JP7846423B2 - 光モジュールおよび光モジュールの製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、光センシング等に用いられる可視光などの高エネルギーな光に耐性がある、平面光波回路と光ファイバとが光接続された光モジュールおよび光モジュールの製造方法に関する。

近年、これまで通信で用いられてきた光デバイスの、非通信分野への応用が求められている。中でも、石英系の平面光波回路（以下、ＰＬＣ：Planer Lightwave Circuit）などの導波路型光素子を基本とした光デバイスは、既存のバスクオプティクス型光素子の性能を超える可能性があるとして、ディスプレイ・ライフサイエンス・量子・宇宙等分野への適用が期待されており、石英系ＰＬＣの可視波長対応・高出力化・小型化・低コスト化が重要な課題となっている。

石英系ＰＬＣは、フォトリソグラフィやドライエッチングといった半導体プロセスの技術を応用し、石英基板やシリコン基板等の上に、コアおよびクラッドからなる光導波路を形成したものである。光を分岐するスプリッタや、光信号の経路を切り替える光スイッチ、また光源となるレーザや変調器なども広義のＰＬＣで実現される。通常、ＰＬＣは単体で利用されるよりも光ファイバを光の入出力端に接続した状態で利用される。

図１を用いて、ＰＬＣと光ファイバを接続する方法の一例を説明する。図１には、レーザ光源（ＬＤ）１１と、ＬＤに接続された光ファイバ１２と、光ファイバ１２から入力された光を伝搬して出力するＰＬＣ１３と、光ファイバ１２をＰＬＣ１３に固定するためのファイバブロック１４と、ＰＬＣ１３からの出射光を受光するフォトダイオード１６とを備えた光モジュール１０が示されている。ＰＬＣ１３とファイバブロック１４との間は、通常、ＵＶ硬化樹脂接着剤１５で接着されている。ＵＶ硬化樹脂接着剤は硬化時間が短く、光ファイバとＰＬＣとの相対位置を維持した状態のまま接続することができ、相対位置を精度よく合わせて光ファイバをＰＬＣに固定することができるため、一般的に用いられている。ファイバブロックは、ＰＬＣに対して接着面積を得るために光ファイバの先端に設置される。ファイバブロックとしては、Ｖ溝基板やキャピラリ等のガラス部材を用いるのが一般的である。

光ファイバとＰＬＣとの相対位置は、ＰＬＣと光ファイバとを微動調芯装置に固定した後、光ファイバが挿入されたファイバブロックをＰＬＣに近接させた状態でＵＶ硬化樹脂接着剤を接続隙間に塗布した後に、ＰＤの受光強度が最大になるようにサブミクロンオーダーの精度で調整することによって決定される。その後、ＵＶ光を照射してＵＶ硬化樹脂接着剤を硬化させることにより、光ファイバおよびＰＬＣを固定する。このように、光ファイバとＰＬＣとの接続には、ＵＶ硬化樹脂接着剤を用いるのが一般的である（例えば、特許文献１：特開２０１４－０４８６２８号公報）。

しかし、このＵＶ硬化樹脂接着剤は、高エネルギーな可視光を吸収して劣化してしまうことが知られている。この劣化を抑制するため、ＰＬＣと光ファイバの接着部において、光が通過しない部分のみをＵＶ硬化樹脂接着剤で固定しておき、光が通過する部分を空隙にしておく接続方法が取られる。しかし、この接続方法では、光が通過する空隙部分に集塵現象が生じ、接続損失が増大してしまうという問題がある。

そこで、特許文献２（特開２０１８－１９４８０２号公報）に示されているように、接着部の光が通過する部分にガラスを充填する方法が提案されている。

図２は、特許文献２に記載されている光モジュール２０を示している。光モジュール２０は、光ファイバ２１と光ファイバ２１と接続されるＰＬＣ２２と、光ファイバ２１を挿入・固定するファイバブロック２３と、ＰＬＣ２２とファイバブロック２３との接続端面間において光ファイバ２１およびＰＬＣ２２間で入出力される光が通過しない部分を接着・固定するＵＶ硬化樹脂接着剤層２４と、ＰＬＣ２２とファイバブロック２３との接続端面間において光ファイバ２１およびＰＬＣ２２間で入出力される光が通過する部分を接着・固定するガラス層２５と、を備えている。この光モジュール２０のガラス層２５は、例えば、液相合成法で生成される。液相合成法の簡単な方法の一つとして、ポリシラザンをガラス前駆体として用いる方法などがある。ポリシラザンは［（Ｒ₁）（Ｒ₂）Ｓｉ－Ｎ（Ｒ₃）］（Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃＝水素、アルキル基、ビニル基）を基本ユニットとするポリマー材料であり、水と反応することによりＳｉＯ₂ガラスに転化するため、高エネルギーな光
への耐性がある。

しかし、ポリシラザンの種類によっては、ファイバやファイバブロックの材質に対する濡れが悪くはじいてしまうことがあり、特許文献２に示されるような数マイクロメートル幅の空隙部分にポリシラザンを滴下し、光軸部に充填する作業を安定して行なうことが困難であった。また、充填できたとしても、特許文献３（特開２０１３－００１７２１号公報）に示されているように、ポリシラザンの硬化収縮率が大きく、硬化後にエアギャップやボイドが発生し、光軸部にＳｉＯ₂ガラス層を形成することが困難であった。また、充
分に充填するためにポリシラザンの滴下量を増やしたとしても、光軸部以外にもポリシラザンが侵入してしまうことから、硬化収縮により応力がかかり、硬化後に光軸がずれてしまうという問題があった。

さらに、ＳｉＯ₂ガラスへの転化温度を下げるため、ポリシラザンには脱水素および酸
化触媒であるＰｂ化合物や水分との反応を促進させるアミン系の触媒がドーパントとして添加されていることが多いが、これらの触媒は高エネルギーな可視光を吸収することが多く、硬化後に十分に揮発させる必要がある。しかし、光軸部（ファイバ部）を含めたファイバブロックとＰＬＣとの間にあるポリシラザンの触媒を揮発させるには時間がかかる。その理由は、揮発させたい光軸部（ファイバ部）のポリシラザンが、ファイバブロックとＰＬＣとの間のポリシラザン充填領域の中央付近という揮発しにくい位置にあることによる。ここで、ポリシラザンは、反応を促進させる触媒が添加されていたとしてもＵＶ硬化樹脂接着剤のような短い時間で硬化させることは難しいため、ＵＶ硬化樹脂接着剤の代用としてポリシラザンを用いることが困難であることは言うまでもない。

以上のように、従来の光接続技術では、可視光などの高エネルギーな光を伝搬させると、光接続部に用いるＵＶ硬化樹脂接着剤が劣化したり、光接続部が空隙の場合は集塵現象が生じたり、空隙部分をガラスで充填しようとしても、上述したように実際には困難であった。そのため、従来の光モジュールの光接続技術では、安定でかつ長期信頼性のある光接続が実現できないという問題があった。

本開示は、上記課題に鑑みてなされたものであり、高エネルギーな可視光に耐性がある光モジュールおよび光モジュールの製造方法を提供することを目的とする。

特開２０１４－０４８６２８号公報 特開２０１８－１９４８０２号公報 特開２０１３－００１７２１号公報

このような目的を達成するために、本開示の一実施態様の光モジュールは、１または複数の光ファイバと、１または複数の光ファイバと光接続される平面光波回路と、１または複数の光ファイバが挿入・固定されたファイバブロックと、光ファイバと平面光波回路とを接着・固定するガラス層と、ファイバブロックと平面光波回路とを接着・固定する接着剤層と、を備えた光モジュールであって、ガラス層は、光ファイバの端面部と平面光波回路との間にのみ設けられており、ファイバブロックは、光ファイバと平面光波回路との接続部が露出するように構成された開口部をその上面に備え、接着剤層は、ファイバブロックの端面と平面光波回路との間のみに設けられ、開口部には設けられてないことを特徴とする。

また、本開示の一実施態様の光モジュールの製造方法は、ファイバブロックに挿入・固定された１または複数の光ファイバと平面光波回路とが光接続された光モジュールの製造方法であって、ファイバブロックに光ファイバを挿入する工程と、光ファイバの端面部にガラス前駆体材料を塗布する工程と、微動調芯装置を用いて、光ファイバと平面光波回路との位置を調整し、光ファイバの端面部に塗布されたガラス前駆体材料を平面光波回路に接触させる工程と、ガラス前駆体材料を半硬化し、光ファイバと平面光波回路とを仮接着・仮固定する工程と、ファイバブロックを平面光波回路端面に接着・固定すると同時にファイバブロックと光ファイバを接着・固定する工程と、光ファイバと平面光波回路との間のガラス前駆体材料を本硬化させる工程と、を含むことを特徴とする。

図１は、ＰＬＣと光ファイバを接続する方法の従来例を説明するための図である。 図２は、ＰＬＣと光ファイバを接続する方法の他の従来例を説明するための図である。 図３は、本開示の第１の実施例に係る光モジュールの横断面図である。 図４は、本開示の第１の実施例に係る光モジュールにおけるＰＬＣとファイバブロックを分離した状態の斜視図である。 図５は、本開示の各実施例に係る光モジュールの製造方法における光ファイバとＰＬＣの接続工程を示すフローチャートである。 図６は、本開示の各実施例に係る光モジュールの接続工程における光ファイバ端面へのガラス前駆体材料の塗布方法の例を説明する図である。 図７は、本開示の第２の実施例に係る光モジュールの横断面図である。 図８は、本開示の第２の実施例に係る光モジュールにおけるＰＬＣとファイバブロックを分離した状態の斜視図である。 図９は、本発明の第３の実施例に係る光モジュールの横断面図である。

以下、図面を参照しながら本開示の実施形態について詳細に説明する。

（実施例）
図３は、本開示の第１の実施例に係る光モジュール１００の横断面図である。図３には、光ファイバ１０１と、光ファイバ１０１と光接続されるＰＬＣ１０２と、光ファイバを挿入・固定するファイバブロック１０３と、光ファイバ１０１とＰＬＣ１０２とを接着・固定するガラス層１０４と、ファイバブロックとＰＬＣとを接着・固定する接着剤層１０５と、を備えた光モジュール１００が示されている。図３では、簡略化のため、ＰＬＣの入力側のみに光ファイバを接続する際の構成を示している。

ファイバブロック１０３は、図４に示すように、光ファイバを配置するＶ溝１０８が形成されたＶ溝板１０６と、上板１０７、およびそれらを固定する接着剤層１０９から構成されている。ファイバブロックには光ファイバとＰＬＣとの接続部が露出するよう５０μｍ長の開口部１１０が設けられている。また、開口部１１０とは反対側のファイバ挿入部も同じ構造となっている。このようにファイバブロックの前後の形状を同じとしておけば、ファイバブロックを接続する場合に、ファイバブロックの前後方向を気にせず用いることができる。ＰＬＣ１０２は、Ｓｉ基板１１１上でコア１１２層をクラッド１１３層で埋め込んだ埋め込み型導波路構造を有する。

図３に示すように、本開示の実施例においては、ガラス層１０４は、光ファイバ端面部とＰＬＣとの間のみに設けられており、ガラス層１０４は、液相合成法で生成される。液相合成法としては、例えば、液体原料が重合することによりゲル状になりこれを室温放置または焼成することにより硬化させてガラスを生成するゾル－ゲル法や、ゾル－ゲル法の一種でありポリシラザンを室温放置または焼成することにより硬化させてガラスを生成するポリシラザン法や、液体原料が加水分解することにより硬化してガラスを生成する液相析出法を用いることができる。本実施例では、ガラス層の前駆体材料は、ポリシラザンを用いている。ポリシラザンのようなＳｉＨ₂ＮＨを基本ユニットとする無機ポリマー材料
の他に、例えば、シリコンアルコシド（Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄）を主成分とするものやケイ
フッ化水素（Ｈ₂ＳｉＦ₆）を主成分にするものなどを用いることができる。接着剤層１０５は、ＵＶ硬化樹脂接着剤をはじめ、熱硬化型接着剤、２液性接着剤等の硬化時間が短い接着剤を用いて形成することができる。

以下、本開示の各実施例に係る光モジュールの製造方法を説明する。

（ＰＬＣの作製）
ＰＬＣは、例えば、次の手順で作製することができる。Ｓｉ基板上に厚さ２０μｍの石英ガラスで構成されたアンダークラッド層と、Ｇｅドープにより屈折率を高めた厚さ３μｍの石英ガラスで構成されたコア層と、を順に堆積する。一般的な露光現像技術およびエッチング技術により、コア層を光導波路のパターンに成形する。その後、石英ガラスで構成されたオーバークラッド層を２０μｍ積層して光導波路を形成した後に、ウエハをカットし、１０．０ｍｍ×１０．０ｍｍのサイズのチップを切り出すことにより、石英系のＰＬＣが作製される。

（ファイバブロックの作製）
ファイバブロックは、例えば、次の手順で作製することができる。厚さ１．０ｍｍ、５．０ｍｍ×５．０ｍｍのサイズのガラス板にφ１２５μｍのファイバ固定用のＶ溝を機械加工により形成し、Ｖ溝板を作製する。次に、厚さ０．５ｍｍ、５．０ｍｍ×４．９ｍｍのサイズのガラス板を用意し、先に作製したＶ溝板の中央に接着剤で固定する。このとき、酸素阻害性のある接着剤を用いれば、Ｖ溝部に接着剤が流入したとしても硬化しないので、硬化後にエタノールで洗浄することでＶ溝部に流入した接着剤を除去することができる。

（ＰＬＣと光ファイバとの接続工程）
図５は、本開示の各実施例に係る光モジュールの製造方法における光ファイバとＰＬＣの接続工程を示すフローチャートである。図５を参照して、光ファイバとＰＬＣの光導波路との接続工程について説明する。

予めファイバブロックに光ファイバを挿入する（２０１）。その後、ＰＬＣと光ファイバとを微動調芯装置に固定する（２０２）。

光ファイバの先端部の端面にガラス前駆体材料（この例ではポリシラザン）を塗布する（２０３）。なお、光ファイバの端面にガラス前駆体材料を塗布（２０３）してから、光ファイバをファイバブロックに挿入（２０１）し、その後にＰＬＣと光ファイバとを微動調芯装置に固定（２０２）してもよい。

光ファイバの先端部の端面へのガラス前駆体材料（ポリシラザン）の塗布は、例えば、図６で示す手順で実施することができる。図６は光ファイバ端面へのガラス前駆体材料の塗布方法の例を示す図である。ガラス板３０１上にガラス前駆体材料３０２、具体的には、例えば、ポリシラザンを滴下し、ガラス板３０１を予備加熱してガラス前駆体材料３０２に含まれる触媒をある程度揮発させておく。ここでは、ガラス板３０１上の滴下したポリシラザン３０２が、ガラス板を垂直に置いたとしても液垂れしない状態を目安とした。その後に、微動調芯装置にガラス板３０１を固定し、予め微動調芯装置に固定してあった光ファイバ３０３をガラス板３０１のポリシラザン３０２に突き当てることによって、光ファイバ３０３の端面にポリシラザンを塗布することができる。なお、図６においては、ファイバブロック３０４に挿通された光ファイバ３０３の本数は１本のものが例示されているが、ファイバブロックに複数本の光ファイバが挿通されている場合であっても同様の方法により、一度に光ファイバの端面にガラス前駆体材料を塗布することができる。

図５に戻り、光ファイバの先端部の端面にガラス前駆体材料であるポリシラザンを塗布（２０３）した後、微動調芯装置を用いてＰＬＣと光ファイバとの位置を調整することで、光ファイバの端面に塗布したガラス前駆体材料をＰＬＣ側に接触させる（２０４）。具体的には、微動調芯装置上でＰＬＣと光ファイバとの光軸合わせのため位置を調整し、ＰＬＣと光ファイバ間の距離を１μｍ程度まで近付け、光ファイバ端面に塗布したポリシラザンをＰＬＣ側に接触させるようにすればよい。

その後、局所加熱可能なヒーターを用い、ガラス前駆体材料を半硬化させて、ＰＬＣと光ファイバとを仮接着・仮固定する（２０５）。ここでは、例えば、１５０℃で約５分間加熱することでポリシラザンを半硬化させる。

その後、ファイバブロックとＰＬＣとを接着・固定すると同時にファイバブロックと光ファイバとを接着・固定する（２０６）。具体的には、ファイバブロック側にＵＶ硬化樹脂接着剤を塗布し、予め光ファイバを挿入してあったファイバブロックをＰＬＣとの接続部まで移動させ、ファイバブロックをＰＬＣに接触させ、ＵＶ光を照射して硬化することにより行なえばよい。このとき、ＵＶ硬化樹脂接着剤は毛細管現象によりファイバブロックのＶ溝にも広がるので、ＰＬＣとファイバブロックを固定すると同時に、光ファイバとファイバブロックも固定することができる。

接着・固定したＰＬＣと光ファイバおよびファイバブロックとを微動調芯装置から取り外した後、電気炉を用いてガラス前駆体材料を本硬化させた（２０７）。ここでは、１５０℃、４８時間加熱することによってポリシラザンを本硬化させた。ここで、仮にポリシラザンの硬化収縮により光軸部にガラス層が形成されなかったとしても、本開示の各実施例においては、ファイバブロックに設けた開口部により、光ファイバとＰＬＣの接続部分が大きく露出しているため、ファイバブロックの開口部からポリシラザンを滴下して、再度加熱することで、ガラス層を形成することができる。
以上のようにして、本開示の各実施例に係る光モジュールを製造することができる。

このように、本開示の製造方法においては、まず光ファイバの端面部のみにガラス前駆体材料を塗布し、光ファイバ端面とＰＬＣとを接触させて半硬化させることで仮接着・仮固定し、ファイバブロックとＰＬＣおよびファイバブロックと光ファイバをＵＶ硬化樹脂接着剤で同時に接着・固定した後に、熱処理によりガラス前駆体材料を本硬化させている。これにより、光ファイバとＰＬＣとを接着・固定するガラス層は、光ファイバ端面部とＰＬＣとの間にのみ形成される。したがって、本実施の形態の光モジュールはいずれも光ファイバとＰＬＣの接続部分はガラス層で形成されることから、高エネルギーな可視光に耐性がある光モジュールとなる。

また、本開示の各実施例の光モジュールのガラス前駆体の塗布領域は光ファイバ端面部のみである。これにより、例えば、標準的な光ファイバの場合には、ガラス駆動体の塗布領域はφ１２５μｍ程度の微小な領域のみとできることから、硬化収縮起因の応力による光軸ずれを抑制することができる。

加えて、ガラス前駆体材料の仮硬化時には外部から局所加熱し、本硬化時には電気炉により加熱しているが、本開示の各実施例のファイバブロックには、光ファイバとＰＬＣとの接続部を露出させる開口部が設けられているので、効果的に加熱が行える。また、開口部により光ファイバとＰＬＣとの接続部が露出していることから、加熱時および硬化後に効率的にガラス前駆体材料に添加されている触媒を揮発させることができる。

なお、上記においては、ガラス前駆体材料の硬化は、半硬化時、本硬化時のいずれも加熱により行っているが、いずれか一方または両方の硬化は、ガラス前駆体材料を室温で放置することにより行なってもよい。

さらに、図６の光ファイバ端部へのガラス前駆体材料の塗布方法を用いる場合は、光ファイバへ塗布するガラス前駆体材料は、触媒をある程度揮発させた状態で用いられるから、硬化収縮によるエアギャップやボイドの発生がさらに低減される。

（第２の実施例）
本開示の第１の実施例では、Ｖ溝板と上板からなるファイバブロックを用いたが、図７および図８に示すように、ファイバブロックは、キャピラリを用いることもできる。

図７は本発明の第２の実施例に係るファイバブロックとしてキャピラリを用いた光モジュール４００の横断面図である。図７には、光ファイバ４０１と、光ファイバ４０１と光接続されるＰＬＣ４０２と、光ファイバを挿入・固定するファイバブロック４０３と、光ファイバ４０１とＰＬＣ４０２とを接着・固定するガラス層４０４と、ファイバブロックとＰＬＣとを接着・固定する接着剤層４０５と、を備えた光モジュール４００が示されている。図７でも、簡略化のため、ＰＬＣの入力側のみに光ファイバを接続する際の構成を示している。

ファイバブロック４０３には、図８に示すように、光ファイバ４０１が貫通する孔４０８が形成されている。また、ファイバブロック４０３には光ファイバとＰＬＣとの接続部が露出するよう５０μｍ長の開口部４１０が設けられている。この開口部は、キャピラリのファイバ挿入口の上半分を、機械加工により除去するようにして製造することができる。また、開口部４１０とは反対側のファイバ挿入部も同じ構造となっている。ＰＬＣ４０２は、図５の第１の実施例と同様に、Ｓｉ基板４１１上でコア４１２層をクラッド４１３層で埋め込んだ埋め込み型導波路構造を有するものである。

この第２の実施例においても、図７に示すように、ガラス層４０４は、光ファイバ端面部とＰＬＣとの間にのみに設けられている。

（第３の実施例）
続いて、図９を参照して、本開示の第３の実施例に係る光モジュールを説明する。

図９には、光ファイバ５０１と、光ファイバ５０１と光接続されるＰＬＣ５０２と、光ファイバを挿入・固定するファイバブロック５０３と、光ファイバ５０１とＰＬＣ５０２とを接着・固定するガラス層５０４と、ファイバブロックとＰＬＣとを接着・固定する接着剤層５０５と、を備えた光モジュール５００が示されている。図９でも、簡略化のため、ＰＬＣの入力側のみに光ファイバを接続する際の構成を示している。また、第１の実施例と同様に、ファイバブロック５０３は、光ファイバを配置するＶ溝が形成されたＶ溝板５０６と、上板５０７、およびそれらを固定する接着剤層から構成されている。ファイバブロックには光ファイバとＰＬＣとの接続部が露出するよう５０μｍ長の開口部５１０が設けられている。また、開口部５１０とは反対側のファイバ挿入部も同じ構造となっている。この実施例においても、図９に示すように、ガラス層５０４は、光ファイバ端面部とＰＬＣとの間のみに設けられている。この実施例では、ＰＬＣ５０２の上面と上板５０７とを接着するための接着補強板５１５が設けられている。これにより、ファイバブロックとＰＬＣの接着強度を向上させることができる。

上記の第２および第３の実施例に係る光モジュールも上述した第１の実施例に係る光モジュールの製造方法により製造することができる。

上述した本開示の実施例に係る光モジュールの製造方法では、ガラス前駆体材料を半硬化させることにより光ファイバをガラス前駆体材料によりＰＬＣに仮接続し、その後にファイバブロックとＰＬＣおよびファイバブロックと光ファイバをＵＶ硬化樹脂接着剤で同時に固定してから熱処理によりガラス前駆体材料を本硬化させている。このうち、ＵＶ硬化樹脂接着剤での固定と本硬化は、微動調芯装置を用いた光軸調整が完了した後に行われるから、微動調芯装置を用いた光軸調整を必要とせず、複数の光ファイバについてまとめて実施できるので、量産性が大きく低下するものではない。
よって、本開示の光モジュールの製造方法により、ガラス前駆体材料の利点を生かした高エネルギーな光に耐性のある光接続の安定的な製造を実現できた。従って、本開示は、ＰＬＣの適応先拡大に大きく貢献するものである。

なお、本開示の上記各実施例の光モジュールとして、簡略化のため、ＰＬＣの入力端に１本の光ファイバを接続した構成を例示しているが、これに限定されず、ＰＬＣの出力端にも光ファイバを接続した構成とすることができる。また、ファイバブロックに複数の光ファイバを挿入・固定するための複数のＶ溝や挿通孔を形成し、ＰＬＣに複数本の光導波路を形成して、その入出力端にそれぞれ複数の光ファイバを接続した構成とすることができる。さらに、ファイバブロックを複数用いてＰＬＣの入出力端にそれぞれ複数の光ファイバを接続することもできる。

本開示により、高エネルギーな可視光に耐性がある光モジュールおよび光モジュールの製造方法を提供することができる。

Claims (8)

1. １または複数の光ファイバと、
   前記１または複数の光ファイバと光接続される平面光波回路と、
   前記１または複数の光ファイバが挿入・固定されたファイバブロックと、
   前記光ファイバと前記平面光波回路とを接着・固定するガラス層と、
   前記ファイバブロックと前記平面光波回路とを接着・固定する接着剤層と、
   を備えた光モジュールであって、
   前記ガラス層は、前記光ファイバの端面部と前記平面光波回路との間にのみ設けられており、
   前記ファイバブロックは、前記光ファイバと前記平面光波回路との接続部が露出するように構成された開口部をその上面に備え、前記接着剤層は、前記ファイバブロックの端面と前記平面光波回路との間にのみ設けられ、前記開口部には設けられていない、
   ことを特徴とする光モジュール。
2. 前記ファイバブロックは、前記光ファイバを配置するＶ溝が形成されたＶ溝板と、上板と、前記Ｖ溝板と前記上板を固定する接着剤層とから構成されていることを特徴とする請求項１に記載の光モジュール。
3. 前記ファイバブロックは、前記光ファイバを挿入する孔部を有した一体型のキャピラリから構成されていることを特徴とする請求項１に記載の光モジュール。
4. 前記ファイバブロックは、前記開口部とは反対側のファイバ挿入部において、前記開口部と同じ構造を備えていることを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の光モジュール。
5. 前記ファイバブロックの開口部は、前記ファイバブロックの端部から前記ファイバブロックの長手方向に５０μｍ以上開口していることを特徴とする請求項１～３のいずれか一項に記載の光モジュール。
6. ファイバブロックに挿入・固定された１または複数の光ファイバと平面光波回路とが光接続された光モジュールの製造方法であって、
   前記ファイバブロックに前記光ファイバを挿入する工程と、
   前記光ファイバの端面部にガラス前駆体材料を塗布する工程と、
   微動調芯装置を用いて、前記光ファイバと前記平面光波回路との位置を調整し、前記光ファイバの前記端面部に塗布された前記ガラス前駆体材料を前記平面光波回路に接触させる工程と、
   前記ガラス前駆体材料を半硬化し、前記光ファイバと前記平面光波回路とを仮接着・仮固定する工程と、
   前記ファイバブロックを前記平面光波回路の端面に接着・固定すると同時に前記ファイバブロックと前記光ファイバを接着・固定する工程と、
   前記光ファイバと前記平面光波回路との間の前記ガラス前駆体材料を本硬化させる工程と、
   を含むことを特徴とする光モジュールの製造方法。
7. 前記光ファイバの端面部に前記ガラス前駆体材料を塗布する工程が、
   ガラス板上に前記ガラス前駆体材料を滴下する工程と、
   前記ガラス前駆体材料が滴下された前記ガラス板を予備加熱する工程と、
   前記ガラス板を前記微動調芯装置に取り付けて、前記微動調芯装置を用いて前記光ファイバを前記ガラス板に塗布された前記ガラス前駆体材料に接触させる工程と、
   を含むことを特徴とする請求項６に記載の光モジュールの製造方法。
8. 前記ガラス前駆体材料の前記半硬化および／または前記本硬化が、室温で前記ガラス前駆体材料を放置することによりまたは、前記ガラス前駆体材料を加熱することにより行われることを特徴とする請求項６に記載の光モジュールの製造方法。