する
のではなく、リードを取付は基板に取付け、この基板を
半導体チップの裏面に接合する。すなわち、本例ではリ
ード51を、その先端が絶縁材料より成るリード取付は
基板52を貫通するように取付け、この基板52を半導
体チップ31の裏面に固着する。半導体チップ31には
その表面から裏面へ貫通する導体領域84を設けこの導
体領域の、半導体チップ裏面に露出する部分にリード5
】の先端を当接して電気的に接続する。この場合、リー
ド5】の寸法は導体領域a4の径よりも相当大きくなる
ので(図面では説明の便宜上これらの寸法はほぼ等しく
描いである)、導体領域84に接続した接点パッド53
を形成し、この接点パッドにリード51の先端を接続す
るように・する。本例のようにリードを取付は基板に取
付け、この基板を半導体チップ裏面に取付けることによ
りリードと導体領域との接続を行なうようにすると、リ
ードの機械的強度が増大すると共にリードの電気的接続
を容易とすることができる。
であり、本例では半導体チップにリードを直接接続する
のではなく、リードを取付は基板に取付け、この基板を
半導体チップの裏面に接合する。すなわち、本例ではリ
ード51を、その先端が絶縁材料より成るリード取付は
基板52を貫通するように取付け、この基板52を半導
体チップ31の裏面に固着する。半導体チップ31には
その表面から裏面へ貫通する導体領域84を設けこの導
体領域の、半導体チップ裏面に露出する部分にリード5
】の先端を当接して電気的に接続する。この場合、リー
ド5】の寸法は導体領域a4の径よりも相当大きくなる
ので(図面では説明の便宜上これらの寸法はほぼ等しく
描いである)、導体領域84に接続した接点パッド53
を形成し、この接点パッドにリード51の先端を接続す
るように・する。本例のようにリードを取付は基板に取
付け、この基板を半導体チップ裏面に取付けることによ
りリードと導体領域との接続を行なうようにすると、リ
ードの機械的強度が増大すると共にリードの電気的接続
を容易とすることができる。
第6図は本発明の固体撮像装置の他の例を分解して示す
線図である。本例では光検出半導体素子を形成した半導
体チップ6Iと、信号処理回路素子を形成した半導体チ
ップ62とを前後に重ね合わせて配置し、リード68は
半導体チップ62の裏面に取付ける。半導体チップ61
の領域6]aの外部には多数の導体領域64を表面から
裏面まで貫通するように設け、これらを導体65を介し
・て領域61a内に形成した所定の領域66に接続する
。半導体チップ62の領域62aの外側にも多数の導体
領域67を形成し、所定の導体領域の下端にはり一ド6
3をボンディングする。また上端は導体68を経て領域
62a内に形成した所定の領[69に接続する。第6図
において左側に示す導体領域67は信号処理回路に接続
されておらず、半導体チップ61に形成した導体領域6
4に直接接続されている。また、半導体チップ61に形
成した導体領域64の総てに対応して半導体チップ62
に導体領域67を形成する必要はなく、単に領域61a
内の領域を領域62a内の所定の領域に導体領域64を
介して接続するだけの場合には半導体チップには対応す
る導体領域を設けなくてよい。本例では光検出半導体領
域を形成した半導体チップ61と信号処理回路を形成し
た半導体チップ62とを別個に構成したため、回路の緒
特性と半導体チップ製造プロセスの合わせ込みが不要と
なり、熱やキャリア電荷による悪影響も除去できると共
にリードを裏側に設けたため光入射・方向から見た横方
向寸法を小さくすることができ、しかも実装密度を向上
することができる。
線図である。本例では光検出半導体素子を形成した半導
体チップ6Iと、信号処理回路素子を形成した半導体チ
ップ62とを前後に重ね合わせて配置し、リード68は
半導体チップ62の裏面に取付ける。半導体チップ61
の領域6]aの外部には多数の導体領域64を表面から
裏面まで貫通するように設け、これらを導体65を介し
・て領域61a内に形成した所定の領域66に接続する
。半導体チップ62の領域62aの外側にも多数の導体
領域67を形成し、所定の導体領域の下端にはり一ド6
3をボンディングする。また上端は導体68を経て領域
62a内に形成した所定の領[69に接続する。第6図
において左側に示す導体領域67は信号処理回路に接続
されておらず、半導体チップ61に形成した導体領域6
4に直接接続されている。また、半導体チップ61に形
成した導体領域64の総てに対応して半導体チップ62
に導体領域67を形成する必要はなく、単に領域61a
内の領域を領域62a内の所定の領域に導体領域64を
介して接続するだけの場合には半導体チップには対応す
る導体領域を設けなくてよい。本例では光検出半導体領
域を形成した半導体チップ61と信号処理回路を形成し
た半導体チップ62とを別個に構成したため、回路の緒
特性と半導体チップ製造プロセスの合わせ込みが不要と
なり、熱やキャリア電荷による悪影響も除去できると共
にリードを裏側に設けたため光入射・方向から見た横方
向寸法を小さくすることができ、しかも実装密度を向上
することができる。
第7図AおよびBは半導体チッ°プの表面がら裏面まで
延在する導体領域を形成する方法の他の例の順次の工程
を示す線図である。第7図Aに示すようにn形のシリコ
ン基体71の表面に所定の開ロア2aをあけたマスク7
2を被着し、P形不純+ 物を多量に熱拡散させてP 形拡散領域73を形成する
。このP 形拡散領域は表面から裏面に達するまで熱拡
散を行なうので横方向寸法が大きくなりそのままでは固
体撮像装置の寸法を小さくするのに余り貢献しない。そ
こで本例では第7図Aの鎖1v−vで示すようにシリコ
ン基体71を切断する。これによって第7図Bに示すよ
うに側面において表面から裏面まで延在するP形拡散領
域74を有するシリコン基体が得られる。このP 形拡
散領域74の横方向寸法は10ミクロン程度とすること
ができる。このようにしてシリコン基体71の表面から
裏面まで延在する導体領域(74)を形成することがで
きる。
延在する導体領域を形成する方法の他の例の順次の工程
を示す線図である。第7図Aに示すようにn形のシリコ
ン基体71の表面に所定の開ロア2aをあけたマスク7
2を被着し、P形不純+ 物を多量に熱拡散させてP 形拡散領域73を形成する
。このP 形拡散領域は表面から裏面に達するまで熱拡
散を行なうので横方向寸法が大きくなりそのままでは固
体撮像装置の寸法を小さくするのに余り貢献しない。そ
こで本例では第7図Aの鎖1v−vで示すようにシリコ
ン基体71を切断する。これによって第7図Bに示すよ
うに側面において表面から裏面まで延在するP形拡散領
域74を有するシリコン基体が得られる。このP 形拡
散領域74の横方向寸法は10ミクロン程度とすること
ができる。このようにしてシリコン基体71の表面から
裏面まで延在する導体領域(74)を形成することがで
きる。
第8図は上述した本発明の固体撮像装置を先端に内蔵し
た内視鏡の一例の構成を示す断面図である。本例の内視
碗は直視形の体腔内観察用のものであり、被検体内部に
挿入される可撓性外筒81の先端に、例えばステンレス
スチールより成る先端本体82を嵌着する。この先端本
体82には数個のチャンネル82 a、 82 b、
82 c・・・を形成する。ライトガイドチャンネル8
2aにはオプチカルファイバ束より成るライトガイド8
3を挿入し、先端には凹レンズ84を嵌合する。ライト
ガイド83はカバーチューブ85により被覆し、外筒8
1の内部を延在させ、操作部へ導き、照明光源に結合す
る。対物観察チャンネル82b内部には先端に対物レン
ズ系86を嵌合すると共に内部に固体撮像装置87を嵌
合する。本例の固体撮像袋M87は第6図に示した構成
のものであり、2つの半導体チップを上下に重ねたもの
である。後側の半導体チップの裏面に取付けたリード8
8には導線束89を接続し、この導線束89は可撓性チ
ューブ90を経て外筒内部を延在させて操作部へ導き、
信号処理回路に接続する。送気チャンネル820には送
気チューブ91を連結すると共に先端には送気ノズル9
2を取付け、対物レンズ系86の先頭レンズに向は送気
できるようにする。
た内視鏡の一例の構成を示す断面図である。本例の内視
碗は直視形の体腔内観察用のものであり、被検体内部に
挿入される可撓性外筒81の先端に、例えばステンレス
スチールより成る先端本体82を嵌着する。この先端本
体82には数個のチャンネル82 a、 82 b、
82 c・・・を形成する。ライトガイドチャンネル8
2aにはオプチカルファイバ束より成るライトガイド8
3を挿入し、先端には凹レンズ84を嵌合する。ライト
ガイド83はカバーチューブ85により被覆し、外筒8
1の内部を延在させ、操作部へ導き、照明光源に結合す
る。対物観察チャンネル82b内部には先端に対物レン
ズ系86を嵌合すると共に内部に固体撮像装置87を嵌
合する。本例の固体撮像袋M87は第6図に示した構成
のものであり、2つの半導体チップを上下に重ねたもの
である。後側の半導体チップの裏面に取付けたリード8
8には導線束89を接続し、この導線束89は可撓性チ
ューブ90を経て外筒内部を延在させて操作部へ導き、
信号処理回路に接続する。送気チャンネル820には送
気チューブ91を連結すると共に先端には送気ノズル9
2を取付け、対物レンズ系86の先頭レンズに向は送気
できるようにする。
送水チャンネルには送水チューブを連結すると共に先端
には送水ノズルを設け、対物レンズ系86の先頭レンズ
に送水して汚物等を洗い流すことができるようにするが
、第8図では送水チューブや送水ノズルは図示していな
い。また、送気ノズル92は先頭レンズに付着した洗浄
水を吹き飛ばすと共に必要に応じて被検体内部に送気し
てこれを膨ませることができるようにする。先端本体8
2にはさらに鉗子チャンネルを形成し、ここには鉗子お
よびこの鉗子を外部より操作するためのワイヤを挿通で
きるようにする。先端本体82の外周面にはねじ溝を形
成し、ここに先端フード98を螺合する。
には送水ノズルを設け、対物レンズ系86の先頭レンズ
に送水して汚物等を洗い流すことができるようにするが
、第8図では送水チューブや送水ノズルは図示していな
い。また、送気ノズル92は先頭レンズに付着した洗浄
水を吹き飛ばすと共に必要に応じて被検体内部に送気し
てこれを膨ませることができるようにする。先端本体8
2にはさらに鉗子チャンネルを形成し、ここには鉗子お
よびこの鉗子を外部より操作するためのワイヤを挿通で
きるようにする。先端本体82の外周面にはねじ溝を形
成し、ここに先端フード98を螺合する。
本発明は上述した実施例にのみ限定されるものではなく
、幾多の変形例が可能である。例えば第6図に示した実
施例では半導体チップの裏面に直接リードを接続するよ
うにしたが、第5図に示すようにリードを取付は基板に
固着し、この取付は基板を半導体チップ裏面に固着する
こともできる。
、幾多の変形例が可能である。例えば第6図に示した実
施例では半導体チップの裏面に直接リードを接続するよ
うにしたが、第5図に示すようにリードを取付は基板に
固着し、この取付は基板を半導体チップ裏面に固着する
こともできる。
また、半導体チップの表面から裏面まで延在する導体領
域は上述した方法以外の方法で作ることもできる。例え
ば第4図Cに示した状態からさらにP 形拡教領域の部
分を第7図Aに示すように切断することもでき、この場
合には固体撮像装置の寸法をさらに小さくすることがで
きる。さらに本発明の固体撮像装置は第8図に示した直
視形の内視鏡だけでなく、側視形の内視鏡にも組込むこ
とができることは勿論である。更に、上述した内視鏡で
は光源からの光をライトガイドを経て外筒先端から射出
させるようにしたが、ライトガイドを用いることなく、
ランプや発光ダイオード等の光源を外筒先端部に設けて
被検体を照明するよう構成することもできる。この場合
、赤、青、緑の8色の発光ダイオードを用い、これらを
順次に発光させるようにすることもでき、この場合には
固体撮像装置の受光面に設けたカラーフィルタは不要ト
なる。また、本発明の固体撮像装置は内視鏡以外の撮像
機器に組込むこともできる◇さらに、上述、した例では
光検出半導体素子と信号処理回路素子とを接続する導体
領域を熱拡散法によって半導体チップに形成したが、こ
れに限定されるものではない。熱拡散法は拡散方向に対
して横方向の広がりを生じたり、いがなる不純物にも適
用できるものではなく、拡散制御が難しい面がある。そ
こで、シリコン基板表面にエピタキシャル層を成長させ
た後に、この表面に5inB等の酸化膜を被着し、ホ1
゜トリソゲラフイエ程でP 影領域を形成すべき面のS
io2膜ヲエッチングして除去した後、或ハSin。
域は上述した方法以外の方法で作ることもできる。例え
ば第4図Cに示した状態からさらにP 形拡教領域の部
分を第7図Aに示すように切断することもでき、この場
合には固体撮像装置の寸法をさらに小さくすることがで
きる。さらに本発明の固体撮像装置は第8図に示した直
視形の内視鏡だけでなく、側視形の内視鏡にも組込むこ
とができることは勿論である。更に、上述した内視鏡で
は光源からの光をライトガイドを経て外筒先端から射出
させるようにしたが、ライトガイドを用いることなく、
ランプや発光ダイオード等の光源を外筒先端部に設けて
被検体を照明するよう構成することもできる。この場合
、赤、青、緑の8色の発光ダイオードを用い、これらを
順次に発光させるようにすることもでき、この場合には
固体撮像装置の受光面に設けたカラーフィルタは不要ト
なる。また、本発明の固体撮像装置は内視鏡以外の撮像
機器に組込むこともできる◇さらに、上述、した例では
光検出半導体素子と信号処理回路素子とを接続する導体
領域を熱拡散法によって半導体チップに形成したが、こ
れに限定されるものではない。熱拡散法は拡散方向に対
して横方向の広がりを生じたり、いがなる不純物にも適
用できるものではなく、拡散制御が難しい面がある。そ
こで、シリコン基板表面にエピタキシャル層を成長させ
た後に、この表面に5inB等の酸化膜を被着し、ホ1
゜トリソゲラフイエ程でP 影領域を形成すべき面のS
io2膜ヲエッチングして除去した後、或ハSin。
膜を介して直接にP イオンインプランテーションによ
りイオン打込みを行なってP影領域を形成することもで
きる。このようなイオンインプランテーションを行なう
ことにより、きわめて正確にP影領域の制御ができると
共に多量の不純物を均一に打込むことができるので半導
体チップに対する導体領域の占有割合を少なくすること
ができると共°に一層確実な導体領域の形成が可能とな
る。
りイオン打込みを行なってP影領域を形成することもで
きる。このようなイオンインプランテーションを行なう
ことにより、きわめて正確にP影領域の制御ができると
共に多量の不純物を均一に打込むことができるので半導
体チップに対する導体領域の占有割合を少なくすること
ができると共°に一層確実な導体領域の形成が可能とな
る。
発明の効果
本発明の固体撮像装置によれば、これと外部回路との間
で信号の授受を行なうためのリードを半導体チップの裏
側に取付けたため、入射光の方向から見た横方向の寸法
を受光面の寸法とほぼ同程度まで小さくすることができ
、小径の内視鏡先端内部に有効に組み込むことができる
。また、固体撮像装置の回路素子とリードとの間の接続
を半導体チップの表面から裏面まで延在する半導体領域
より成る導体領域によって行なうことができるので、安
定した接続状態が得られると共に上述した寸法の減少に
大きく寄与することになり、さらには製造も容易となる
。
で信号の授受を行なうためのリードを半導体チップの裏
側に取付けたため、入射光の方向から見た横方向の寸法
を受光面の寸法とほぼ同程度まで小さくすることができ
、小径の内視鏡先端内部に有効に組み込むことができる
。また、固体撮像装置の回路素子とリードとの間の接続
を半導体チップの表面から裏面まで延在する半導体領域
より成る導体領域によって行なうことができるので、安
定した接続状態が得られると共に上述した寸法の減少に
大きく寄与することになり、さらには製造も容易となる
。
第1図は従来の固体撮像装置の構成を示す断面図、
第2図は本軸人が先に提案したバック接合形固体撮像装
置の構成を示す断面図、 第8図は本発明の固体撮像装置の一例の構成を第4図A
−0は導体領域を形成する方法の一例の順次の工程を示
す断面図、 第5図は本発明の固体撮像装置の他の例の構成を示す線
図的断面図、 第6図は同じく本発明の固体撮像装置のさらに他の例の
構成を分解した状態で示す線図、第7図AおよびBは導
体領域を形成する他の方法の順次の工程を示す断面図、 第8図は本発明の固体撮像装置を先端内部に組込んだ内
視鏡の一例の構成を示す断面図である。 31・・・半導体チップ 83・・・リード84・・・
導体領域 85,119・・・導体51・・・リード
52・・・リード取付は基板6]、62・・・半導体チ
ップ 68・・・リード 64,6?・・・導体領域65.6
8・・・導体 87・・・固体撮像装置88・・・IJ
−1’ 139・・・導線束第1図 第2図 ・第3図 3 第5図 第6図 第7図 3 第8図
置の構成を示す断面図、 第8図は本発明の固体撮像装置の一例の構成を第4図A
−0は導体領域を形成する方法の一例の順次の工程を示
す断面図、 第5図は本発明の固体撮像装置の他の例の構成を示す線
図的断面図、 第6図は同じく本発明の固体撮像装置のさらに他の例の
構成を分解した状態で示す線図、第7図AおよびBは導
体領域を形成する他の方法の順次の工程を示す断面図、 第8図は本発明の固体撮像装置を先端内部に組込んだ内
視鏡の一例の構成を示す断面図である。 31・・・半導体チップ 83・・・リード84・・・
導体領域 85,119・・・導体51・・・リード
52・・・リード取付は基板6]、62・・・半導体チ
ップ 68・・・リード 64,6?・・・導体領域65.6
8・・・導体 87・・・固体撮像装置88・・・IJ
−1’ 139・・・導線束第1図 第2図 ・第3図 3 第5図 第6図 第7図 3 第8図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 光検出半導体素子および信号処理回路素子を形成し
た少なく共1個の半導体チップの、入射光側より見た裏
側に、固体撮像装置を外部回路に接続するためのリード
を設け、前記光検出半導体素子および信号処理回路素子
とリードとの間の接続を半導体チップの表面から裏面ま
で延在する事導体領域によって行なうよう構成したこと
を特徴とする固体撮像装置。 λ 前記光検出半導体素子および信号処理回路素子をそ
れぞれ別個の半導体チップに形−成し、これら半導体チ
ップを入射光の方向に見て前後に重ねて配置し、両生導
体チップに表面から裏面まで延在する導体領域を形成し
、これら導体領域によって光検出半導体素子と信号処理
回路素子との相互接続番付なうと共に信号処理回路素子
を形成した半導体チップの裏側に設けたリードとの相互
接続を行なうよう構成したことを特徴とする特許請求の
範囲1記載の固体撮像装置。 & 前記半導体チップの裏面において導体領域にリード
を直接接続したことを特徴とする特許請求の範囲1記載
の固体撮像装置。 瓜 前記リードを取付は基板を貫通するように設け、こ
の取付は基板を半導体チップの裏面に取付けることによ
ってリードを導体領域と接続するよう構成したことを特
徴とする特許 ′請求の範囲1記載の固体撮像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182870A JPS6074879A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 固体撮像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58182870A JPS6074879A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 固体撮像装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6074879A true JPS6074879A (ja) | 1985-04-27 |
Family
ID=16125870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58182870A Pending JPS6074879A (ja) | 1983-09-30 | 1983-09-30 | 固体撮像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6074879A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6210989A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-19 | Canon Inc | 撮像装置 |
| JPS63313970A (ja) * | 1987-01-20 | 1988-12-22 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置 |
| WO1996038980A1 (en) * | 1995-05-31 | 1996-12-05 | Sony Corporation | Image pickup device, method of manufacturing the device, image pickup adapter, signal processor, signal processing method, information processor, and information processing method |
| WO2006080359A1 (ja) * | 2005-01-26 | 2006-08-03 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 撮像装置 |
| JP2007013142A (ja) * | 2005-06-29 | 2007-01-18 | General Electric Co <Ge> | 電気的に隔離されたピクセルを備えた検出器 |
| WO2017072862A1 (ja) * | 2015-10-27 | 2017-05-04 | オリンパス株式会社 | 撮像ユニットおよび内視鏡 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5492283A (en) * | 1977-12-19 | 1979-07-21 | Texas Instruments Inc | Ferroelectric video display device |
| JPS5771174A (en) * | 1980-10-22 | 1982-05-01 | Fujitsu Ltd | Solid state image pick-up device |
| JPS58143676A (ja) * | 1982-02-20 | 1983-08-26 | Ricoh Co Ltd | 撮像装置用メモリ |
-
1983
- 1983-09-30 JP JP58182870A patent/JPS6074879A/ja active Pending
Patent Citations (3)
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Cited By (8)
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| US6122009A (en) * | 1995-05-31 | 2000-09-19 | Sony Corporation | Image pickup apparatus fabrication method thereof image pickup adaptor apparatus signal processing apparatus signal processing method thereof information processing apparatus and information processing method |
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| CN108366716A (zh) * | 2015-10-27 | 2018-08-03 | 奥林巴斯株式会社 | 摄像单元和内窥镜 |
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