JPS6078962A - プロスタグランディンｄ↓１類の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はプロスタグランγイン１〕Ｉ（以を司）　ａＤ
ｌと略記）類の新規な製法に関りる。ざらに訂しくは９
４ｉｔ、１５位を水酸Ｌ（のＭ累原ｆど）ルタール結合
を形成りる基で保護し、１１位をシリル基ｅ保訛したＰ
　Ｇ　Ｄ　＋類を誘導りる新Ｊ↓ｌな製法に関りる。

Ｐ　Ｇ　Ｄ　ｒ類はｐｒｉｎａｒｙ　Ｐ　Ｇ　ＪｉＹの
中でＰ　Ｇ　［Ｅ　＋、ＰＧＦ＋αと共に１型１）　Ｇ
類に属し、生物活性ぐ白小板凝集抑制活性ではＰＧＥ、
に次いで強り１３、異な生物活性をイｊりる化合物であ
るが、さらにｒＪしい生物活性はあまり知られていない
。最近ＰＧＤ＋類縁体に抗血小板、抗喘息作用のある化
合物が見い出された（エリツク、ウィリアム、コリント
ンウ、特冊昭５７−１０２８７７参照）。

従来ＰＧＤ＋類の裂取にあたって＋１４つの方法、１な
わち （ｌ］　ａｌｌ−シス−８，１１，１４−土イ」リトリ
エン酸より“生合成によって１９る方法（ＣＪ、　Ｓｉ
ｌ＋Ｓ、　Ｂｉｏｃｂｅｍｉｓｔｒｙ　、　１１．２２
７１　（１９７２）参照）。

（２］　Ｐ　Ｇ　Ｆ　＋αの９．１１位の水ｌＩ！基の
選択的参加によって１ｑる方法。（Ｇ、Ｌ、Ｂｕ＋＋ｄ
ｙＳ、Ｊ。

ＭＣ！ｄ、　Ｃｌｔｃｍ　、　２０．　７Ｈ（１９８３
＞参照）。

＋３１　１１位のカルボニル基が１．３−ジヂオ）ノＬ
タール基で保護された化合物から得る７Ｊ払（Ａ、Ｔ。

１−１ｅ１−１ｅ　Ｓ　、　Ｆ　！Ｌ１１ａｌｌＯｄＷ
ＩＩ　１１ｉｔｔ、、　２３．　５（３１（１９８２）
参照）。

（４）　９．１１．１！ｉ位の異なるシリル赫で保りさ
れたＰ　Ｇ　Ｆ　＋α誘尋体から誘導°す°る方法Ｌｊ
ｌ−，Ｗ。

トｔａｒｔ　Ｓ　、Ｊ、　Ｃｈｅｍ、Ｃｏｍ１，１５６
　（１９７ｊ）　参　照　）が知られている。

しかるに、これらの方法にＪ３いり（１）の生合成によ
ってＩｌ、Ｉる方法では原料である多価不飽和脂肪酸が
人手困難であるばかりでなく、生合成では１：已にＰ　
Ｇ　Ｅ　＋　、　Ｐ　Ｇ　Ｆ　’＋αが副生し、Ｐ　Ｇ
　ｌ）　＋の裂取にはこれらと分離しなければならす゛
１−業的な仏味で難点が多い。（２）の化学合成υ、で
は９．１１位の２つの遊離の水酸是の内、１１位のみを
選択的に酸化リ−る所に反応の微妙な制御をしなＧノれ
ばならず、しかも収率も低く、■葉内に必ずしも渦層の
Ｉｉ＜ものではない。（３）の方法では１１位のカルボ
ニルを１．３−ジチＡアレタールで保護しＩこ中聞体を
利用するため、１２位の立体構造はＰ　Ｇ骨格合成１）
！１には制御用）１′、なく、生成物は非人然ハリの異
性体とのｉ；〜合物となり、これらの分離のＪ急に難点
がある。（４）の７Ｊ　ｒＬでは９位、１１位を１５位
のシリル保護基とは異なる同じ保護基ぐ保護し、１１位
のみを９位と区別し−Ｃ選択的に脱保ムρどは異なる同
じ保護基ぐ保護し、１１位のみを９位と区別し一０ＴＵ
択的に１１）２保、１５基１−るという方法であり、微
妙な反応制御を必裏どし、しかも１１位の保護基変換を
２回もｔｊなうという工程上の複雑さがあり、工業的に
満足リベき方法で口えない。

本発明省らはかかる点に着目し、ブト１スタグランデイ
ンＤ１類の有利な化学合成法を兄いだＪべく鋭危（ｉｌ
＋究しｌこ結果、ｌ）Ｇ骨格合成Ｕ＋冒こ用いられる水
酸基保護基を巧みに利用し、９位、１５位と水酸基の酸
素原子どアレタール結合を形成する基で保護６．１１位
をシリル基で保護したＰ　Ｇ　Ｆ　＋　α類から、１１
位のみを所定の官能基変換りることににすＰ　Ｇ　Ｄ　
＋類を得ることに成功し、本発明に到達したものである
。

すなわち 下記式（１） 式中Ｒ１１はＣ１〜Ｃｏｏのアルキル基又は１〜す（Ｃ
Ｉ−０７）炭化水素シリル基を現わし、Ｒ２、Ｒ３は同
一もしくは異なり水素原子、置換もしくは非直換の０１
〜Ｃ１０のアルキル基又は置換もしくは非置換の５）〜
６員のシクロアルキル基を表わし、１（３１はＩ・す（
（、＋〜Ｃｙ　）炭化水ルシリル基を表わし、「（４１
は水酸基の酸素原子と共にアゼタール結合を形成りるλ
（を表わり。

で表わされるブ［１スタグランディン１−１　αＰ：ｉ
ｏｌの９位の水Ｍ基を水ｌ１２基の酸素１京子と共にｊ
ＩＬタール結合を 形成りる阜で保護し、下記式（２） 式中Ｒ”　、　Ｒ”　、　Ｉで３，１（引は上記に同じ
で、１【５１は１＜４１と同−又は異なり水酸１５０）
酸素１５：ミ子と共にアレリール結合を形成りる基を表
ねり。

で表わされるプロスタグランティン上１αフエ毒を１−
ノ、これを選択的脱保護、次いで酸化しＩこ後必要に応
じて脱保護及び／又は加水分解反応にイ４りことを１）
徴どり−る下記式（３） 式中Ｒ２、Ｒ３は上記定義に同じ、Ｒ１は水素原子、Ｃ
１〜Ｃｏｏのアルキル基又は１−リ（Ｃ＋〜Ｃ７）炭化
水素シリル基を表わし、Ｒ４、Ｒ５は同一もしくは異な
り水素原子又は水酸基の酸素原子と共にアゼタール結合
を形成する基を表わり。

で表わされるプロスタブランディンＤ＋類の製法である
。

本発明方法において用いられる上記式（１）で表わされ
るプロスタブランディンＦ＋　α類はまえ捉系されてい
る方法（特願昭ｂ７−１６３０８２参照）によりワーヒ
ドロキシＰＧＥまたは１：類（特開昭５８−９９４６２
＠参照）から容易にかつ高収串で調ｒ！ｌ！リ−ること
が出来る。

上記式（１）において、ＲＩ＋は、Ｃ１〜ＣＩＯのアル
キル基又はｌ・す（ＣＩ”−Ｃｙ）炭化水素−シリル基
を表ねり。０１〜ＣＩＯのアル４ル基としくは、例えば
メチル、’　：ｔ　アル、　１１−ブメピル、　１ｓｏ
−ゾ［１ビル、１１−ブチル、　５ｅｃ−ブチル、　Ｌ
ｅｒｔ−ブチル、１１−ペンデル、ローヘキシル、ロー
へプヂル、＋＋−４タチル。

０−ノニル、＋＋−ｑシル等の直鎖状又は分岐状のもの
を挙げることができる。なかでしメチル阜、■チル基が
好ましい。トす（Ｃ＋〜Ｃｙ＞炭化水系−シリル基どし
ては、例えばトリメデルシリル、１〜リエブルシリル、
し−ブブルジメチルシリル基の如く１〜す（Ｃ＋〜Ｃ４
）アルキルシリルもｔ；しゾｆ−ルジフ１ニルシリル基
の如くシフ上ニル（Ｃ＋〜Ｃ４）アル４ニルシリル基又
は１〜リベンジルシリル基等を挙げることができる。

！＜２．Ｒ３は同一もしくは異４１す、水系原子または
置Ｊｉ　ｂＬ、、　＜　ｔよ非買換り０１〜（／　１０
の）′ルー１−ル基としては例えば、メチル、１−デル
１１−ノ゛１１ピル。

７３０−プロピル、ｌ）−ブチル、トペンブル、旧ｌ＼
−１−シル、２−メチル−１−ヘキシル、２−メブルー
２−ヘキシル、　１１−ヘブチル、　ｎ−Ａクブル等の
ｉ０領状又は分岐状のものが挙げられる。非置換の５・
−６員のシクロアルキル基としては、シクロペンチル塁
、シクロヘキシル基などが挙げられる。かかる非置換の
０１〜Ｃｏｏのアルキル基、非置換の５〜Ｇ員のシクロ
アルキル基の置換基としては例えば、メチル、エチル、
フ１ノキシ、１〜リフルＡ日メチル、トリフルオロメチ
ルフェノキシ基などが好ましく挙げられる。特にＲ２と
し−Ｃは、メチル。

フェノキシ曇もしくは１−リフルオロメチルフェノキシ
基で置換されていてもよいメチル、１１−ペンチル、１
１−ヘキシル、２−メチル−１−ヘキシル、シクロペン
チル基又はシクロへキシルＪ、４が好ましく、かてもｎ
−ペンチル、１１−ヘキシル、２−メチル−１−ヘキシ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシルが好ましい。Ｒ３
とし°Ｃは水素原子又はメチル基が好ましく、特に水；
ｈ原子が好ましい。

Ｒ３１，１，す（ＩＣ＋へ・Ｃ７）炭化水素−シリル基
を表わし、なかぐも１−チブチルジメチルシリルＭ。

トリエチルシリル基が好ましい。Ｒ”は水酸基の酸素原
子と共にアセタール結合を形成する基を泡ねし、例えば
メ１〜キシメチル、１−エト４ニジ１チル、２−メｌ〜
キシー２−ブＬ１ヒル、２−土１ヘキシー２プＵビル、
く２−メ１〜１シ土１・４シ〉メチル。

ベンジル７１Ａジメチル、２−テトうじ１ζ１１ビ−ノ
ールネ２−ｊ−１〜うじド１−１−ノンニル、６．６−
ジメチル−３−′Ａ−１ニリ　−２−Ａ４ニソ　−じシ
フ１」（３，１゜Ｏ）へ４ス−４−イル基などが）ｉ月
ｙられる。１＜４１はなかでも、じドロピラニル基、１
−Ｉ＋−＝１−シ土デル基、２−メ１〜４シー２〜プロ
ピル基がθｆましい。

本発明／Ｊ払にＪ３りる前記式（１）〜（３）０表わ凸
れるＰＧ類はその、８位、９位、１１位、１２位、１１
１位。

に不斉炭Ａ　ＢＩ子をイＪす゛るため、各種の立体異性
体が存在り゛るが、本発明方法にお４Ｊるｌ−）　Ｇ類
ｔよこれらの鏡像体、光学異性体及びそれらの−ξれｉ
５．の混合物を包含り゛る。

本発明方法は上記式（１）のｊロスタクランノ゛インＦ
１α類の９位水酸基を水酸基の酸メ１；ミ丁ど」（にア
レタール結合を形成り°る基で保護りることがら開始さ
れる。保護剤としては２−３−ジヒド１１ピシン、−［
プルビニル１−フル、アｌ〜ンジメ１ルアセタル２等が
用いられる。これら保護剤は原料のプロスタグランディ
ンＦ！α類に対して１〜２０当量、好ましくは１〜５当
量用られる。反応助剤としてピリジンバラトルエンスル
ボン５ｔ＝（ｐｐＴＳ）、カンフ７スルホン酸等を原料
プロスタグランデスンＦ＋α類に対して０．１〜１００
重伝％りｆましくは１〜３０重量％用いるのが良い。反
応は無水のエーテル類８例えばエチルニーデル、テトラ
ヒドメフラン、ジオ７−ナン等はまｔ＝は無水ハ目グン
化炭化水素、たとゆばメチレジクロリドクロＬＴＩホル
ム、ジクロロエタン等中で行なうことも出来る。反応温
度は一１０℃〜６０℃りＴましくはＯ℃〜３０℃で進ｈ
　、反応の終点は薄層りＵマドグラフィー等で原料の消
失を観測して確ＬＥ　’Ｉる。かくして反応液は通１１
−の方法により後処理し、生成物どして上記式（２）で
表わされる１１位ガシリル基で保護され、９位、１５位
が水酸基の酸素ハ；ミ子と共にアレタール結合を形成り
°る基で保護されたＰＧＦ＋　α類が得られる。次にこ
の化合物の１１位のシリル化ＩＩを選択的に脱保護する
。これはテトラ−１１−プチルアンモニウムフルオリド
、フッ化水素−ヒリジン。

特に妊ましくは、デトラー１１−ブ１ル）′ンしニウム
ノルオリドを用いることにより通７：ｉのＺＪ法により
）１００Ｒ４′ （式中Ｒ”　、Ｒ２、Ｒ３，Ｒ”　、Ｒ”は上記に同じ
。）で表わされる９位、１５位が保護されｊこ１）ＧＦ
　Ｉα類を容易にるごとが出来る。この生成物はそれ自
体公知の方法（［，１三　、Ｎ　ｉｌ＋ｉｑａｗａ　３
　１）ｔｏｓｔａｇｌａｎｄｉ＋ｔｏ　９　、　１０９
　（１９７５）　参照）により、例えばＪＯ１１ｅＳ試
集、り１」ルクＵム酸ビリジーウ１１等のクロム酸系酸
化剤により、１１位の水酸基を酸化し、必要に応じＣＲ
”　、Ｒ”の保Ｊ７．ｔを除去しても良い。除去にあた
っては例えば酊醒−水−テトｌ」ヒトフラン混合物（３
：１：１〜３　：　２　：　２　）中で生成物を室温で
処ｉ！１！することによって達成される（Ｅ、　Ｊ、　
Ｃｏｒｃｙ　ら　、　Ｊ　、　Ａ　ｍａｒ、　ＣＩｏａ
ｍ。

Ｓｏｃ、、２４，６１９０　（１９７２）を参照）。

また必要に応じて、１位のエステルＩ（Ｒ’ｌ）を加水
分解してもよい。かかる加水分解は、例えばＦ型１）　
Ｇはアルカリ性水溶液、Ｆ型１）　ＧはリバーＵ、Ｉス
テラ−Ｕ等の加水分解酵素を用い（１ｊなうことができ
る。

かくして］」的とり−る上記式（３）で表わされるｌ−
’ＧＤ１類を容易に、畠収率で得ることが出来る。

本発明方法の特徴は次にある。′ＴＪなわら出発Ｌξ料
（１）おいて生じた９位、１１位、１５位の水酸基の保
護状態の相違をそのまよ利用し−Ｃ，従来法にあるよう
な保護基変換をすることなく上記式（４）で示される中
間体を誘尋し、これをＰ　Ｇ　Ｄ　ｌ類に尋びくという
方法である。この方法は従来法に比較してはるかにイ」
刊に、しかし立体４Ｍ　ｍの異性体分離をすることなく
　Ｐ　Ｇ　Ｄ　ｒ類を提供することが出来る方法どいえ
る。以下本発明方法を実施例ににり更に詳細に説明する
。

実施例１゜ １　（１０３＃Ｉ！Ｊ）を１０ｍｅのナスフラスコにど
りｉ　ｍＱのｄｌ゛ｙＣｔＬ　ＣＵｚを加えた。水浴で
冷却し、３３ｍｇの２．３−ジヒＩ・ロピランを加え、
つづいて１４ｍｇのｌ）　Ｉ）　Ｔ　Ｓを加え、０℃テ
１０分間、：（Ｏ℃’ｅ　ｊ′）Ｉｆ、’ｊ間撹拌した
。反応液を塩化メチレン５　ｍＱで希釈したのら、飽和
食塩を抽出した。（２Ｘ　１０＋＋ｉｅ　）４１機層を
含わゼ、無水ＭｉｌＷす１〜リウム−（゛乾燥した。減
圧濃縮後、シリカグルー力ラうクロントグラノイーに供
し、（Ｍ　０ｒＣｋ礼製シリ力ゲル１２ｇ；１ｌｌｘヂ
：ヘキ（ノン−１：　ｉｏ）　、生成物として一？−を
　１１１１］（収率９４％）（！１ｋ。

ＩＲ（ＣＩ−ＩＣ麦３　）　：　１７３０ｃｍ−１１１
ＮＭＲ（ＣＤＣＪｌａ　、９０〜Ｉ　１１　Ｚ　、１ｌ
ｉｌｎ＋　）　δ　：０．００７（Ｓ、　６．　Ｓｉ’
　Ｃｌ−１３Ｘ　２　）　、０．７−　１．０（１２，
Ｓｉ　Ｃ（ＣＨ３）　３　ａｎｄ　Ｃト１３　）　、　
１．１−２．５（ｍ、３Ｇ、ＣＨ２Ｘ１７）　、４．５
−　４．８（ｍ。

２．０ＣＩ−１０Ｘ２）、５．４０　（Ｉｌ、２．ｖｉ
＋＋ｙ１　＞ＴＬＣ：　Ｉ＜ｆ　：　０．５４　（Ｅｔ
　ＯＡｃ　−１＋ｅｘａ＋、ｃ＝１　：４） 旋光度：［α］　＝　１５．９’　（Ｇ　００３Ｇ５゜
ＭｅＯｌ−１＞ 実施例２ 工（２６ｆｆｌｊＦ　）を５ｄの試験管にとり、０．１
−の乾燥Ｃｌ−１２ｃＪ１２を加えた。水浴で冷却し、
４．７■の２，３−ジヒドロビランを加え、・つづいＵ
　Ｐ　Ｐ　ＴＳ　Ｏ，２ａｙを加え、０℃テ１０分間室
ｍ　（２Ｑ’Ｃ）　Ｔ’　１時間、３０℃で１時間撹拌
後、２゜３−ジヒドロビラン４．７ｍ＋５ｙ　Ｐ　Ｐ　
−１−３０，２ｍｇを加え、３０’ＣＦ２時間撹拌した
。さらに２．３−ジヒドロビラン４．７ｍｇ　、　ｌ）
ｔ〕Ｔ　Ｓ　ｑ、２ｍｇを加え、１時間撹拌した。反応
液を塩化メチレン５ｄで希釈したのＬ）、飽和良１ｎ水
１０ｄを加え、よく振とうした。右は層、水層を分画後
、ナトリウムで乾燥しＩこ。減圧ｊｌニ縮後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに供しく　ｔｖｌ　ｅｒｃ
ｋネ１シリカゲル１，７７　：酢」−ブー：へキリン−
１：１０）、−１成物先を２９〜（収率９７％）着た。

スペクトルデータは実施例１に同じであった。

１０ｍ１！（１）す７．う７５ス’−１１に：２を１０
３．５＃ｌｊ／とり−１−Ｉ１１ン１ｅで溶解し１この
ちに、＋１−［３ｕ　ａ　ＮＦ　（ＩＭ／　Ｔ　Ｉ−Ｉ
　Ｆ　）　１．５８　ｍｌを加え、室温（２３℃＞　（
・ｉｔ　ｖエチル５Ｉｄを加えてよく振りよ「、４１機
層と水層を分けた。水層を酢酸エチルで抽出した（５ｄ
×２）、右ｔ！１層を合わせ、無水硫酸プトリウムＣ乾
燥した。減；王濃縮後、シリカゲルカラムカラムクロマ
１−グラフィーに供しく　Ｍ　ＯＩ’Ｃｋシリカゲル１
０７；酢エヂル：１１−ヘキサン＝１　：４）、生成物
として−５−をを７１．７ｍｇ（収率８４％）１−１ｋ
。

Ｉ　Ｒ（Ｃ１−Ｉ　Ｃ１１３）　：　３６２０−３２８
０．１７３０ｃｍ−’トＩＮ　Ｍ　Ｒ（ＣＤＣＭ　３　
、９（ＩＭＩ−１２、１）ｌ）ｍ　）　δ　：０．８８
　（ｔ、　３．　４．５１−１２　、　Ｃｌ−１３＞　
、１．１−２．５（ｍ、３７．　ＣＨ２Ｘ１７．　ｃｌ
−１ｘ　２．　ａｌｌｄ　０ｔｌ）、３．３−４．５（
＋ｉ、１０，０ＣＩ−ｈ　、Ｃｌ−１０Ｘ３゜ａｌｌｄ
　ＣＨ２０Ｘ２）　、４．５−４．８（ｍ、　２．０Ｃ
Ｉ−１０ｘ２＞、　５．４５　（劇１．　２　、Ｖｉｌ
ｌ　ｙｌ　）薄層クロマトグラフィー ：　Ｒｒ　：　０．り４　（Ｌ　Ｌ　ＯＡＣＩＩＣ！Ｘ
ａｌｌＯ＝１：４） 旋光度：［α］−［α］　＝＋０．６５゜（ＣＯ，５８
８，Ｍｅ　Ｏｌ−１） 実施例４ ５ｍの試験管に６を２９．２４とり−１−ｌ−ｌ　Ｆ　
Ｏ，５ｍｅで溶解しｌｃのら、ｎ−Ｂｕ　ａ’　Ｎ　Ｆ
　（Ｉ　ｔｖｌ／−Ｉ用１ｌ−）０．４５　ｍＲを１」
１１え、空温り２１℃、　Ｐｔｖｌ　４　：　１１０）
で４１１１間撹拌した。Ｔｌ１Ｆ２ｄで希釈ののら飽和
良」ｎ水２Ｉ＋認を加え、よく振りまぎた。ｒｌｌ酸■
チル５ｒｎＱを加えてよく振りよ「、右はＵと水層を分
（）た。

水層をｉ１酸エヂルで抽出した（　り　ｍＱ　Ｘ　２　
）。濃縮後シリカゲルカラムク１」７トグラフイーに供
しくメルクシリカゲル１．；Ｉび、０１酸■デル：１１
−ヘキリンー’ｌ　：　２　）　、生成物７を２０ｍｇ
　（収率８３％）１′７だ。

このものの性質はり；施例３の、ｂ−どＩｉ＋Ｉ　Ｉ；
Ｃあった。

実施例５ Ｔｈ？０ １０ｍ！ｌのナスフラスコに５を［ｉ５．１＃Ｉ９とり
、アｔ？　ｌ−ン３ｄで用意しＩＣ。アルゴン気流下、
−３０℃でジョーンズ反応剤５５．４ｍ（ｌをマイクロ
シリンジで滴下した。−３０℃で５０分撹拌後、飽和炭
酸水素す１−リウム水溶液３ｍを加え、檄しく境１１′
シた。水層が緑色に変化したのち、ｍ酸エチル１０威、
飽和炭酸水系〕−トリウム水溶液１０ｍＱを加え、ゐし
く振とうした。右機層を合わせ、７！ｌｊ水１１ｉｌ　
Ｍノー１−リウムＣ乾燥した。減圧濃縮後、シリカゲル
カラムクロマ１へグラフィーに供しく　Ｍ　ｅｒｃｋシ
リカゲル７ｇ；酢土チ：へギサン−１：２）、生成物と
して邊−を６４．ＩＩｙＪ（収率９９％）得た。

ＩＲ（Ｃ１−ＩＣ，Ｑ３）　：　１７３！Ｉｃｍ−’　
：１−ＩＮＭＲ＜ＣＤＣＩＬｓ　、　９０Ｍｌ−１ｚ　
、　ＤＩ］ＩＩＩ　）δ：０．８８　（ｔ、　ａ、　Ｊ
＝　（１，０＋−１２、ＣＨ３）　、１．１−　２．’
ｌ（ｍ、３Ｇ、ＣＩ−＋２　ｘ１７　ａ＋＋ｄ　Ｃｌｌ
Ｘ２）。

３．３−　４．８（ｍ、Ｎ、０Ｃ１ｈ　、Ｃｌ−１０ｘ
２．ＣＩ＋２　０Ｘ　２　、ａｃｉｄ　ｏｃｌ−ｆａｘ
　２　）　、５．３−　５．６（ｍ、２　、’　ｖｉｎ
ｙｌ　） −ｒＬＣ：　Ｒｆ　：　０．３３　（［ｔ　ＯＡＣ−１
＋ｃｘａ＋＋ａ＝ｉ：２） 旋光度：［α］＝０．Ｇ３°　（ＣＯ，７！ｉ７！ｉ　
。

１ｙｌｅＯＨ＞ ５　ｍＱの試験管に７を１１．［ｉｎｆとり、７’　ｔ
　Ｉ−ン０，６−で溶解した。）アルゴン気流下、−３
０℃でジョーンズ反応剤をシリンジで滴下した。−３０
℃で４（）の撹拝復、酢酸］エチル１ｄで希釈し、飽和
炭酸水素すトリウム水溶液′ｌ　ｍＱを加え、激しく撹
拌した。

水層が緑色に変化したのち、さらに酢酸エチル１０威飽
和炭酸水素すトリウム１０ｍＱを加え激しく撹拌しｌ〔
。イｌ＋　［１層、水層を分離後、水層を酢酸土デルで
抽出した（２Ｘ１０ｄ）有機層を合わせ、無水硫酸ノト
リウムで乾燥した。減圧淵１１？ｉ　Ｆ２、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーに供しく　Ｍｃｒｃｋ　Ｏ，
９シ；耐エヂ：ｌ＼キ→ノン−１：２）、生成物としく
υ−を１１ｍｇ（収率９５％）（すだ。このものの性質
は実施例５に同じであった。

実施例７ ＴＩ９ｏｌ−１ｃ＋ ８　（５５，２ｍｅ　）を７ｄのＣＬｌ　３ＣＯＯｌ−
ｌ　’　ｌ−１２０−ＴＨＦ（３：１：１）に溶かし、
４５℃で１０．７１１’ｉ間撹拌した。ロータリーエバ
ポレーターで濃縮し、トルエンで共沸したく３回）。濃
縮液を直接シリノＪグルカラムクロマグラフィー（Ｍ　
ｅｒｃｋシリカゲル５ｇ；酢エヂ：へ：１−４ノンー１
：１）に供し、生成物としてＰ　Ｇ　Ｄ　＋メチルニス
アル川を２８．７８＋ｙ（収率７６％）１１１ｋ。

ｌ　Ｒ（Ｃ１−１ｃＪ１３　）　：　３７２０−３２４
０．　Ｎ３０ｃｍ”’１１ＮＭＲ（ＣＤＣす３．９０Ｍ
ＩＩｚ　、　１１１１１１　）δ：０．８９　（ｔ、　
３．　Ｊ　＝　６．４Ｈｚ　、　ＣＨ３）　、１．１−
　２．１　（ｍ、２１．ＣＨ２ｘ９．ｃｌ−１，ａｎｄ
　０１ｌｘ２＞　、２．３２　（Ｉ、　２．’Ｊ＝　７
．０ＬＩＺ　、　Ｃｌ−１２Ｃ００Ｇ）　、２．４４　
（ｄ、　２．　Ｊ−２，６１１２、Ｃ１１２Ｃ＝Ｏ）　
、２．７９　（ｄｄ、　１　、　Ｊ＝１１．Ｇｔｌｚ　
。

７．０ｌｌｚ　、　ＣｌＩＣ＝０）　、３．６７　（ｓ
、　３．　ＱＣｌ−１３）　、４．０８　＜ｉｌｌ’、
Ｑ、　１．．１−　Ｃ１，２１１Ｚ　、　（〕１１０）
　、４．！７１　（ｍ、　１　、　Ｃｌｌ０）　、！＋
、３７’（ｄｄ。

１　、　Ｊ＝１！ｉ、４．　７，０１１２　、　Ｖｉｌ
ｌＶ　ｉ　）　、５．Ｃ３３（ｄｄ、　１　、　Ｊ−１
！＋、４．　６．２１１ｚ　）　；ＣＮＭＩＩ（ＣＤＣ
す３．９０Ｍ　Ｈｚ、１１１１１１　）δ１４．１．２
２，７．２４．８．２５．２．２Ｇ、９．２８．０．２
９．０゜２９．５．３１．８．３４．０．３ｔ３．！Ｊ
、　４７，９．４８．２．５１．！ｉ。

！ｉ４．９．６８．１．７２．１１．　１２Ｇ、６．　
１３８，８．　１７４．４゜２１７．３ ＴＬＣ’：　Ｒｆ　：　０．６４　（Ｅｔ　ＯＡｃ　−
ｃｙｃｌｏｌ＋ｃｘａ＋＋ｃ　−−１−ｌ−Ｉ　Ｆ　＝
　Ｇ　：　３　：　１　）旋光痕：［αコ　−ｔ−２３
，８，”　（ＣＬｌ、３５５゜Ｍｅａｌ） 実施例８ ９　３．３ｍ９を０．５ｍ（７）ＡＣ０１１−１−１２
０−−ｒ　ＬＩＦ（３：１：１）に溶かし、４５℃”Ｃ
：　７１１．’＋間撹Ｊ’ｌ′ｌ。

た。真空ポンプで溶媒し、トルエンでバ？ｌｌ　（３回
）で溶媒を溜去し、シリカゲルカシムクＬ１７１〜（Ｍ
ｅ　ｒ　Ｃｋシリカゲル０．６９　：酢エチ：ヘキサン
−３：２）で精製し、生成物として旦を２，０ｍ７（収
率８８％）得た。

ＩＲ（ＣＩｉＣす３）　：　３７２０−３２４０．１７
／ｌｏ。

１７３０ｃｍ−１ １」ＮＭＲ（ＣＤＣｕ３．９０Ｍ１−！ｚ　、＋ｎ＋ｍ
　）　δ　：０．８９　（ｔ、３．　Ｊ　−６，４１１
ｚ　、ＣＩ−ｈ　）　、１．１−２．１　（＋ｎ、　２
１．　ＣＩ−＋２　Ｘ９．　ＣＭ、　ａｌｌｄ　ｏｌ−
１ｘ２＞　、２．３２　（＋、、２．　Ｊ＝　７．０Ｈ
ｚ　、Ｃ１１２Ｃ００Ｃ）　、２．４４　（（１，２，
Ｊ＝　２．０＋１７　、Ｃｌ１２　Ｇ＝０）　、２．７
９　（ｄｄ、１　、Ｊ　＝１１．６ｌ−ｌｚ　。

７．０Ｈｚ　、Ｃｌ−１０＝ｏ）　、３．［ｉ？　（ｓ
、３．　０ＣＬｌ、３）、４．０８　（ｂｒ、Ｑ、１．
　Ｊ　＝　（ｉ、２１−１２　、ＣＮｏ）、４．５１　
（ｍ、１．　Ｃｌｌ０＞、５．３７　（ｄｄ。

１　、Ｊ　＝１５．４．　７．ｏｌ−１ｚ　、Ｖｉ＋＋
ｙ　１　）　、５．６３（ｄｄ、１　、Ｊ＝１！ｉ、４
．　６．２Ｈ２）　：ＣＮＭＲ（ＣＤＣす３　、　９０
Ｍ　Ｌｌ　ｚ、１＋１＋ｍ　）　δ１４．１．　２２．
７．　２４．８．　２５，２．　２６，９．　２Ｂ、０
．　２９．０゜２９．５．　３１．８．　３４．０．　
３Ｇ、９．　４７．９．　４８．２．　！＋１．！ｌ。

５４．９．　（ｉ８．１．　７２．８．　１２［３，Ｇ
、１３８．８．　１７４．４゜２１７．３ 参考脅１１ １００ｄのナスラフラスコにアルゴン気流下、−７８℃
で２．６−　ｔ−ブチル−４−メチルフー１ノールとジ
ネノープチルアルミウニムの当（ｎトルエン溶液０．Ｉ
ＡＧヲ２０．４ａｄｌヲ人ｈ　Ｉｎ　ｌ’ｌ’　ｕ　Ｔ
おく、そこへｄｒ■トルエン６ｄに溶かした１２をステ
ンレスヂューブで加えた。３１１”７間かけて一２０℃
に昇温したのら、＝２０°Ｃで２５時間撹拌した。反応
液を酢酸エチル１０ｄで希釈したのち、飽和酒石酸水素
すトリウム水溶液４０ｄを加え、にり振とうした。有機
層、水層を分離しＩＣのち、水層をｎ１酸エチルで抽出
した。

（２０ｄＸ２）。有機層を合わせ、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥した。減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマト
グラフィーに供しくＭＯｒｃｋシリカゲル１５ｇ；酢エ
チ：へキチン：ベンゼン−１ニア：１→１：０：Ｏ）、
生成物とし′〔上を１２１＃１ｇ（収率Ｉ　Ｒ（ＣＩＩ
ＣＵｓ　）　：　３ＧＯＯ−３３２０，１７２’ａｃｍ
−’１１　ＮＭＲ（ＣＤＣリ　ａ　、９ＱＭ　ｌ−１１
、１１１１１１１＞　６　：０、（＋４　（Ｓ、６．　
Ｓｉ　Ｃ１１３Ｘ２＞　、０．７−　１．１＜１２．　
Ｓｉ　Ｃ（Ｃ１１３＞　３　ａｎｄ　Ｃ１１３）　、１
．１−２．７（ｉｆ、３１．　ＣｌＩ２　Ｘ１４．　Ｃ
Ｉ−ＩＸ　２．　ａｌｌｄ　ｏｉｌ　）、３，３７　４
．３（Ｉｌｌ、８．ＯＣＩ＋３　、ｃＨｏｘ３ａｎｄ　
Ｃ１１ｚ　Ｏ）　、４．６７　（ＩＩ、１　、　０ＣＩ
ＩＯ）　。

！ｉ、２−　！ｉ、Ｇ（ｍ、２．　ｖｉｎｙｌ　）参考
例２ １０〆の試験管にアルゴン気流士、−７１ｉＹ；　’（
’谷１１例１と同じ還元剤１１１Ｉｄｌを入れ撹拌しく
’　ａｊ＜。そこへｄｒｙ　−１’　０１ｕｅｌｌｅ２
　ａｄ！に溶かし１．：１３をステンレスブーユーブで
加えｌζ。３時間か１）で−２０℃に胃謁し／Ｓのら、
０．８３威の還元剤を追加し、−２０℃でさらに３時間
撹拌し、再び（１，８３−加え、２時間３０分撹拌した
。反応液を酢酸エチル５１ｄｌで希釈したのち、飽和酒
石酸水酸すトリウム溶液１０−を加え、よく撹Ｊｉ　Ｌ
、　／ζ。有機層、本図分離後、水層を酢酸エチルで２
回抽出した（２ｘｌＯＩＩｄｌ）右１ｍを合わせ、無水
硫酸すトリウムで乾燥した。減圧ｒｆＡ縮後、シリカゲ
ルカラムクロマ１−グラフィーに供し、（ｆｖｌｃｒｃ
ｋシリ）ノグル３び；酢エヂ：ヘユ１°ザン：ベンゼン
＝１ニア：１）、生成物β−を２６■（収率７Ｇ％　）
　得Ｉこ。

このものの性質は＠前例１のぞれど同じであった。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　下記式（１） 式中Ｒ１１は０１〜Ｃ＋ｏのアルキル基、又は１−り（
   Ｃ１−０７）炭化水素シリル基を表わし、Ｒ２、Ｒ３は
   同一もしくは異なり水素原子、置換もしくは非置換のＣ
   １〜Ｃ＋ａの）アルキル基又は置換もしくは非置換の５
   〜６員のシクロアル４−ル葛を表わし、）（３１はトリ
   （Ｃ＋〜Ｃ７）炭化水素シリル基を表わし、１マ引は水
   酸拉の酸素原子と共に７セタ一ル結合を形成する基を表
   わす。 で表わされるプロスタグランデインド１α類の９位の水
   酸基を水酸基の酸素原子と共に７Ｌタ一ル結合を形成す
   る基で保占し、下記式（力式中１又１１１１で２．１で
   ３．１（３１，１（４１はＦ記に同じで、（：’＜　ｌ
   はｌ＜４１ど１ｉｉｌ　□−又は異なり水酸基の酸素原
   子と共にアルタール結合を形成り“るりを表わり。 で表わされる保シされｌこ／Ｉ’ｌスタグランン゛イン
   Ｆ１α類を得、これを選択的脱保−Ｗ１次いで６２化し
   た後必要に応じて説保訛及σ／又は加水分解反式中Ｒ２
   、Ｒ３は上記定義に同じ、１＜１　は水糸１京子、（／
   Ｉ〜ＣＩＯのアル−１，ル基を表わし、Ｒ”　、Ｒ６は
   同一もしくは菫なり水系１３１を子又は水酸基の酸素原
   子と共に７　’ｔタール結合を形成する基を表わ′す。 で表わされるプロスタグラディンＤ１類の″Ｍ法２．　
   選択的１１；２保護反応をテ１ヘラー１１−ブヂルアン
   モニウムフルオリドを用いて行なう特許請求の範囲第１
   項記載のプロスタグランγインＤ１類の製法 ３、　酸化反応をクロム酸素酸化剤を用いて行なう特許
   請求の範囲第１項又は第２項のいづれが１項記載のプロ
   スタグラディンＤ１類の製法４、　上記式（１）におい
   て、Ｒ１１がメヂル基又は土デル基である特許′［請求
   の屈ＩＬ１１第１１ｎ〜第３項のいずれか１項記載のプ
   ロスタグランγインＤ１類の新製進法。 ５、　上記式（１）にＪ３いて、Ｒ３が水素原子Ｃ８り
   る特許請求の範囲第１１Ｅｉ〜第４　Ｊｌｊのいずれが
   ｉ　Ｊｊｉ記載のプロスタグランディンＤ１類の新製進
   法。 ６、　上記式（１）において、Ｒ２が１１−ペンデル基
   、ｎ−ヘクシル基、２−メヂルー１へクシ隻基、シクロ
   ヘキシル基、又はシクロペンチル基である特許請求の範
   囲第１項〜第５項のいずれか１項記載のプロスタグラン
   ディンＤ１類の製法 ７、　上記式（１）において１で３１がトす■プルシリ
   ル阜又はし−ブヂルジメヂルシリル阜である特に′ｌ晶
   求の範囲第ｉ　］１〜第６］ｊ４のいずれか１項記載の
   プＬ１スタグランデインＤ＋Ｆ、ｆｌの”１２人８、　
   上記式（２）にＪ３いＣ１１く引、１＜５１が同一しし
   くは異なり２−テ１〜ラヒド１」ピラニルＪＪ￥、１−
   １１−キシエチル基、２−メ１−キシ−２−ＪＬ：ｌピ
   ル基又は（２−メト４−シ］二１へ４−シ）メチ１１遍
   Ｊである特許請求の範囲第１１丁１〜第７項のいずれか
   １項記載の／目スタグラン）′インＤ＋類の新興Ｎ　ン
   人