JPS6076033U - 液相エピタキシヤル成長装置 - Google Patents
液相エピタキシヤル成長装置Info
- Publication number
- JPS6076033U JPS6076033U JP16709883U JP16709883U JPS6076033U JP S6076033 U JPS6076033 U JP S6076033U JP 16709883 U JP16709883 U JP 16709883U JP 16709883 U JP16709883 U JP 16709883U JP S6076033 U JPS6076033 U JP S6076033U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- board
- liquid phase
- epitaxial growth
- phase epitaxial
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図ａ、 ｂないし第４図は、本考案に係る液相エピ
タキシャル成長装置の一実施例を示すもので、第１図ａ
は基板ホルダおよびスライドボードの平面図、第１図す
は第１図ａの詳細図、第２図は、第１図すの■−■矢視
縦断面図相当図、第３図は第２図のスライドボードを摺
動させた図、第、 ４図は、第３図のＴＶ−ＩＶ矢視断
面図、第５図ａ。 ｂ、 ｃは支持具の他の態様を示すもので、第５図ａは
斜視図、第５図すは、これを取付けた状装置の第１図相
当図、第５１１ｃは第５図すの■−■矢視断面図である
。 １・・・・・・天井板を兼ねた基板ホルダ、１ａ・・・
・・・上面、１ｂ・・・・・・下面、２・・・・・・基
板、３・・・・・・凹部、４・・・・・・支持具、５・
・・・・・開口部、６・・・・・・融液、７・・・・・
・スライドボード、７ａ・・・・・・下面、８・・・・
・・融液保持孔、９・・・・・・切欠き、９ａ、９ｂ・
・・・・・端部、Ａ・・・・・・単段の装置。
タキシャル成長装置の一実施例を示すもので、第１図ａ
は基板ホルダおよびスライドボードの平面図、第１図す
は第１図ａの詳細図、第２図は、第１図すの■−■矢視
縦断面図相当図、第３図は第２図のスライドボードを摺
動させた図、第、 ４図は、第３図のＴＶ−ＩＶ矢視断
面図、第５図ａ。 ｂ、 ｃは支持具の他の態様を示すもので、第５図ａは
斜視図、第５図すは、これを取付けた状装置の第１図相
当図、第５１１ｃは第５図すの■−■矢視断面図である
。 １・・・・・・天井板を兼ねた基板ホルダ、１ａ・・・
・・・上面、１ｂ・・・・・・下面、２・・・・・・基
板、３・・・・・・凹部、４・・・・・・支持具、５・
・・・・・開口部、６・・・・・・融液、７・・・・・
・スライドボード、７ａ・・・・・・下面、８・・・・
・・融液保持孔、９・・・・・・切欠き、９ａ、９ｂ・
・・・・・端部、Ａ・・・・・・単段の装置。
Claims (1)
- 上面に基板を埋設する四部を有するほぼ長方形板状の基
板ホルダと天井板又は基板ホルダを兼ねた天井板とを、
基板ホルダの両側上部に断続的に開口部が形成されるよ
うに配設された支持具を間にして積み重ねたものを単段
又は複数段重積し、上記両側の支持具の間には、上記基
板ホルダの上面長手方向の摺動自在で、上記凹部と合致
する融液保持孔が穿設されたスライドボードが設けられ
、かつ上記基板ホルダおよびスライドボードの摺動面は
粗面の石英によって構成されていることを特徴とする液
相エピタキシャル成長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16709883U JPS6076033U (ja) | 1983-10-28 | 1983-10-28 | 液相エピタキシヤル成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16709883U JPS6076033U (ja) | 1983-10-28 | 1983-10-28 | 液相エピタキシヤル成長装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6076033U true JPS6076033U (ja) | 1985-05-28 |
Family
ID=30365663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16709883U Pending JPS6076033U (ja) | 1983-10-28 | 1983-10-28 | 液相エピタキシヤル成長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6076033U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50137382A (ja) * | 1974-04-19 | 1975-10-31 |
-
1983
- 1983-10-28 JP JP16709883U patent/JPS6076033U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50137382A (ja) * | 1974-04-19 | 1975-10-31 |
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