JPS607605A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS607605A JPS607605A JP11289783A JP11289783A JPS607605A JP S607605 A JPS607605 A JP S607605A JP 11289783 A JP11289783 A JP 11289783A JP 11289783 A JP11289783 A JP 11289783A JP S607605 A JPS607605 A JP S607605A
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- JP
- Japan
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- magnetic layer
- elements
- implanted
- magnetic
- ions
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/21—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features the pole pieces being of ferrous sheet metal or other magnetic layers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、例えばテープレコーダだ用いる磁気ヘッドに
関する。
関する。
一般に磁性材料として具備すべき条件は、（１）高透磁
性であること、（２）低保持力であること、（３）エネ
ルギー損失が少ないこと、（４）高飽和値でちることな
どが要求される。これ等の要求を満たす磁性材料には高
透磁性材料としてパーマロイ合金（但し、鉄−ニッケル
系の高透磁率合金のＷｅｓｔｅｒｎＥｌｅｃｔｒｉｃ社
から市販された商品名）がある。
性であること、（２）低保持力であること、（３）エネ
ルギー損失が少ないこと、（４）高飽和値でちることな
どが要求される。これ等の要求を満たす磁性材料には高
透磁性材料としてパーマロイ合金（但し、鉄−ニッケル
系の高透磁率合金のＷｅｓｔｅｒｎＥｌｅｃｔｒｉｃ社
から市販された商品名）がある。
ところで磁気テープ等の磁気記録媒体に記録を行う場合
に用いる磁気ヘッドの製造材料にもノクーマロイ合金が
用いられている。しかし、鉄−ニッケル系合金は、焼鈍
状態でも比較的優秀な磁性を示すが耐摩耗性の点で問題
があった。また耐摩耗性を向上するため疋他元素を添加
した場合には不純物が多くなり充分な磁性改善を行うこ
とはできカかった。従って製造にあたって厳密な条件、
製造技術が要求され、コスト高になっていた。
に用いる磁気ヘッドの製造材料にもノクーマロイ合金が
用いられている。しかし、鉄−ニッケル系合金は、焼鈍
状態でも比較的優秀な磁性を示すが耐摩耗性の点で問題
があった。また耐摩耗性を向上するため疋他元素を添加
した場合には不純物が多くなり充分な磁性改善を行うこ
とはできカかった。従って製造にあたって厳密な条件、
製造技術が要求され、コスト高になっていた。
このような配慮から磁気ヘッドのテープ摺動面における
耐摩耗性をはかる手段として従来、例えば第１図乃至第
３図て示すように、高透磁率の鉄−二、２ケル系合金で
形成されたコア材１の上面又は下面の少なくとも片面に
例えばＡｔ２０３、ＳｉＯ２等の非酸化膜２を形成し、
このようにして形成したコア材１をラミネートしてコア
半体３を形成しこのコア半体３，３を前面中央に磁気ギ
ャップ４を介して接合することによって磁気へ、ド５を
製造していた。しかしながら上記のように製造した磁気
ヘッド５は耐摩耗性を発揮させるためて非酸化膜２をコ
ア材１に形成しているので、クロストーク特性が劣化し
、録音・再生の感度が、耐摩耗処理しないコア材に比べ
て低下する。また鉄−ニッケル系合金で形成されたコア
材１と非酸化膜２との硬度差が大きく、偏摩耗の原因と
なシ易かった。そのためにテープ等の磁気記録媒体に確
実て記録を行えない欠点があった。
耐摩耗性をはかる手段として従来、例えば第１図乃至第
３図て示すように、高透磁率の鉄−二、２ケル系合金で
形成されたコア材１の上面又は下面の少なくとも片面に
例えばＡｔ２０３、ＳｉＯ２等の非酸化膜２を形成し、
このようにして形成したコア材１をラミネートしてコア
半体３を形成しこのコア半体３，３を前面中央に磁気ギ
ャップ４を介して接合することによって磁気へ、ド５を
製造していた。しかしながら上記のように製造した磁気
ヘッド５は耐摩耗性を発揮させるためて非酸化膜２をコ
ア材１に形成しているので、クロストーク特性が劣化し
、録音・再生の感度が、耐摩耗処理しないコア材に比べ
て低下する。また鉄−ニッケル系合金で形成されたコア
材１と非酸化膜２との硬度差が大きく、偏摩耗の原因と
なシ易かった。そのためにテープ等の磁気記録媒体に確
実て記録を行えない欠点があった。
この発明は上述の如き点に鑑みてなさ名、たものであり
その目的とするところはパーマロイ合金例で形成され、
磁気特性に優れ、また耐摩耗性を向上してクロストーク
特性の劣化がなく、録音感度、再生感度を向上はせた磁
性層を有する磁気ヘッドを提供するの疋ある。
その目的とするところはパーマロイ合金例で形成され、
磁気特性に優れ、また耐摩耗性を向上してクロストーク
特性の劣化がなく、録音感度、再生感度を向上はせた磁
性層を有する磁気ヘッドを提供するの疋ある。
以下本発明を図面を参照１−ながら説明する。
先ずこの発明の概要は、鉄−ニッケル系合金で形成され
たコア材１の上面又は下面の少なくとも片面、図面では
下面にイオン注入法により、不対電子を有する遷移元素
、まだは不対電子を有するか又は有することがある金属
元素、半導体元素を注入した後に、数十分から数時間、
加熱処理させて耐摩耗性の磁性層２′を形成する。この
際、イオン注入を行うイオンの加速電圧を変化させるこ
とによってコア材１内へのイオンの注入量を加減して濃
度分布を容易且つ確実に制御して前記磁性層２′の硬度
、磁気特性、偏摩耗特性等を自由に設定することができ
る。前記遷移元素としては、Ｔｉ。
たコア材１の上面又は下面の少なくとも片面、図面では
下面にイオン注入法により、不対電子を有する遷移元素
、まだは不対電子を有するか又は有することがある金属
元素、半導体元素を注入した後に、数十分から数時間、
加熱処理させて耐摩耗性の磁性層２′を形成する。この
際、イオン注入を行うイオンの加速電圧を変化させるこ
とによってコア材１内へのイオンの注入量を加減して濃
度分布を容易且つ確実に制御して前記磁性層２′の硬度
、磁気特性、偏摩耗特性等を自由に設定することができ
る。前記遷移元素としては、Ｔｉ。
Ｖ、、 Ｏｒ、 Ｍｎ、 Ｆｅ、、Ｇｏ、Ｎ１、Ｚｒ、
Ｎｂ、 Ｍｏカ挙げられ、また前記金属元素としては
Ａｔ、 Ｚｎ、 Ｇａ、。
Ｎｂ、 Ｍｏカ挙げられ、また前記金属元素としては
Ａｔ、 Ｚｎ、 Ｇａ、。
Ｓｎ、 Ｐｂが挙げられ、さらに半導体元素としてはＢ
、 ０、Ｓ工、ＰＸＧθ、人Ｓ がある。
、 ０、Ｓ工、ＰＸＧθ、人Ｓ がある。
以下本発明の詳細を順次、実施例につき説明する。
実施例１゜
Ｆｅ ： Ｎｉの組成比が（１：４重量部）の鉄−ニッ
ケル系合金を用いて形成されたコア月１の下面にイオン
注入法により、遷移元素ので１イオンを加速電圧２０〜
５００ ＫＶで加速することにより約Ｉ Ｘ １０”（
個、４が）はどイオン注入し、その後、水素性雰囲気下
で２５０〜３５０℃の温度範囲でほぼ１時間はど加熱し
て約４μの膜厚の磁性層２′を形成した。この場合、Ｔ
ｉイオンの加速電圧を変化することによってコア材１内
へのイオンの注入量を加減し、Ｔｉイオンの濃度を制御
して均一に注入する。
ケル系合金を用いて形成されたコア月１の下面にイオン
注入法により、遷移元素ので１イオンを加速電圧２０〜
５００ ＫＶで加速することにより約Ｉ Ｘ １０”（
個、４が）はどイオン注入し、その後、水素性雰囲気下
で２５０〜３５０℃の温度範囲でほぼ１時間はど加熱し
て約４μの膜厚の磁性層２′を形成した。この場合、Ｔ
ｉイオンの加速電圧を変化することによってコア材１内
へのイオンの注入量を加減し、Ｔｉイオンの濃度を制御
して均一に注入する。
こうして得られた磁性層２′の、コア材１の深さく厚み
）方向の硬度分布を示すと、第６図に示すような特性図
イが得られた。第６図から明らかなように、鉄−ニッケ
ル系合金のコア材１にイオン注入されて形成されたアモ
ルファスの磁性層２′の深さとビッカース硬度とは逆比
例し、磁性層２′の深さが約１μである場合にはビッカ
ース硬度は約８００であり、磁性層２′の深さが４μと
増すにつれてビッカース硬度は２００以下に降下する。
）方向の硬度分布を示すと、第６図に示すような特性図
イが得られた。第６図から明らかなように、鉄−ニッケ
ル系合金のコア材１にイオン注入されて形成されたアモ
ルファスの磁性層２′の深さとビッカース硬度とは逆比
例し、磁性層２′の深さが約１μである場合にはビッカ
ース硬度は約８００であり、磁性層２′の深さが４μと
増すにつれてビッカース硬度は２００以下に降下する。
このように形成された磁性層２′はその膜厚が１μと薄
くてもビッカース硬度が８００以上と高い。このように
耐摩耗性がある。またイオン注入法てよりＴｉイオンが
鉄−ニッケル系合金に均一に注入されてその濃度分布を
容易に制御できるから、テープ摺動面（キャップ形成側
）の偏摩耗を防止できる。しかもＴｉは軽量にして耐食
性かある。
くてもビッカース硬度が８００以上と高い。このように
耐摩耗性がある。またイオン注入法てよりＴｉイオンが
鉄−ニッケル系合金に均一に注入されてその濃度分布を
容易に制御できるから、テープ摺動面（キャップ形成側
）の偏摩耗を防止できる。しかもＴｉは軽量にして耐食
性かある。
またＴ１は、Ｍ穀の３ｄ軌道に２個の不対電子が存在す
る遷移元素であるから、常磁性を示し、鉄−ニッケル系
合金で形成されたコア材１の磁気特性を損うことがない
。
る遷移元素であるから、常磁性を示し、鉄−ニッケル系
合金で形成されたコア材１の磁気特性を損うことがない
。
実施例２
Ｆｅ ： Ｎｉの組成比が（１：４重量部）の鉄−ニッ
ケル系合金のコア制御の下面にイオン注入法により、■
イオンを加速電圧５０〜５００ ＫＶで加速するととに
より約５Ｘ１０１０（個％；７１１）、イオン注入する
。その後、水素性雰囲気下で、 ４００〜５００℃の温
度範囲で加熱し、約５μの膜厚の範 。
ケル系合金のコア制御の下面にイオン注入法により、■
イオンを加速電圧５０〜５００ ＫＶで加速するととに
より約５Ｘ１０１０（個％；７１１）、イオン注入する
。その後、水素性雰囲気下で、 ４００〜５００℃の温
度範囲で加熱し、約５μの膜厚の範 。
囲で磁性層２′を形成した。
こうして得られたアモルファスの磁性層２′の、コア材
１の深さく厚み）方向の硬度分布は第７図に示すように
なる。第７図から鉄−ニッケル系合金で形成されたアモ
ルファスの磁性層２′はビッカース硬度が高く、耐摩耗
性がある。またＶイオンはイオン注入法によって鉄−ニ
ッケル系合金から形成されたコア材１に注入され、濃度
分布を容易に制御できるからテープ摺動面の偏摩耗を防
止できる。またＶイオンを注入された磁性層２′は耐食
性がある。そしてＶは３ｄ軌道に３個の不対電子を有す
る遷移元素であるから常磁性を示し、鉄−ニッケル系合
金で形成されたコア材１の磁気特性を損うことがなく優
れている。
１の深さく厚み）方向の硬度分布は第７図に示すように
なる。第７図から鉄−ニッケル系合金で形成されたアモ
ルファスの磁性層２′はビッカース硬度が高く、耐摩耗
性がある。またＶイオンはイオン注入法によって鉄−ニ
ッケル系合金から形成されたコア材１に注入され、濃度
分布を容易に制御できるからテープ摺動面の偏摩耗を防
止できる。またＶイオンを注入された磁性層２′は耐食
性がある。そしてＶは３ｄ軌道に３個の不対電子を有す
る遷移元素であるから常磁性を示し、鉄−ニッケル系合
金で形成されたコア材１の磁気特性を損うことがなく優
れている。
同様に、他の遷移元素、例えば０ｒＸＺｒ、 Ｎｂ、。
ＭＯについてもそれぞれのイオンを高真空性雰囲気の下
にイオン注入法によって鉄：ニッケルの組成比が約１：
４の鉄−ニッケル系合金から形成されたコア材１に注入
した場合のコア材１の深さ方向の磁性層２′の硬度分布
を示すと、それぞれ第８図、第９図、第１０図、第１１
図に示すような特性が得られた。
にイオン注入法によって鉄：ニッケルの組成比が約１：
４の鉄−ニッケル系合金から形成されたコア材１に注入
した場合のコア材１の深さ方向の磁性層２′の硬度分布
を示すと、それぞれ第８図、第９図、第１０図、第１１
図に示すような特性が得られた。
このうち、Ｏｒイオンをイオン注入法によって注入した
磁性層２′は第８図から例えばその膜厚が１μと薄くて
もビッカース硬度が約７００以上と高く耐摩耗性がある
。またＯｒは、Ｍ穀の３ｄ軌道に５個の不対電子が存在
する遷移元素であるから、常磁性を示し、鉄−ニッケル
系合金で形成されたコア材１の磁気特性を損うことなく
優れている。
磁性層２′は第８図から例えばその膜厚が１μと薄くて
もビッカース硬度が約７００以上と高く耐摩耗性がある
。またＯｒは、Ｍ穀の３ｄ軌道に５個の不対電子が存在
する遷移元素であるから、常磁性を示し、鉄−ニッケル
系合金で形成されたコア材１の磁気特性を損うことなく
優れている。
またＺｒイオンをイオン注入法によって注入した磁性層
２′は第９図から例えばその膜厚が１μと薄くてもビッ
カース硬度が約６００と高く、耐摩耗性がある。１〜か
もＺｒイオンがＮ、ｌの４ｆ軌道に２個の不対電子が存
在する遷移元素であるから常磁性を示し、鉄−二、ケル
系合金で形成されたコア材１の磁気特性を損うことなく
向上できる〇またＮｂイオンをイオン注入法によって注
入した磁性層２′は第１０図から例えばその膜厚が１μ
と薄くてもビッカース硬度が約８００と高く、剛摩耗性
がある。しかもＮｂイオンがＮ穀の４ｆ軌道に４個の不
対電子が存在する遷移元素であるから常磁性を示し、鉄
−ニッケル系合金で形成てれたコア材１の磁気特性を損
うことなく向上できる。
２′は第９図から例えばその膜厚が１μと薄くてもビッ
カース硬度が約６００と高く、耐摩耗性がある。１〜か
もＺｒイオンがＮ、ｌの４ｆ軌道に２個の不対電子が存
在する遷移元素であるから常磁性を示し、鉄−二、ケル
系合金で形成されたコア材１の磁気特性を損うことなく
向上できる〇またＮｂイオンをイオン注入法によって注
入した磁性層２′は第１０図から例えばその膜厚が１μ
と薄くてもビッカース硬度が約８００と高く、剛摩耗性
がある。しかもＮｂイオンがＮ穀の４ｆ軌道に４個の不
対電子が存在する遷移元素であるから常磁性を示し、鉄
−ニッケル系合金で形成てれたコア材１の磁気特性を損
うことなく向上できる。
さらにＭｏイオンをイオン注入法によって注入した磁性
層２′は第１５図から例えばその膜厚が１μと薄くても
ビッカース硬度が約７００と高く、耐摩耗性がある。し
かもＭｏイオンがＮ穀の４ｆ軌道に４個の不対電子が存
在する遷移元素であるから常磁性を示し、鉄−ニッケル
系合金で形成されたコア材１の磁気特性を損うことなく
向上できる。
層２′は第１５図から例えばその膜厚が１μと薄くても
ビッカース硬度が約７００と高く、耐摩耗性がある。し
かもＭｏイオンがＮ穀の４ｆ軌道に４個の不対電子が存
在する遷移元素であるから常磁性を示し、鉄−ニッケル
系合金で形成されたコア材１の磁気特性を損うことなく
向上できる。
さらにＢ、 Ｓｉ、 Ｐ半導体のイオンをイオン注入法
によって鉄：ニッケルの組成比が１：４（重量部）の鉄
−ニッケル系合金で形成されたコア材１にそれぞれ約ｓ
ｘ ｉ ｏ’簀個Ｚゴ）注入した後にそれぞれ加熱温
度３００〜４００℃の範囲で加熱した場合のコア材１の
深さく厚み）方向の硬度分布を示すと第１２図乃至第１
４図にそれぞれ示すような特性が得られ、ビッカース硬
度が単に鉄−ニッケル合金で形成されたコア材１よりも
高くなっていることが明らかである。このうちＳｉイオ
ン、Ｐイオンを注入して形成される磁性層２′はその磁
気特性が向上する。なお上記各実施例では遷移元素、金
属元素、半導体元素をコア材１にイオン注入した場合を
説明したが、これらの元素のうち０１以上のイオンを注
入した場合にもコア材１の耐摩耗性を向上できることは
ｂうまでもない。丑り上述の各元素の他にＭｎ、 Ｆｅ
、Ｃ０１ＮｉＸＡｔ。
によって鉄：ニッケルの組成比が１：４（重量部）の鉄
−ニッケル系合金で形成されたコア材１にそれぞれ約ｓ
ｘ ｉ ｏ’簀個Ｚゴ）注入した後にそれぞれ加熱温
度３００〜４００℃の範囲で加熱した場合のコア材１の
深さく厚み）方向の硬度分布を示すと第１２図乃至第１
４図にそれぞれ示すような特性が得られ、ビッカース硬
度が単に鉄−ニッケル合金で形成されたコア材１よりも
高くなっていることが明らかである。このうちＳｉイオ
ン、Ｐイオンを注入して形成される磁性層２′はその磁
気特性が向上する。なお上記各実施例では遷移元素、金
属元素、半導体元素をコア材１にイオン注入した場合を
説明したが、これらの元素のうち０１以上のイオンを注
入した場合にもコア材１の耐摩耗性を向上できることは
ｂうまでもない。丑り上述の各元素の他にＭｎ、 Ｆｅ
、Ｃ０１ＮｉＸＡｔ。
ＺｎＸＧａ、 Ｓｎ、 ＰｂＸＣＸＧｅ、 Ａｓ等の元
素をイオン注入するよってしてもよい。
素をイオン注入するよってしてもよい。
上述のように本発明は、元素をイオン注入法によってパ
ーマロイ合金（鉄−ニッケル合金）にイオン注入すると
とＫより、テープ摺動面における耐摩耗性を向上してク
ロストーク特性の劣化を防止１〜、以って録音感度まプ
こは再生感度が向上できる。しかもテープ摺動面におけ
る磁気特性を損うことなく優れたものにできる。
ーマロイ合金（鉄−ニッケル合金）にイオン注入すると
とＫより、テープ摺動面における耐摩耗性を向上してク
ロストーク特性の劣化を防止１〜、以って録音感度まプ
こは再生感度が向上できる。しかもテープ摺動面におけ
る磁気特性を損うことなく優れたものにできる。
またイオン注入法によってコア材内に注入されて形成さ
れる耐摩耗性の磁性層へのイオンの濃度分布を容易且つ
確実に制御できる。従って磁性層の硬度、磁気特性、偏
摩耗性等を自由に設定できる。
れる耐摩耗性の磁性層へのイオンの濃度分布を容易且つ
確実に制御できる。従って磁性層の硬度、磁気特性、偏
摩耗性等を自由に設定できる。
第１図は従来の磁気ヘッドを示した部分切欠正面図、第
２図は上記ヘッドを構成するコア材の−例を示した下面
図、第３図は同じく正面図、第４図は本発明の磁気ヘッ
ドを構成するコア材の一例を示した下面図、第５図は同
じく正面図、第６図はＴｉイオンをイオン注入した場合
の磁性層の硬度を示した本発明の第１実施例の特性図、
第１図はＶイオンを注入した場合の磁性層の硬度を示し
た第２実施例の特性図、第８図は同じ（Ｏｒイオンを注
入した場合の磁性層の硬度を示した第３実施例の特性図
、第８図は同じ（Ｚｒイオンを注入した場合の磁性層の
硬度を示した第４実施例の特性図、第１０図は同じくＮ
ｂイオンを注入した場合の磁性層の硬度を示した第５実
施例の特性図、第１１図は同じ（Ｍｏイオンを注入した
場合の磁性層の硬度を示した第６実施例の特性図、第１
２図は同じくＢイオンを注入した場合の磁性層の硬度を
示した第７実施例の特性図、第１３図は同じ（Ｓｉイオ
ンを注入した場合の磁性層の硬度を示した第８実施例の
特性図、第１４図は同じくＰイオンを注入した場合の磁
性層の硬度を示した第９実施例の特性図である。 １・・・コア材、２′・・・磁性層。 特許出願人 パイオニア株式会社 第３図 第４図 第５図 第６図 コア前面力゛うのオざ（μ） ｅｏｏｌ コアｆｊ翁力゛うｍｌ夕さくｌｌ） コア約１狛で・らωヲ祭ゴ（、Ｕ） 第９図 コア齢６ｈカ′らＯジ后ざ （、ｖ） 第１０図 コマ的６カ・ら。シ呆ご＜ｐ＞ 第１１図 コア約晶ガら。渥ご（，４） ３１− １７１１品からの擢ざ（〃）
２図は上記ヘッドを構成するコア材の−例を示した下面
図、第３図は同じく正面図、第４図は本発明の磁気ヘッ
ドを構成するコア材の一例を示した下面図、第５図は同
じく正面図、第６図はＴｉイオンをイオン注入した場合
の磁性層の硬度を示した本発明の第１実施例の特性図、
第１図はＶイオンを注入した場合の磁性層の硬度を示し
た第２実施例の特性図、第８図は同じ（Ｏｒイオンを注
入した場合の磁性層の硬度を示した第３実施例の特性図
、第８図は同じ（Ｚｒイオンを注入した場合の磁性層の
硬度を示した第４実施例の特性図、第１０図は同じくＮ
ｂイオンを注入した場合の磁性層の硬度を示した第５実
施例の特性図、第１１図は同じ（Ｍｏイオンを注入した
場合の磁性層の硬度を示した第６実施例の特性図、第１
２図は同じくＢイオンを注入した場合の磁性層の硬度を
示した第７実施例の特性図、第１３図は同じ（Ｓｉイオ
ンを注入した場合の磁性層の硬度を示した第８実施例の
特性図、第１４図は同じくＰイオンを注入した場合の磁
性層の硬度を示した第９実施例の特性図である。 １・・・コア材、２′・・・磁性層。 特許出願人 パイオニア株式会社 第３図 第４図 第５図 第６図 コア前面力゛うのオざ（μ） ｅｏｏｌ コアｆｊ翁力゛うｍｌ夕さくｌｌ） コア約１狛で・らωヲ祭ゴ（、Ｕ） 第９図 コア齢６ｈカ′らＯジ后ざ （、ｖ） 第１０図 コマ的６カ・ら。シ呆ご＜ｐ＞ 第１１図 コア約晶ガら。渥ご（，４） ３１− １７１１品からの擢ざ（〃）
Claims (1)
- 鉄−ニッケル系合金をコア材料圧用いて形成された磁気
ヘッドにして、前記鉄−ニッケル系合金で形成されたコ
ア材の上面又は下面の少なくとも片面に遷移元素、金属
元素、半導体元素のうちの１つ以上の元素をイオン注入
して形成される磁性層を有したことを特徴とする耐摩耗
性の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11289783A JPS607605A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11289783A JPS607605A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS607605A true JPS607605A (ja) | 1985-01-16 |
Family
ID=14598236
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11289783A Pending JPS607605A (ja) | 1983-06-24 | 1983-06-24 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS607605A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4772976A (en) * | 1984-08-27 | 1988-09-20 | Hitachi, Ltd. | Process for preparing magnetic layer and magnetic head prepared using the same |
| US4846948A (en) * | 1985-10-07 | 1989-07-11 | Nippon Mining Company, Limited | Method of producing magnetic films of Fe-Si-Al alloy |
-
1983
- 1983-06-24 JP JP11289783A patent/JPS607605A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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