JPS6092823U - 液相エピタキシヤル成長装置 - Google Patents
液相エピタキシヤル成長装置Info
- Publication number
- JPS6092823U JPS6092823U JP1983183756U JP18375683U JPS6092823U JP S6092823 U JPS6092823 U JP S6092823U JP 1983183756 U JP1983183756 U JP 1983183756U JP 18375683 U JP18375683 U JP 18375683U JP S6092823 U JPS6092823 U JP S6092823U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid phase
- epitaxial growth
- phase epitaxial
- holding plate
- growth equipment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は、本考案に係る液相エピタキシャル成長装置の
半導体基板の斜視図であり、第２図は、基板保持板およ
び固定治具を組立てたときの概略断面図であり、第３図
は、第２図中のＡ部分の拡大断面図である。 １・・・・・・基板保持板、２・・・・・・凹所、３・
・・・・・半導体基板、４，５・・・・・・固定治具、
６，７・・・・・・溝、８・・・・・・端面。
半導体基板の斜視図であり、第２図は、基板保持板およ
び固定治具を組立てたときの概略断面図であり、第３図
は、第２図中のＡ部分の拡大断面図である。 １・・・・・・基板保持板、２・・・・・・凹所、３・
・・・・・半導体基板、４，５・・・・・・固定治具、
６，７・・・・・・溝、８・・・・・・端面。
Claims (1)
- 基板収容凹所を有する一枚の保持板と、該保持板の差込
み溝を有する２個の固定治具とを備え、前記差込み溝の
深さが、前記保持板の前記固定治具への装着時に、前記
固定治具の端面が前記基板収容凹所の一部を覆うように
なる深さであることを特徴とする閉管チッピング式の液
相エピタキシマル成長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983183756U JPS6092823U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 液相エピタキシヤル成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1983183756U JPS6092823U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 液相エピタキシヤル成長装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092823U true JPS6092823U (ja) | 1985-06-25 |
| JPH0246053Y2 JPH0246053Y2 (ja) | 1990-12-05 |
Family
ID=30397615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1983183756U Granted JPS6092823U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 液相エピタキシヤル成長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092823U (ja) |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP1983183756U patent/JPS6092823U/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0246053Y2 (ja) | 1990-12-05 |
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