JPS607906A - ダイナミツク膜の製造方法 - Google Patents

ダイナミツク膜の製造方法

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JPS607906A
JPS607906A JP11543883A JP11543883A JPS607906A JP S607906 A JPS607906 A JP S607906A JP 11543883 A JP11543883 A JP 11543883A JP 11543883 A JP11543883 A JP 11543883A JP S607906 A JPS607906 A JP S607906A
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JP
Japan
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dynamic membrane
colloidal silica
membrane
alumina sol
dynamic
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JP11543883A
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English (en)
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JPH0418888B2 (ja
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Tooru Imanara
今奈良 徹
Tetsuaki Kihara
木原 哲昭
Masao Tate
正雄 舘
Keizo Usui
臼井 敬三
Kazuya Nakajima
和也 中島
Takayuki Tanabe
孝之 田辺
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Mitsubishi Kasei Techno Engineers Ltd
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Techno Engineers Ltd
Mitsubishi Chemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は限外p過の用途に好適外ダイナミック膜の製造
方法に関するものである。詳しくは、アルミナゾルとコ
ロイド状シリカからなる二層桁造をなすダイナミック膜
の製造方法に関するものである。
従来、アルミナゾルによるダイナミック膜はよく知られ
ており、その限外P遇の性能は、例えばJ工s4種相当
の5%ゼラチン水溶液の濾過の場合、圧力20kg/d
G、膜簡に沿った流速o、tm7θec、温度乙θ℃の
条件下の溶質排除率96〜22%程度であった。また、
コロイド状シリカによるダイナミック膜もよく知られて
おり、その限外P通の性能は、上記と同様の条件下で溶
質排除率ソ7〜2と九程度であった。
即ち、アルミナゾルのダイナミックImによりは溶質の
うち3〜り3I6に透過水とともに損失することになシ
、コロイド状シリカのダイナミック膜によれば溶質のう
ち2〜3Xを透過水とともに損失することになる。
従って2θ数%に達する溶質排除率をさらに/ポイント
向上させることが出来れば、溶質の損失量を相当の割合
で減少芒せることか可能となり、溶質成分が高価な物で
あればその効果は極めて大きい。
本発明者等はこれらの実情に鑑み鋭意何党を重ねた結果
、アルミナゾルとコロイド状シリカを組み合わせること
によシ、これら個々の材料よりなるダイナミック膜よね
高い溶失排除性能を壱することを見出し、本発明に到達
した。
以下本発明の詳細な説明する。
本発明で使用する多孔質支持体としては、公知の各種の
ものが挙げられる。例えばセラミックス、焼結金楓粉末
、解結ガラス粉末、炭素材料々どの無機質多孔勿支特体
および酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリ
ロニトリル、ポリアミド、フッ素樹脂などの各種合成樹
脂などの上様多孔質支持体が羊げられる。
多孔質支持体の表面細孔の孔径は、その材質によシ相違
するが、通常θ、θ/〜−μ、好オしく 樟は0.θ!〜θ、2μのものが使用される。
多孔質支持体の厚さは、とくに制限芒れるものではなく
、ダイナミック膜の使用目的に応じ。
機械的強度をもつ程度であればよい。
アルミナゾルとしては、粒子の大きさが!θ×jfrL
μ〜りθO×41θmIt、 好ましくは1100X1
0μ〜3θox3omμで羽毛状の形状アルミナゾルの
濃度は、固形分として0.θ/〜θ、2 f / l 
、好ましくは0.02〜θ、/グ/lがよい。
コロイド状シリカとしては、粒径!〜!θmμ、好まし
くは10−.20mμの粒状形の粒子が使用される。コ
ロイド状シリカの水溶液は酸性あるいはアルカリ性のど
ちらで安定化しているものも使用可能であるが、酸性で
安定化しているものの方が好ましい。
コロイド状シリカの濃度は、固形分としてθ、θ3〜/
、θy7t%好ましくは0.7〜0.!t f/lがよ
い。同、このような濃度の酸性安定型シリカのコロイド
溶液は1通常pH4t−6である、 アルミナゾルを含む水溶液と、コロイド状シリカを含む
水溶液の量は支持体の異面積/イ当りコ0− j Oを
程度でよい。
本発明方法に従いダイナミック膜を製造するには、前述
した方法によればよい。この方法では、まず多孔質支持
体上に、アルミナゾルの水溶液を還流させる。還流は、
加圧下、通常コ〜0.7〜/ Om / sec 、好
ましくはθ、2〜−m/secで行なうことが必要であ
る。
このアルミナゾルの温度は常温でよい。
還流時間は;t:li々の条件により相違するが5〜3
0分でよい。
この後、常圧に戻し流路内を水洗する。
次いで、コロイド状シリカの水溶液を還流する。還流は
加圧下、通常2〜”kg/caG、好ましくは’ 〜’
 j kg / e4 G 、流速0./ 〜/ Om
/sac、好ましくは0.2〜2 m / seeで行
々うことか必要である。このコロイド状シリカの水溶液
の温度は常温でよい。
還流時間は神々の条件によシ相違するが5〜30分でよ
い。
この後、加圧下のまま、pH/〜3.5好ましくはpH
/、オ〜λ、!の酸水溶液を還流させる。
具体的には、硫酸、硝酸、塩酸等の強酸によって調製さ
れた酸水溶液が使用される。還流時間は種々の条件によ
り相違するがオル3θ分でよい、この処理によシリカ粒
子相互の凝集が促進され、強固なダイナミック膜が形成
される。
次いで、さらに加圧下のま捷、加熱水を還流させるのが
好ましい。
加熱水として1通常yo〜/θθ℃、好甘しくは7θ〜
10θ℃のものが使用さり、る。
還流時間は種々の条件によシ相違するが/!〜90分で
よい。これ罠より、シリカ粒子相互の結合を一層強める
とともに、アルミナ粒子とも力・らみ合い強固で溶質排
除率の高いダイナミックkf形沢させることガ2できる
この後、常圧に戻して流路内を水洗し、ダイナばツク膜
の形成は完了する。
同、ダイナミック膜の製造中に、透通水が排出される多
孔質支持体の片側は、常に常圧に保たれているととは言
うまでもない。
かくして得られたダイナミック膜は、アルミ製造方法と
同様にして製造したダイナミック族と比較して、高分子
物質の排除性能が良好である。
以下、実施例および比較例を誉げて1本発明をさらに詳
細VCH明するが1本発明の袈旨を超えない眠り、以下
の例によって限定されるものではない。
実施例/ θ、77dのセラミック製多孔負支持体(表面孔径:約
θ、/μ)上に、水301中にアルミナゾル(粒子の大
きさ二20ox、zomμ〜30θX 3Qmμ)を固
形分として1.22溶力・した水溶液を、圧力20に9
/dG、流速0.1 m / BeC1温度−0℃の条
件下、20分間還流させ膜を形成した。この後、常圧に
戻し流路内を水洗した。
次いで、水301−中にコロイド状シリカ(粒径:10
−20mμ)を固形分として69溶かした水溶液を、圧
力20/c9/cdG、流速O6にfn/sec、温度
−0℃の条件下%2θ分間還流させ膜を形成した。圧力
コθに9 / crl Gの加圧下のまま、pH,2,
21,20℃の硫酸水溶液を20分間還流させ、次いで
同圧力のまま水を還流して硫酸を洗浄除去した。この後
、常圧に戻し、流路内を水洗し、ダイナミック膜を形成
した。
このようにして製造したダイナミック膜を用いて、圧力
−〇に9 / cdl G、流速0.にm / eec
 。
温度に0℃の条件下、JIsg棟相当のゼラチン3%水
溶液のP通を行なブた。結果を表−/に示した。
理後に加圧下(,20に91 crlG )のまま50
℃。
、lf″θ℃の加熱水を各々20分間還流を行なう他は
実加J例/と同様にしてダイナミック膜の製造、ゼラチ
ン水溶液のPMを行なった。その結果を表−/VC示し
た。
表−/ 比較例/ アルミナゾルのダイナミック膜を形成させること1r省
略した以外は笑力世例/に配車v、シたのと同様にして
ダイナミック膜を製造した。
さらに、実施例/に記J柿したのとNbζb’c Lで
ゼラチン水溶液の濾過を行ηつノ辷ところ、溶質排除;
キ・は2オ、7%であった。
代 理 人 弁理士 長谷用 − ほか7名 内 0発 明 者 田辺孝之 内 0出 願 人 三菱化成テクノエンジニアズ株式会社 東京都港区芝二丁目1番30号

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 多孔質支持体上にアルミナゾルを加圧子還流さ
    せて膜を形成し、該膜の上に、さらにコロイド状シリカ
    を加圧子還流させ膜を形成し、次いで加圧下のままpg
    値が3.夕以下の酸水溶液を還流させることを%徽とす
    るダイナミック膜の製造方法。
  2. (2) 酸水溶液を加圧子還流させた後、さらに加圧下
    のまま加熱水を還流させることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記植の製造方法。
JP11543883A 1983-06-27 1983-06-27 ダイナミツク膜の製造方法 Granted JPS607906A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11543883A JPS607906A (ja) 1983-06-27 1983-06-27 ダイナミツク膜の製造方法

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11543883A JPS607906A (ja) 1983-06-27 1983-06-27 ダイナミツク膜の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS607906A true JPS607906A (ja) 1985-01-16
JPH0418888B2 JPH0418888B2 (ja) 1992-03-30

Family

ID=14662557

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11543883A Granted JPS607906A (ja) 1983-06-27 1983-06-27 ダイナミツク膜の製造方法

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JP (1) JPS607906A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6471215A (en) * 1987-09-11 1989-03-16 Oki Electric Ind Co Ltd Switch circuit for electronic device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6471215A (en) * 1987-09-11 1989-03-16 Oki Electric Ind Co Ltd Switch circuit for electronic device

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JPH0418888B2 (ja) 1992-03-30

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