JPS607681A - 磁気バブルメモリ作成法 - Google Patents

磁気バブルメモリ作成法

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Publication number
JPS607681A
JPS607681A JP58114162A JP11416283A JPS607681A JP S607681 A JPS607681 A JP S607681A JP 58114162 A JP58114162 A JP 58114162A JP 11416283 A JP11416283 A JP 11416283A JP S607681 A JPS607681 A JP S607681A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
bubble memory
magnetic bubble
memory element
magnetic
Prior art date
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Pending
Application number
JP58114162A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideki Fujiwara
英樹 藤原
Niwaji Majima
庭司 間島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPS607681A publication Critical patent/JPS607681A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/14Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は電子計算装置またはその端末機等の記憶装置と
して用いられる磁気バブルメモリに関し、特に熱硬化性
樹脂を用いる磁気バブルメモリ素子の作成法に関するも
のである。
技術の背景 磁気バブルメモリ装置は、不揮発性、高記憶密度、低消
費電力管種々の特徴をもち、さらには機械的要素を全く
含まない固体素子であることから非常に高い信頼性を有
し、大容量メモリとして将来が期待されている。
この磁気バブルメモリは、例えば結晶のC軸方向にのみ
磁化容易軸を有する一軸異方性なもったオルソフェライ
トや、磁性ガーネット等の単結晶薄膜上にパーマロイに
よる多数の薄膜微細パターンを形成しておき、膜面に垂
直なバイアス磁界を加えたときに生ずる円筒磁区(これ
をバブルという)を外部回転磁界によりパーマロイパタ
ーンヲ転送路として移動させ、このパーマロイパターン
におけるバブルの有無を1”、D″に対応させて情報記
憶させメモリとして使用するものである。
従来技術と問題点 第1図は従来の磁気バブルメモリ素子の構成を説明する
ための図である。同図において、1はガリウム・ガドリ
ニウム・ガーネット基板、2はその上に液相エピタキシ
ャル成長法により形成された磁性薄膜、3はその上に形
成された5i02のスペーサ、4はAt−0uを用いた
ゲート類駆動用導体パターン、5は導体による段差を平
坦化する樹脂を用いた絶縁膜、6はパーマロイパターン
、7は樹脂を用いた保護膜をそれぞれ示す。
従来このような磁気バブルメモリ素子の作成工程におい
て樹脂の硬化は大気中又は窒素雰囲気中で行なわれてき
た。ところが前者の場合、樹脂の種類によっては酸素と
の反応による樹脂の変質・分解が起こり、さらに樹脂は
ポーラスなため、下地の金属膜の酸化が起ったりする。
後者の場合でも金属の種類によっては酸化され、例えば
パーマロイ(Ni−Fe合金)ではF8が酸化され、そ
の結果抵磁力H8が増加し磁気バブルメモリとしての特
性に悪影響を及ぼすという問題があった。
発明の目的 本発明は樹脂硬化時にパーマロイパターンに生ずる特性
の劣化を防止した磁気バブルメモリ素子の作成法を提供
することを目的とするものである。
発明の構成 そしてこの目的は本発明によれば、熱硬化性樹脂を用い
た磁気バブルメモリ素子において、樹脂の硬化を真空中
で行なうことを特徴とする磁気バブルメモリ素子の作成
法を提供することによって達成される。
発明の実施例 以下、本発明実施例を図面によって詳述する。
実施例として、第1図の如く基板1の上に磁性薄膜2.
51o2のスペーサ6、導体パターン4を形成後、絶縁
膜5としてPbO2(ポリ・ラダー・オルガノ・シロキ
サン)樹脂を塗布硬化したのち、パーマロイ薄膜による
パターン6を形成し、その上に保護膜7としてPOLS
樹脂を塗布し、その硬化は本発明による真空中での加熱
を行なったものである。
第2図はこのように本発明方法により作成された磁気バ
ブルメモリ素子におけるパーマロイパターンの抗磁力H
aを従来法により作成されたものと比較して試験した結
果である。図中、白丸印は本発明法によるもの、黒丸印
は従来法の窒素雰囲気中で加熱硬化したものである。図
に示すようにパーマロイパターンの抗磁力Hcは100
程度であるが、保護膜としての樹脂を塗布し従来法によ
る窒素雰囲気での熱硬化を行なったものは8〜900程
度に悪化する。これに対し本発明方法によるものは殆ん
ど変化がない。
発明の効果 以上、詳細に説明したように本発明による磁気バブルメ
モリ素子の作成方法は、樹脂の硬化を真空中で行なうこ
とにより、特性劣化を防止し得るといった効果大なるも
のである。
【図面の簡単な説明】
第1図は磁気バブルメモリ素子の構成を説明するための
図、第2図は樹脂硬化法の違いによるパーマロイの抗磁
力HO変化の試験結果を示した図である。 図面において、1は基板、2は磁性薄膜、6はスペーサ
、4は導体パターン、5は樹脂絶縁膜、6はパーマロイ
パターン、7は樹脂保護膜をそれぞれ示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 熱硬化性樹脂を用いた磁気バブルメモリ素子にお
    いて、樹脂の硬化を真空中で行なうことを特徴とする磁
    気バブルメモリ素子の作成法。 2、前記熱硬化性樹脂分保護膜に用いることを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の磁気バブルメモリ素子の
    作成法。
JP58114162A 1983-06-27 1983-06-27 磁気バブルメモリ作成法 Pending JPS607681A (ja)

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JPS607681A true JPS607681A (ja) 1985-01-16

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11073346B2 (en) * 2018-03-01 2021-07-27 Cnh Industrial America Llc Hydraulic cooler assembly for a header of an agricultural harvester

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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