JPS607903A - 晶析分離方法 - Google Patents
晶析分離方法Info
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- JPS607903A JPS607903A JP11799783A JP11799783A JPS607903A JP S607903 A JPS607903 A JP S607903A JP 11799783 A JP11799783 A JP 11799783A JP 11799783 A JP11799783 A JP 11799783A JP S607903 A JPS607903 A JP S607903A
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Landscapes
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は電磁波を利用して処理液を晶析介庶（ＩＪる
方法に関づるものである。
方法に関づるものである。
晶析分離は液体に溶解している不純物あるいはイ１用物
質を除去、回収する目的で行なわれる。液中にｉＲ［？
している物質はぞのほと／Ｖどが１１！口ε！性の塩あ
るいは有機性の塩で構成されている。晶析分離１のＩｊ
法どしては、液体を魚介ｄするいはにダ縮りることにに
っ（、塩を固体状態にし、これを沈陪法、逆心ｒｌ＊
（’）るいに１浦過法等の方法にＪ、っ（液中Ｊ：り取
り出づ方法が採用されている１、これらの方法におい−
（、晶析分離をいかに効率よく行なうかが従来の課題と
なっている。
質を除去、回収する目的で行なわれる。液中にｉＲ［？
している物質はぞのほと／Ｖどが１１！口ε！性の塩あ
るいは有機性の塩で構成されている。晶析分離１のＩｊ
法どしては、液体を魚介ｄするいはにダ縮りることにに
っ（、塩を固体状態にし、これを沈陪法、逆心ｒｌ＊
（’）るいに１浦過法等の方法にＪ、っ（液中Ｊ：り取
り出づ方法が採用されている１、これらの方法におい−
（、晶析分離をいかに効率よく行なうかが従来の課題と
なっている。
この発明Ｉ；１．このような従来の課題の解決のために
なされたものであり、簡単な装置て効率Ｊ、く晶析分離
を行なうことができる方法を提供りるものである３゜ ′１Ｊなりち、この発明は、処理容器中に処理液を連続
的に供給覆るとともに、処理液の液面に電磁波を照射し
て加熱、急発さゼ、ＩＪ１出装置により処理液の底部か
ら容器外に晶析物を連続的に取り出づにうにしたもので
ある。１周波数が１００ Ｋ Ｌｌ ｚ以上の電磁波を
金属酸化物あるいは水、グリセリン等の（セ性基を右づ
る物質、いわゆる誘電体物７１に黒用づると、分子間の
電荷が電磁波の周波数に是さ＋２’ｆ ’−Ｊ り変化
づる。、イの結果、銹７ｒ、ｉ Ｊｆｌ失現客を生しる
。一般に、この発熱の容易さはどくに双極子をイｊりる
水分がｇしいことが知られているか、これを利用して処
理液の加熱熱光を（１むわＵることににす、効率Ｊ、く
晶（１１分離を行なうＪ、うにしたものである。
なされたものであり、簡単な装置て効率Ｊ、く晶析分離
を行なうことができる方法を提供りるものである３゜ ′１Ｊなりち、この発明は、処理容器中に処理液を連続
的に供給覆るとともに、処理液の液面に電磁波を照射し
て加熱、急発さゼ、ＩＪ１出装置により処理液の底部か
ら容器外に晶析物を連続的に取り出づにうにしたもので
ある。１周波数が１００ Ｋ Ｌｌ ｚ以上の電磁波を
金属酸化物あるいは水、グリセリン等の（セ性基を右づ
る物質、いわゆる誘電体物７１に黒用づると、分子間の
電荷が電磁波の周波数に是さ＋２’ｆ ’−Ｊ り変化
づる。、イの結果、銹７ｒ、ｉ Ｊｆｌ失現客を生しる
。一般に、この発熱の容易さはどくに双極子をイｊりる
水分がｇしいことが知られているか、これを利用して処
理液の加熱熱光を（１むわＵることににす、効率Ｊ、く
晶（１１分離を行なうＪ、うにしたものである。
以下、この発明の実施例を図面によって説明する。′第
１図において、晶析分離を行なう容器１の底部２は傾斜
して形成されるとともに、傾斜面に沿って四部２１が形
成され、この凹部２１にモータ３０にＪ：り回転づ−る
スクリュ一式Ｊｌｌｌ出１！ｌ！ ３が配置されている
。容器１中には処理液４が貯溜され、排出機３は処理液
４の底部から液面上の排出１」１８まで伸びている。
１図において、晶析分離を行なう容器１の底部２は傾斜
して形成されるとともに、傾斜面に沿って四部２１が形
成され、この凹部２１にモータ３０にＪ：り回転づ−る
スクリュ一式Ｊｌｌｌ出１！ｌ！ ３が配置されている
。容器１中には処理液４が貯溜され、排出機３は処理液
４の底部から液面上の排出１」１８まで伸びている。
容器１の上端部には照口４孔５１が形成され、電磁波光
振器５から導波管６を通して電磁波５０を送り、照ｒＪ
Ｊ孔５１から処理液４上に電磁波５０を照ｑ・１するよ
うにしている。導波管６の照口・ｊ孔５１のｉｌｌ １
′ＡＬ−１；！、、容器１内の気密を保つためにラフロ
ンｊ二た（ま石英製のスペーサ６０を設けている。まｌ
コ、回転：ＦＶ ８ニＪ、す”ｔ？磁波５０を乱！＞ｊ
ＱＪさｕ−（処理８！４十に電磁波が均等に照０・ｊ
されるようにしている＋＋ Ｙｉ ｊ’ｊＨ１の上部に
は排出室７が聞「１し、容器」中の菖光物を冷却器７１
を通して気液を分離し、気体はポンプ７２から放出し、
液イホ１３！、貯溜槽９に貯溜りるようにしている。
振器５から導波管６を通して電磁波５０を送り、照ｒＪ
Ｊ孔５１から処理液４上に電磁波５０を照ｑ・１するよ
うにしている。導波管６の照口・ｊ孔５１のｉｌｌ １
′ＡＬ−１；！、、容器１内の気密を保つためにラフロ
ンｊ二た（ま石英製のスペーサ６０を設けている。まｌ
コ、回転：ＦＶ ８ニＪ、す”ｔ？磁波５０を乱！＞ｊ
ＱＪさｕ−（処理８！４十に電磁波が均等に照０・ｊ
されるようにしている＋＋ Ｙｉ ｊ’ｊＨ１の上部に
は排出室７が聞「１し、容器」中の菖光物を冷却器７１
を通して気液を分離し、気体はポンプ７２から放出し、
液イホ１３！、貯溜槽９に貯溜りるようにしている。
上記装置にａ３いて、処理液４をポンプ４２により供給
管４１を通して容器１中に供給し、液面を常に一定に保
つにうに供給を続Ｅプる。一方、照射孔５１から容器１
内の処理液４に対して電磁波５０を照Ω」し、処理液４
を加熱して蒸発させる。電磁波５０は回転翼８によって
乱反射されて処理液４に対しＣ均等に照射される。蒸発
物１１は排出恰７を通して冷却器７１で冷２Ｊ１され、
液体は貯溜＋ｔｌ１９に貯溜され、気体ＩＪＩポンプ７
２により外部に放出される。、黒光により容器１の底部
には徐々にｊｐ （晶出物）１゛７が析出１ノ、これが
）ル続的に回転ゴる排出数３にＪ：り排出口１８から取
り出される３゜１晶１７に附’Ｉ’３ Ｌ／だ液体は水
面」二から排出し１１８に至るまでに電）！支長波の照
射によって蒸発し、乾燥状態て゛取り出される１゜ 第３図はこの弁明を実施りる（、ｌｉ ＩＱの別の例を
示し、容器１１は濃縮室Ａと乾燥室Ｂとをイボし、画室
は金属製の多孔板からなる隔壁２１で仕切られて電磁波
のみを遮断するＪ：うに構成されている。
管４１を通して容器１中に供給し、液面を常に一定に保
つにうに供給を続Ｅプる。一方、照射孔５１から容器１
内の処理液４に対して電磁波５０を照Ω」し、処理液４
を加熱して蒸発させる。電磁波５０は回転翼８によって
乱反射されて処理液４に対しＣ均等に照射される。蒸発
物１１は排出恰７を通して冷却器７１で冷２Ｊ１され、
液体は貯溜＋ｔｌ１９に貯溜され、気体ＩＪＩポンプ７
２により外部に放出される。、黒光により容器１の底部
には徐々にｊｐ （晶出物）１゛７が析出１ノ、これが
）ル続的に回転ゴる排出数３にＪ：り排出口１８から取
り出される３゜１晶１７に附’Ｉ’３ Ｌ／だ液体は水
面」二から排出し１１８に至るまでに電）！支長波の照
射によって蒸発し、乾燥状態て゛取り出される１゜ 第３図はこの弁明を実施りる（、ｌｉ ＩＱの別の例を
示し、容器１１は濃縮室Ａと乾燥室Ｂとをイボし、画室
は金属製の多孔板からなる隔壁２１で仕切られて電磁波
のみを遮断するＪ：うに構成されている。
底部２（よ上記同様傾斜して形成されるとともに、四部
が形成されてそこにモータ３０にＪ、り回転りるスクリ
ュ一式排出機３が配置されている。
が形成されてそこにモータ３０にＪ、り回転りるスクリ
ュ一式排出機３が配置されている。
容器１′１中には処理液４が貯溜され、排出１幾３は処
理液４の底部から液面上の排出口１８まで伸び”（いる
。画室Ａ、Ｂにはそれぞれ発振器５から導波鴬６を通し
て電磁波５０を照射づるＪ、うにし、濃縮室Δには人出
力の電磁波を、乾燥￥８に（，１、小出ツノの電磁波を
照射するようにしくいる。これは褐″１柑ｉに（ユ入出
力の電磁波が必要であるが、乾燥に際し大出力を照射り
ると乾燥物が巽常に加熱され、溶Ｈ１：−りる可ｒＩｎ
性が高いからである。。
理液４の底部から液面上の排出口１８まで伸び”（いる
。画室Ａ、Ｂにはそれぞれ発振器５から導波鴬６を通し
て電磁波５０を照射づるＪ、うにし、濃縮室Δには人出
力の電磁波を、乾燥￥８に（，１、小出ツノの電磁波を
照射するようにしくいる。これは褐″１柑ｉに（ユ入出
力の電磁波が必要であるが、乾燥に際し大出力を照射り
ると乾燥物が巽常に加熱され、溶Ｈ１：−りる可ｒＩｎ
性が高いからである。。
５１゛たに７縮室△には供給機２０を通し゛（添加料１
９を供給りるＪ：うにしている１、この添１ノ１０Δ１
９は、川の析出を容易にづるために結晶の核になるもの
（ル）す、４Ｊｒ出りる塩と同じ成分をイ」する（・ト
結晶、あるいは酸化アルミニウム、酸化クイ拳等の酸化
１力ｄりるいは炭酸カルシラ１１、ガラス粉が用いられ
る。
９を供給りるＪ：うにしている１、この添１ノ１０Δ１
９は、川の析出を容易にづるために結晶の核になるもの
（ル）す、４Ｊｒ出りる塩と同じ成分をイ」する（・ト
結晶、あるいは酸化アルミニウム、酸化クイ拳等の酸化
１力ｄりるいは炭酸カルシラ１１、ガラス粉が用いられ
る。
第４図（Ｊさらに別の装置の例を示し、装置の基本的４
１ｉ成は上記のものと同様であるが、排出傭がプーリ２
５とそれに掛は渡されたベルト２３とそれに取付けられ
たかぎ取り刃２４とから構成されＣいる点が箕なってい
る。
１ｉ成は上記のものと同様であるが、排出傭がプーリ２
５とそれに掛は渡されたベルト２３とそれに取付けられ
たかぎ取り刃２４とから構成されＣいる点が箕なってい
る。
上記第３図おにび第４図に示づ装置においても、その作
用効果は第１図に承りものと同様であり、第３図に示す
しのでは塩の析出が容易であり、かつ乾燥がにり完全に
行４ｆわれる点が異４Ｔつ（いる。
用効果は第１図に承りものと同様であり、第３図に示す
しのでは塩の析出が容易であり、かつ乾燥がにり完全に
行４ｆわれる点が異４Ｔつ（いる。
以上説明したように、この発明は、電磁波を利用して処
用！液を加熱、熱光さＵ、かつ晶析物を底部から連続的
に取り出すようにしたものであり、熱ツノ率が肪れ処理
助字の勝れたものである。
用！液を加熱、熱光さＵ、かつ晶析物を底部から連続的
に取り出すようにしたものであり、熱ツノ率が肪れ処理
助字の勝れたものである。
第′１図はこの弁明を実施りる装置の例を示１１１！を
略構成図、第２図はイの底部の断面図、第３図は別の例
を示づ１ｌｌｊ略４１１１成図、第１図はさらに別の例
を示す（既略１ｆｉｉ成図Ｃある。 １．１１・・・容器、２・・・底部、３・・・４ＪＩ
Ｉｔ ｌｉ！、４・・・処理液、５・・・発振器、６・
・・導波管、１７・・・晶出１カ５０・・・電（０波。
略構成図、第２図はイの底部の断面図、第３図は別の例
を示づ１ｌｌｊ略４１１１成図、第１図はさらに別の例
を示す（既略１ｆｉｉ成図Ｃある。 １．１１・・・容器、２・・・底部、３・・・４ＪＩ
Ｉｔ ｌｉ！、４・・・処理液、５・・・発振器、６・
・・導波管、１７・・・晶出１カ５０・・・電（０波。
Claims (1)
- １、処理容器中に処１１１！液を連続的に供給りるどと
らｔご、処理液の液面に電磁波を黒用して加熱、７斧５
γ、さｖ 、 ＪＪＩ ｒ＋＋装向ににり処理液の底部
から容）：（：外に晶析物を連続的に取り出りことを１
！ｉ微とする晶析分０（Ｉｈ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11799783A JPS607903A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | 晶析分離方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11799783A JPS607903A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | 晶析分離方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS607903A true JPS607903A (ja) | 1985-01-16 |
Family
ID=14725480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11799783A Pending JPS607903A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | 晶析分離方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS607903A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50102797A (ja) * | 1974-01-23 | 1975-08-14 | ||
| JPS5317572A (en) * | 1976-07-29 | 1978-02-17 | Atomic Energy Authority Uk | Improvement for treating substances |
| JPS5665490A (en) * | 1979-10-31 | 1981-06-03 | Mitsui Shipbuilding Eng | Microwave continuous heating machine and control mechanism therefor |
-
1983
- 1983-06-28 JP JP11799783A patent/JPS607903A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50102797A (ja) * | 1974-01-23 | 1975-08-14 | ||
| JPS5317572A (en) * | 1976-07-29 | 1978-02-17 | Atomic Energy Authority Uk | Improvement for treating substances |
| JPS5665490A (en) * | 1979-10-31 | 1981-06-03 | Mitsui Shipbuilding Eng | Microwave continuous heating machine and control mechanism therefor |
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