JPS6080807A

JPS6080807A - 光回路およびその製造方法

Info

Publication number: JPS6080807A
Application number: JP18835083A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Yamada; 武山田; Takashi Kurokawa; 隆志黒川; Masayoshi Ono; 大野　正善; Akiyuki Tate; 彰之館
Original assignee: Nippon Telegraph and Telephone Corp
Current assignee: NTT Inc
Priority date: 1983-10-11
Filing date: 1983-10-11
Publication date: 1985-05-08

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔技術分野〕本発明は、光ファイバや光源、受光素子などの光学素子
（総称して光部品という）との結合部を有する光回路お
よびその製造方法に関するものである。

〔従来技術〕

従来この種の光回路としては、ガラス、半導体、誘電性
結晶、高分子等様々の材料を用いて、薄膜状の二次元光
導波路、あるいはパターン化された三次光導波路が、光
の分岐・結合等の機能を有する回路素子として作製され
ている。例えば。

第１図は、基板１１上に形成した光導波路１２の一方の
端部１２Ａに光ファイバ１３を結合し、同Ｙ分岐形１２
の２つの端部１２Ｂおよび１２Ｃに、それぞれ、光ファ
イバ１４および１５を結合するようにしたこの種光回路
の一例を示すが、外部信号の光Ｚこのような光回路に結
合する場合、光ファイバあるいは光源や受光素子などを
１　ｕｒｎオーダの精度で光導波路と接続する必要があ
る。その場合に、従来の光回路では、第１図に示すよう
に、導波路１２Ａ、１２Ｂおよび１’２　Ｃの各端面を
光ファイバ１３．１４および１５等と精度よく位置合わ
せして固定するにあたって、光ファイバ等をセットする
適当なガイドあるいは保持部がないため、かかる位置合
わせは、作業性や信頼性の点からきわめて困難であった
・高分子材料を用いた光回路については、Ｆ　、Ａｕｒａ
ｃｈｅｒらが文献（Ａｐｐｌ、Ｏｐｔ、１６．１９７１
．ｐ、２１９５）に発表しているように、感光性樹脂を
用いることによって、ファイバのガイド溝と光導波路と
ｔ基板上に一括して形成する方法を提案している。しか
しながら、この方法では、材料が感光性樹脂に限られる
ため、光導波路の伝搬損失を小さくすることに限界があ
り、また耐熱性等の点からも接続部の安定性に問題があ
る。さらに、ファイノ（どの接続の場合、ファイバコア
と導波路の断面を位置合わして効率よく光を伝搬させる
ためには、ファイバのクラッド層を薄くした特殊なファ
イノくを用いる必要があるばかりでなく、光源や受光素
子等との接続が困難である等の欠点もあった。

〔目　的〕

そこで、本発明の目的は、これらの欠点を解決するため
、ガラス基板内に光導波路と光ファイバあるいは発光素
子や受光素子等の保持部とを適切に一体に配置した光回
路を提供することにある。

本発明の他の目的は、このような光回路ヲ稽々の形態で
、容易にかつ量産に好適な形態で製造することのできる
製造方法を提供することにある。

〔発明の構成〕

がっ）る目的を達成するために、本発明光回路は、基板
と、該基板上に光部品の端部を保持し得る形状に形成さ
れた端部受容部と、該端部受容部と連なり、前記端部と
光学的に一致するように配置された光導波部とを具備す
る。

本発明光回路の製造方法は、基板と、該基板上に光部品
の端部を保持し得る形状に形成された端部受容部と、該
端部受容部と連なり、前記端部と光学的に一致するよう
に配置された光導波部とを有する光回路を製造するにあ
たり、前記端部受答部を有するガラス基板を形成する工
程と、前記ガラス基板内あるいは前記ガラス基板上の定
められた位置に光導波部を形成する工程とを具備する。

ここで、金属アルコレート溶液を所定の型と一定時間接
触させながらゲル化させる工程と、前記型な離型してゲ
ル化した基板材料を乾燥させてガラス基板を得る工程と
、該工程によって形成されたガラス基板内の一部に不純
物を添加して固定する工程とを有するのが好適である。

あるいはまた、金属アルコレート溶液を所定の型と一定
時間接触させながらゲル化させる工程と、前記型を離型
してゲル化した基板材料を乾燥させてガラス基板を得る
工程と、該工程によって形成されたガラス基板上の一部
に、該ガラス基板よりも高屈折率の物質を付着させる工
程とを有するのが好適である、さらに、前記光部品を前記ガラス基板に形成された前記
端部受容部に固定する工程を有することもできる。ある
いはまた、前記光部品を前記端部受容部に嵌合した後に
前記ガラス基板に融着固定する工程を有することもでき
る。

〔実施例〕

以下に図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第２図は本発明光回路の一実施例の構造を示す斜視図で
あり、第３図はその前方からみた断面図である。ここで
、２１はガラス基板、２２はガラス基板２１内の高屈折
率化された光導波路、２３Ａおよび２３Ｂはガラス基板
２１内において光導波路２２０両端に形成した断面が矩
形状のファイバ固定溝、２４および２５は、それぞれ、
ファイバ固定溝２３Ａおよび２３Ｂに嵌合する光ファイ
バである。

第３図に示される如く、光ファイバ２４（または２５）
のコア部％　２４　Ａ（または２５Ａ）が光導波路２２
の断面２６と一致するように、ファイバ固定溝２３Ａお
よび２３Ｂと光導波路２２の寸法および位置関係が規定
されている。

ここで、光ファイバの装着にあたっては、例えば光ファ
イバ２４を溝２３Ａをガイドとして、その溝先端まで挿
入して溝内に嵌合して固定する。

このとき、先に述べたように、ファイバコア２４Ａと導
波路２２とが一致するようにしているので、ファイバ２
４を固定溝２３Ａにおいて導波路２２の端部と接触する
ようにセットすることにより自動的にファイバ２４と導
波路２２との光学的結合がなされる。ここで、ファイバ
２４の溝２３Ａ内への固定は、接着、あるいはアーク放
電等でファイバ２４の先端と導波路２２の端とを加熱す
ることによる融着などの方法を用いるのが好適である。

本発明の他の実施例乞第４図に示す。第４図において、
ガラス基板３１の中央に低段差部３２を形成し、この低
段差部３２上に高屈折率のガラスからなる光導波路、例
えばＹ分岐形光導波路３３を配置し、この光導波路３３
の端部３３Ａ、３３Ｂおよび３３Ｃに対向して低段差部
３２より深い断面が例えば矩形状のファイバ固定溝３４
Ａ、３４Ｂおよび３４Ｃを形成し、これら固定溝３４　
Ａ　、　３４　Ｂ５４Ｃに光ファイバ３５．３６および
３７を嵌合可能とする。この構造においても、導波路３
３の各端面と光ファイバ３５．３６および３７の各コア
面とが一致するように光導波路３３およびファイバ固定
溝３４Ａ、３４Ｂおよび３４Ｃの位置関係を定めるもの
とする。

なお、固定溝２３Ａ、２３Ｂおよび３４Ａ　〜３４Ｃの
形状は、上述した矩形の他、１字形、Ｕ字形等任意所望
の形状とすることができる。

第２図および第３図あるいは第４図に示したように光フ
ァイバとの接続部と導波路とを一体に構成した光回路を
製造するにあたり、本発明製造方法は、基本的には、溝
パターンを有するガラス基板を作製する工程と、その基
板に光導波路を形成する工程とを有する。

その具体例を第５Ａ図〜第５Ｄ図に従って説明する。ま
ず、第５Ａ図に示すように、少くとも一種の金属アルコ
レート、水および有機溶媒からなる溶液４１を型４２内
に流し込み、一定時間放置すると、浴液はゲル化し始め
、更に乾燥加熱することによって、固体のガラス状物質
となる。ここで、型４２には所望形状のファイバ固定溝
に対応する突起構造４２Ａをつけてあり、それに応じて
、第５Ｂ図に示すように、第２図示と同様のファイバ固
定＃４４Ａおよび４４Ｂを有するガラス基板４３が得ら
れる。なお、金属アルコレ−）Ｂ液は、固化するときに
ｈ〜％程度収縮するので、その収縮率にあわせて、所望
の寸法となるよう突起部４２Ａの寸法をあらかじめ設定
しておく。

以上の工程によりファイバ固定溝４４Ａおよび４４Ｂを
有するガラス基板４３を形成したのち、導波路をファイ
バ固定溝４４Ａおよび４４Ｂと寸法的に整合するように
形成する工程に進むが、その３つの実施例′ｆ！ｒ：第
６　Ａ　ｅ　６　Ｂ図、第７Ａ、７Ｂ、。

７０図、および第８Ａ、８Ｂ図に示す。

第６Ａ、６Ｂ図および第７Ａ〜７０図の例では、ガラス
基板４３内に所望の屈折率パターンを形成して導波路と
する。第８Ａ、８Ｂ図の例では、ガラス基板４３上に基
板４３よりも屈折率の高い部分をパターンとして付着さ
せることにより導波路を形成する。

第６Ａ図および第６Ｂ図に示す工程では、まず、第６Ａ
図に示すように、ガラス基板４３の上に所定パターンの
マスク４５を配置し、このマスク４５に形成しである光
導波路に対応する開口４５Ａの部分にのみ無機金属イオ
ン等をドープしたのち、かかるマスク４５を除去して、
第６Ｂ図に示すように、光導波路４６を形成する。ここ
で、ドープ方法としては、銀やチタン等の塩類を含む溶
液にガラス基板４３を浸漬することにより、上述の無機
金属イオンをガラス基板４３中に拡散させて屈折率を局
所的に高めることによりドープな行うことができる。こ
の場合に、基板４３は先に述べたゾルゲル反応によって
作られた多孔的状態にあるから、イオンの拡散がしやす
く、従ってドーピングにあたって有利である。あるいは
また、イオン打ち込み方法などによって、金属イオンを
基板４３に局部的にドープしてもよい。

第７Ａ図〜第７Ｃ図に示す方法においては、まずｉ７Ａ
図に示すように、例えばゲルマニウムやチタン等屈折率
の高い金属アルコレート浴液をガラス基板４３の上面よ
りその内部に一様に拡散させ、次いで第７Ｂ図に示すよ
うに÷導波路に対応する開口４５Ａをもつマスク４５を
基板４３上に配置してパターン露光を行ない、その露光
部でのみ金属アルコレートを反応させて固定し、その後
露光部以外における未反応物を抽出除去して、第７Ｃ図
に示すような光導波路４６を形成する。

ここで、ガラス基板４３内に拡散させる物質としては、
本例の方法の場合には、光で反応する各種単量体や有機
金属化合物など、穂々のもの音用いることができる。ま
た、露光する光は赤外線、可視光、紫外光など物質に応
じて適切な波長域の光１選択することができ、あるいは
また、必要に応じて電子線などン用いてもよい。第８Ａ
図および第８Ｃ図に示す方法においては、まず、第８Ａ
図に示すように、ガラス基板４３上に光導波路に対応す
る開口４５Ａを有するマスク４５’ａ’配置し、スパッ
タやＣ’ＶＤ等の方法で、第８Ｂ図に示すように、マス
ク開口４５Ａの部分に局部的にガラス膜を堆積させて光
導波路４６′？形成する。

あるいはまた、これら方法の他に、透明な合成樹脂をガ
ラス基板４３上に塗布して、導波路４６を落成してもよ
い。

本発明光回路の別の一実施例およびその製造方法を第９
Ａ図〜第９Ｄ図に示す。本例では、まず。

第９Ａ図に示すように、凹部５２と凸部５３Ａおよび５
３Ｂとを有する型５１に金属アルコレート浴液を接触さ
せて、第９Ｂ図に示すようなガラス基板５４を形成する
。この基板５４には、型５１から転写された光導波路部
となる凸部５５とファイバ固定溝５６Ａおよび５６Ｂと
が形成される。

凸部５５は型５１の形状を適宜定めることにより曲がり
や分岐などのパターンをもつ構造とすることもできる。

さらに、第９ｃ図に示すように、この基板５４上の凸部
以外の部分をマスク５７によりマスクしてから無機金属
イオン等を拡散させて、凸部５５にのみイオンをドープ
した状態とし、次いで、乾燥させてイオンを固定した後
にマスク５７を除去して、導波路５５′を得る。

第１０Ａ図〜第１０Ｄ図は、本発明光回路の別の一実施
例およびその製造方法を示す。本例では、第１０Ａ図お
よび第１０Ｂ図に示すように、金属アルコレートのゾル
ゲル反応を利用して、光ファイバの素線を固定する溝６
３Ａおよび６３Ｂ、光ファイバの被覆された心線部まで
保持固定する溝６４Ａおよび６４Ｂおよび導波路パター
ンとなる溝６２との段付き構造を有するガラス基板６１
を形成する。次いで、第１ｏｃ図に示すように、溝６２
内に基板よりも高屈折率ガラスとなる組成の金属アルコ
レートを流し込んで光導波路６５を形成する。その後、
第１０Ｄ図に示すように、光ファイバ６６および６７を
溝６３Ａ、６３Ｂおよび６４Ａ、６４Ｂ内にそれぞれ嵌
合させて固定する。

６８および６９は光フアイバ素線である。ナオ、かかる
工程において、溝６２内に流し込む材料としては、高屈
折率の透明合成樹脂を用いることもできる。

以上に示した本発明光回路の構造においては、ファイバ
心線部の保持も同一基板内においてなされるため、ファ
イバの固定が容易になり１機械的安定性も向上する。

次に、本発明光回路の更に別の一実施例を第１１図に示
す。本例の光回路は、光ファイバのみならず、光素子と
の接続を行うことのできる構造としたものである。すな
わち、前述のゾルゲル法によって作製したガラス基板７
１に、光ファイバ７５を固定するファイバ固定溝７２と
共に、受光素子としての半導体チップ７６を固定するた
めの孔７３を形成し、溝７２と孔７３との間に光導波路
７４を配置する。ここで、孔７３０寸法は、半導体チッ
プ７６の受光部７７が導波路端部と光学的に一致するよ
うにあらかじめ設定しておく。また、孔７３については
、半導体チップ７６が精度よく孔７３内に嵌合するよう
に定めておくものとする。したがって、半導体チップ７
６を孔７３内に嵌合して固定するのみで、自動的に半導
体チップ７６と導波路７４との光学的結合がなされる。

この基板７１へ導波路７４を形成するにあたっては、前
述の方法やその変形を用いることができる。

また、孔７４内に固定される光素子としては、受光素子
のみならず、発光ダイオードや半導体レーザ等の発光素
子等を用いることができる。

第１２図は１本発明光回路の更に別の一実施例を示し、
本例は、光ファイバ８８に取付けたコネクタプラグ８７
および半導体チップ８６１１！：取付けた発光素子パッ
ケージ８５と光導波路８２とを結合しうるように光回路
を構成したものである。すなわち、本例では、上述した
ゾルゲル法により、まず、プラグ挿入孔８３とパッケー
ジ固定孔８４とを有するガラス基板８１を形成する。し
かるのち、光導波路８２を基板８１上のあらかじめ設定
した位置に形成し１次いで、パッケージ８５を孔８４内
に挿入して固定する。このとき、パッケージ８５と孔８
４との嵌合は、あらかじめ高精度に孔８４を形成してお
くことによって、孔８４にパッケージ８５を挿入するの
みで自動的に光学的アライメントがなされることとなる
。また、光ファイバ８８はプラグ８７内に設置されてお
り、この円筒形のプラグ８７の先端の中心に光フアイバ
素線８８Ａの先端が位置した構造となっているので。

このプラグ８７をプラグ挿入孔８３に挿入することによ
り、光ファイバ８８と光導波路８２との着脱を行うこと
ができる。したがって、孔８３の直径はプラグ８７より
も１〜３　ｕｍ大きく定める必要がある。

本例において、パッケージ８５は発光素子のみならず、
受光素子でもよく、また、マイクロレンズあるいは他の
光学部品を介するか、あるいは、直接置き換えてもよい
ことはもちろんである。

また、本発明において、光導波路は三次元のみならず、
薄膜状の二次元導波路でもよいことはもちろんである。

以下に本発明の具体的実施例について説明する。

実施例１゜テトラエトキシシラン３０１に９５チ含水エタノールを
５５ｇ加えた液を、■溝を４個所に有する型に流し込み
、５０℃でゲル化し、乾燥させて多孔質ガラス基板を得
た。これに、Ｖ溝と一致するように３分岐パターンの穴
あきマスクを配置し、次いで硝酸アルミニウムの水溶液
中に１時間浸漬した。そののちに、このガラス基板を取
り出して十分に乾燥させた。次に、このマスクを除去し
、ゆっくりと１０００　”Ｃまで加熱し３分岐の光導波
路を有するガラス基板を得た。この基板の４本の■溝に
石英系光ファイバヶ嵌合してエポキシ系接着剤で■溝に
固定して、ファイバ付き分岐光回路乞得た。この分岐光
回路にλ＝　０．８５１１ｍの光を元ファイバから導入
して過剰損失を測定した結果、１．１ｄＢ　の値を得た
。

実施例２゜第９Ａ図に示したような凸部と凹部とを有する金型を用
意し、この金型に、テトシェトキシシラン、水およびエ
チルアルコールをそれぞれ、２８ｃｃ、７０ｃｃおよび
３５ｃｃ混合した液を流し込み、３０℃でゲル化してか
ら乾燥させて、第９Ｂ図に示したような導波路部となり
うる凸状部とファイバが固定されるべき溝とヲ有する多
孔質ガラス基板７得た。その後、第９ｃ図に示した工程
の如く、凸部以外ｔマスクして、ガラス基板なエトラエ
トキシゲルマニウム、エトラメトキシシラン、水および
エチルアルコ−ＡＩを、ソれツレ、０．３＝１：４：２
００のモル比で混合した液に２０分間浸漬してから取り
出した。そののち、拡散させた金属アルコレ−）Ｙこの
ガラス基板中で反応させ、更に十分に乾燥させてから、
２×２の光カブラン得た。石英系光ファイバをガラス基
板上の■溝に固定した後、λ−＝０゜８５１ｔｍの光を
この光ファイバに導入して測定したところ、過剰損失１
．３〜１．４ｄＢの値を得た。

実施例３実施例１と同様の方法で、第１１図に示したような半導
体チップの固定孔とファイバ固定溝とン有するガラス基
板を成形したのち、やはり実施例１と同様の方法で硝酸
アルミニウムを局部的に拡散して、第１１図の如き構造
の２分岐光回路基板を作製した。このようにして形成さ
れた孔にｌＸｌＸ０．２Ｊ！ＩＩ＋角の発光ダイオード
チップを挿入して固定し、また、石英系光ファイバを溝
に固定して、光多重回路を得た。この場合に、発光ダイ
オードからの出力光の光ファイバへの結合パワーは、そ
れぞれ、−１６，１ｄＢｍおよび−１７，３ｄＢｍであ
った。

実施例４、実施例３と同様の方法により、第１２図示の如き、半導
体レーザパッケージ２個と、径２．５ｍｗ中のコネクタ
プラグが嵌合可能な孔を有する多重光回路を作製した。

この場合に、光ファイバへの結合パワーは、２０回のプ
ラグの着脱において、それぞれ、−８，３ｄＢｍおよび
−９，１ｄ’Ｂｍであった。

実施例５゜ガラス基板（ＢＫ７）にマスクな被着してからチタンイ
オンを含む溶融塩に漬し、チタンをガラス基板中に拡散
させることにより３分岐元回路を得た。

次いで、マスクを除去したのちに、新たに光導波路の端
部に矩形の穴が来るように位置２合ゎせたマスクを取り
付けてプラズマエツチングを行い、光導波路の端部にフ
ァイバ取り付は用の溝のついた光回路を得た。この溝に
石英系光ファイバを固定した後にλ−０，８５ａｍの光
を導入して測定したところ、１．４〜１．６ｄＢの過剰
損失を得た。

〔効　果〕

以上説明したように、本発明においては、ガラス基板内
に光導波路および光ファイバや光学素子などの光部品の
保持部を一体に形成した構造になっているので、光導波
路と光部品の端部との接続にあたってアライメントが不
要となり、きわめて容易に接続を行うことができ、しか
もまた、接続部の機械的安定性が向上する利点がある。

本発明の製造方法においては、ゾルゲル法によって任意
所望の形状のガラス基板を得ることができるので、光回
路の製造がきわめて容易であり、かつ量産に好適である
。さらにまた、低伝搬損失の導波路を構成できる利点が
ある。さらにまた、基板がガラスであるときには１石英
系の光ファイバを融着固定できる利点もある。したがっ
て、本発明によれば、光伝送のために必要な光分岐素子
。

光カプラ、あるいは多重化や分波等を行なうための各種
光回路部品を製造することができる・

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の光回路を示す斜視図、く２第２図および第３図は本発明光回路の実施例を示すそれ
ぞれ、斜視図および断面図、第４図は本発明光回路の他の例を示す斜視図。第５Ａ、５Ｂ図、第６Ａ、６Ｂ図、第７Ａ。７Ｂ、７０図および第８Ａ、８Ｂ図は、本発明光回路の
製造方法の工程の３例の説明図。第９Ａ、ｇＢ、ｇｃおよび９Ｄ図は本発明光回路の製造
方法の他の工程例の説明図、第１ＯＡ、ＩＯＢ、ＩＯＣおよびＩＯＤ図は本発明先回
路の製造方法の更に他の工程例の説明図、第１１および
第１２図は本発明光回路の更に他の２実施例を示す斜視
図である。１１・・・ガラス基板、１２・・・光導波路、１２Ａ、１２Ｂ・・・導波路端部、１３．１４．１５・・・光ファイバ、２１・・・ガラス基板、２２・・・光導波路。２３Ａ、２３Ｂ・・・光フアイバ固定溝、２４．２５・
・・光ファイバ、２４Ａ、２５Ａ・・・コア部、２６・・・光導波路の断面、３１・−・ガラス基板、３２・・・低段差部、３３・・・光導波路、３４Ａ、３４Ｂ、３４Ｃ・・・光フアイバ固定溝、３５
．３６．３７・・・光ファイーバ、４１・・・金属アル
コレート、水、有機浴媒からなる浴液、４２・・・良、４３・・・ガラス基板、４４Ａ、４４Ｂ・・・ファイバ固定溝、４５・・・マス
ク、４５Ａ・・・光導波路パターンに対応するマスク開口、４６・・・光導波路、４６′・・・光導波路、５１・・・型、５２・・・凹部、５３Ａ、５３Ｂ・・・凸部、５４・・・ガラス基板１５５・・・光導波路となる凸部、５５′・・・光導波路、５６Ａ、５６Ｂ・・・ファイバ固定溝、５７・・・マス
ク、６１・・・ガラス基板。６２・・・光導波路形成用溝、６３Ａ、６３Ｂ・−・光フアイバ素線固定用溝。６４Ａ、６４Ｂ・・・光ファイバの被覆され　□た心線
部固定用溝、６５・・・光導波路。６６．６７・・・光ファイバ、６８．６９・・・光フアイバ素線、　許７１・・・ガラ
ス基板、　４７２・・・ファイバ固定溝、７３・・・チップ固定孔、７４・・・光導波路、７５・・・光ファイバ・７６・・・半導体チップ（受光累子）。７７・・・受光部。８１・・・ガラス基板、８２・・・光導波路、Ｂ３・・・プラグ挿入孔、Ｂ４・・・パッケージ固定孔、！３５・・・パッケージ、３６・・・半導体チップ、３７・・・コネクタプラグ、３８・・・光ファイバ。３８Ａ・・・光フアイバ素線。出願人　日本電信電話公社第３図第７Ｃ図第９Ａ図　第９Ｂ図５６Ａ第９Ｃ図　第９Ｄ図６４Ａ（６４Ｂ＞

Claims

【特許請求の範囲】１）基板と、該基板上に光部品の端部を保持し得る形状に形成された
端部受容部と、該端部受容部と連なり、前記端部と光学的に一致するよ
うに配置された光導波部とを具備したことを特徴とする
光回路。２）基板と′、該基板上に光部品の端部を保持し得る形
状に形成された端部受容部と、該端部受容部と連なり、
前記端部と光学的に一致するように配置された光導波部
とを有する光回路を製造するにあたり、前記端部受容部
を有するガラス基板を形成する工程と、前記ガラス基板内あるいは前記ガラス基板上の定められ
た位置に光導波部を形成する工程とを具備したことを特徴とする光回路の興造方法。３）特許請求の範囲第２項記載の方法において、金属ア
ルコレート溶液を所定の型と一定時間接触させながらゲ
ル化させる工程と、前記型を離型してゲル化した基板材
料を乾燥させてガラス基板を得る工程と、該工程によって形成されたガラス基板内の一部に不純物
を添加して固定する工程とを有することを特徴とする光
回路の製造方法。４）％許請求の範囲第２項記載の方法において、金属ア
ルコレート溶液を所定の型と一定時間接触させながらゲ
ル化させる工程と。前記型を離型してゲル化した基板材料を乾燥させてガラ
ス基板を得る工程と、該工程によって形成されたガラス基板上の一部に、該ガ
ラス基板よりも高屈折率の物質を付着させる工程とを有することを特徴とする光回路の製造方法Ｏ５）特許請求の範囲第２項ないし第４項のいずれかの項
に記載の方法において、前記光部品を前記ガラス基板に
形成された前記端部受容部に固定する工程を有すること
を特徴とする光回路の製造方法。６）特許請求の範囲第２項ないし第４項のいずれかの項
に記載の方法において、前記光部品を前記端部受容部に
嵌合した後に前記ガラス基板に融着固定する工程を有す
ることを特徴とする光回路の・製造方法。（以下余白）