JPS608340A - 加硫可能なゴム組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は改善された物理的性質を有するゴム加硫物に関
する。
する。
硫黄および加硫促進剤と共に加熱することkよるジエン
ゴムの加硫法は昔から知られている。
ゴムの加硫法は昔から知られている。
この方法によって、ある種の物理的性質例えば高水準の
引張シ強度、弾撥性(ルジリエンス)および疲労耐性金
得ることができる。しかしながらそのような加硫物は良
好な老化性を有していない傾向がある。酸化的熱老化を
遅延化させる酸化防止剤の重加とは別に、改善さt′L
、た老化性を有する加硫物を製造するために提案されて
いるその他の方法は、通常の硬化に対して使用さnるよ
シも一層低い比率の硫黄および増大さnた比率の促進剤
の使用および他の交叉結合剤による硫黄の一部または完
全な置換を包含する。
引張シ強度、弾撥性(ルジリエンス)および疲労耐性金
得ることができる。しかしながらそのような加硫物は良
好な老化性を有していない傾向がある。酸化的熱老化を
遅延化させる酸化防止剤の重加とは別に、改善さt′L
、た老化性を有する加硫物を製造するために提案されて
いるその他の方法は、通常の硬化に対して使用さnるよ
シも一層低い比率の硫黄および増大さnた比率の促進剤
の使用および他の交叉結合剤による硫黄の一部または完
全な置換を包含する。
そのような交叉結合剤の例としては、アミンジサルファ
イド例えば英国特許第1.40.9,953号および米
国特許第5.847.880号各明#ll+書記載のN
、N’−’)チオジモルホリン、ビス(スルフェンアミ
ド)および英国特許第1,388,279号明細書記載
の有機架橋形成性基Kxシ結合された2個またはそれ以
上の促進作用基を包含する化合物があげられる。
イド例えば英国特許第1.40.9,953号および米
国特許第5.847.880号各明#ll+書記載のN
、N’−’)チオジモルホリン、ビス(スルフェンアミ
ド)および英国特許第1,388,279号明細書記載
の有機架橋形成性基Kxシ結合された2個またはそれ以
上の促進作用基を包含する化合物があげられる。
そのような別の系の使用により生成さ扛た加硫物はしか
し僅黄硬化加硫物のある種の利点を欠いている傾向があ
る。例えば硫黄対促進剤の比率の低下またはアミンジサ
ルファイドによる硫黄の一部または完全置換は劣った動
力学的性質を有する加硫物を与える。前記ビス(スルフ
ェンアミド)および2個またはそれ以上の促進作用基金
含有する化合物の使用は、促進剤活性を有する分子なら
びに交叉結合活性を有する分子種が加硫系中に放出され
そしてその結果父叉結合剤および促進剤が別々の成分と
して加えられた場合には可能である混和の変動自由度が
失わnること全意味する。
し僅黄硬化加硫物のある種の利点を欠いている傾向があ
る。例えば硫黄対促進剤の比率の低下またはアミンジサ
ルファイドによる硫黄の一部または完全置換は劣った動
力学的性質を有する加硫物を与える。前記ビス(スルフ
ェンアミド)および2個またはそれ以上の促進作用基金
含有する化合物の使用は、促進剤活性を有する分子なら
びに交叉結合活性を有する分子種が加硫系中に放出され
そしてその結果父叉結合剤および促進剤が別々の成分と
して加えられた場合には可能である混和の変動自由度が
失わnること全意味する。
本発明によれば、:)エンゴムの混和の間に硫黄および
加硫促進剤に加えである種の物質を加えることによって
、改善さnた性質を有する加硫物が得ら扛ることを発見
した。こnらの物質は%硬化後の長期間その加硫物の温
度が不可避的に烏く留まっている場合でさえも、そして
加硫物の使用寿命の間中その加硫物の性質を安定化させ
る効果t−Wシている。従ってここではこt’LL安定
剤物質と呼ばnる。
加硫促進剤に加えである種の物質を加えることによって
、改善さnた性質を有する加硫物が得ら扛ることを発見
した。こnらの物質は%硬化後の長期間その加硫物の温
度が不可避的に烏く留まっている場合でさえも、そして
加硫物の使用寿命の間中その加硫物の性質を安定化させ
る効果t−Wシている。従ってここではこt’LL安定
剤物質と呼ばnる。
本発明はジエンゴム、硫黄および加硫促進剤を包含しそ
して更に式 %式% 〔〔式中Bは有機架橋形成性基であり、セしてRは 中成 〔式中R1はR2たけ01〜6アルキルであシ、そして
R2およびR3はそれぞn独立してCB 、 C0N)
IR4。
して更に式 %式% 〔〔式中Bは有機架橋形成性基であり、セしてRは 中成 〔式中R1はR2たけ01〜6アルキルであシ、そして
R2およびR3はそれぞn独立してCB 、 C0N)
IR4。
00R5、0OOR5、802R5、000M fiた
はso2oMであり、このR4IfiH%01〜6アル
キル、フェニルまタハベンジルであp、15は01〜6
アルキル、フェニルまたはベンジルであシ、そしてR2
およびR5の一方はまたHであることができ%MはH%
i価の金属、多価金属の1当量、モノ酸窒素塩基から導
か扛たイオンまたはポリ酸窒素塩基か・ら導かれたイオ
ンの1当量を表わす〕を有する基、(式中M1は)I%
1価金属tたは多価金属の1当。
はso2oMであり、このR4IfiH%01〜6アル
キル、フェニルまタハベンジルであp、15は01〜6
アルキル、フェニルまたはベンジルであシ、そしてR2
およびR5の一方はまたHであることができ%MはH%
i価の金属、多価金属の1当量、モノ酸窒素塩基から導
か扛たイオンまたはポリ酸窒素塩基か・ら導かれたイオ
ンの1当量を表わす〕を有する基、(式中M1は)I%
1価金属tたは多価金属の1当。
量を表わし、R3およびR5は前記定義の通りであるが
ただしR5はHであることはできず、またはR5とR5
とは結合して閑状基全形成している〕を有する基、また
は 1ii)ON−またはC013 である〕または 含有する安定剤物質をも包含することを特徴とする加硫
性ゴム組成物を提供するものである。
ただしR5はHであることはできず、またはR5とR5
とは結合して閑状基全形成している〕を有する基、また
は 1ii)ON−またはC013 である〕または 含有する安定剤物質をも包含することを特徴とする加硫
性ゴム組成物を提供するものである。
本発明はま1ζ加伽温展で本発明の加硫n」能なゴム組
成物を加熱することによシ付られた加侃物をも包含する
。
成物を加熱することによシ付られた加侃物をも包含する
。
本発明による別個し物安定則として有用な物質の多くの
ものは航規である。そして本発明のその他の態様は、B
が5〜161固の炭素原子数のアルキレン丞または(”
1.6アルキレン)シクロアルキレンまたは(01〜6
アルキレン・)アルキルシクロアルキレン基であシそし
てRが R1がBであシそしてR2およびR5がそれぞれ独立し
てCN 、 C0NHR4、cooRs 、 802R
5であシそのR4がH,Ci〜6ミル6アルキルベンジ
ルであ夛そしてR5カC1〜6アルキル、フェニルまた
はベンジルである式(1)を有する基、 R1およびR2が共にHであシそしてR5が式−CH2
−C00Mを有する基であシ、Mが水素、1価金属また
は多価金属の1当量またはモノ酸窒素塩基から導かれた
イオンを表わしているがただしBが5〜16個の炭素原
子数を有するアルキレン基の場合にはMは水素またはア
ルカリ金属ではないような場合の式(1)を有する基、
Mlが水素、1価金属または多価金属の1当量を表わし
、R3がC0NHR4またはC0R5でそのR4がH1
C1〜6アルキル、フェニルまたはベンジルでありそし
てR5が01−6アルキル、フェニルまたはベンジルで
あるものを表わすかまたはR3およびR5が結合されて
いて各Rが式 (式中n′は2または3でありそして(OH2)n ’
基中の1個またはそn以上の水素原子はメチ/Lまたは
エチル基で置換さnていることができる)t−有する基
であるような式(lit ’e @する基、0CA3基
である前記式(al k有する化合物またはBが5〜1
6個の炭素原子のアルキレン基を表わし、R2およびR
5がそ扛ぞ扛独立してON。
ものは航規である。そして本発明のその他の態様は、B
が5〜161固の炭素原子数のアルキレン丞または(”
1.6アルキレン)シクロアルキレンまたは(01〜6
アルキレン・)アルキルシクロアルキレン基であシそし
てRが R1がBであシそしてR2およびR5がそれぞれ独立し
てCN 、 C0NHR4、cooRs 、 802R
5であシそのR4がH,Ci〜6ミル6アルキルベンジ
ルであ夛そしてR5カC1〜6アルキル、フェニルまた
はベンジルである式(1)を有する基、 R1およびR2が共にHであシそしてR5が式−CH2
−C00Mを有する基であシ、Mが水素、1価金属また
は多価金属の1当量またはモノ酸窒素塩基から導かれた
イオンを表わしているがただしBが5〜16個の炭素原
子数を有するアルキレン基の場合にはMは水素またはア
ルカリ金属ではないような場合の式(1)を有する基、
Mlが水素、1価金属または多価金属の1当量を表わし
、R3がC0NHR4またはC0R5でそのR4がH1
C1〜6アルキル、フェニルまたはベンジルでありそし
てR5が01−6アルキル、フェニルまたはベンジルで
あるものを表わすかまたはR3およびR5が結合されて
いて各Rが式 (式中n′は2または3でありそして(OH2)n ’
基中の1個またはそn以上の水素原子はメチ/Lまたは
エチル基で置換さnていることができる)t−有する基
であるような式(lit ’e @する基、0CA3基
である前記式(al k有する化合物またはBが5〜1
6個の炭素原子のアルキレン基を表わし、R2およびR
5がそ扛ぞ扛独立してON。
0ONHR4または0OOR5(式中R4はH%01〜
6アルキル、フェニルまたはベンジルで6り%R5は0
1〜6アルキル、フェニル筐たはベンジルである)であ
りそしてnは1〜5の平均値’tWしている)である前
記式(1)lをMする物質 である。
6アルキル、フェニルまたはベンジルで6り%R5は0
1〜6アルキル、フェニル筐たはベンジルである)であ
りそしてnは1〜5の平均値’tWしている)である前
記式(1)lをMする物質 である。
前記式においては、Bは例えば直鎖状または分枝鎖状ア
ルキレンまたはア次ケニレイ基、好ましくは2または5
〜40個の炭素原子を含有するもの、そしてより好まし
くは5〜16(IMの炭素原子を含有するものでありう
る。そのようfz%の例にエチレン、はンタメチレン、
へ、キサメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デ
カメチレン、ドデカメチレン% 5−1 fルー1a5
−ペンチレンおよヒ1.6−ヘキセ−2−工=vンであ
る。変形として、2価架檎形成性基は1個またはそn以
上のアリール例えはフェニル置換基を有するアルキレン
またはアルケニレン遅、でありうる。そのような基の例
は2−フェニル−1,4−ブチレンである。
ルキレンまたはア次ケニレイ基、好ましくは2または5
〜40個の炭素原子を含有するもの、そしてより好まし
くは5〜16(IMの炭素原子を含有するものでありう
る。そのようfz%の例にエチレン、はンタメチレン、
へ、キサメチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デ
カメチレン、ドデカメチレン% 5−1 fルー1a5
−ペンチレンおよヒ1.6−ヘキセ−2−工=vンであ
る。変形として、2価架檎形成性基は1個またはそn以
上のアリール例えはフェニル置換基を有するアルキレン
またはアルケニレン遅、でありうる。そのような基の例
は2−フェニル−1,4−ブチレンである。
あるいはまたBはシクロアルキレンまたはアルキレンシ
クロアルキレン基でアシうる。そのような基においては
、環は通常シクロベンチレンオたはシクロヘキシレンで
ある。アルキレンシクロアルキレン基中のアルキレン基
は例えば直鎖状″!、たは分枝鎖状に配列された1〜6
個の炭素原子を有しうる。またシクロアルキレンまたは
アルキレンシクロアルキレン基中の環がそnぞn典型的
には1〜4個の炭素原fを含有する5個までのアルキル
置換基例えばメチル、エチルまたにインプロピルを有し
ている基も包宮さnる。こnらシクロアルキレンおよび
アルキレンシクロアルキレン基のセ0は1,4−シクロ
ヘキシレン、(2’−エチレン)シクロヘキシレン基例
えば4(2′−エチレン)シクロヘキシレン、(2′−
エチレン)メチルシクロヘキシレン基例、tば4(2’
−エチレン)−6−メチルシクロヘキシレン、(2’−
インゾロ−ピレン〕シクロヘキシレン基および(2′−
インゾロピレン)メチルシクロヘキシレン基例えば2−
メチル−5(2′−イソプロピレン)シクロヘキシレン
である。
クロアルキレン基でアシうる。そのような基においては
、環は通常シクロベンチレンオたはシクロヘキシレンで
ある。アルキレンシクロアルキレン基中のアルキレン基
は例えば直鎖状″!、たは分枝鎖状に配列された1〜6
個の炭素原子を有しうる。またシクロアルキレンまたは
アルキレンシクロアルキレン基中の環がそnぞn典型的
には1〜4個の炭素原fを含有する5個までのアルキル
置換基例えばメチル、エチルまたにインプロピルを有し
ている基も包宮さnる。こnらシクロアルキレンおよび
アルキレンシクロアルキレン基のセ0は1,4−シクロ
ヘキシレン、(2’−エチレン)シクロヘキシレン基例
えば4(2′−エチレン)シクロヘキシレン、(2′−
エチレン)メチルシクロヘキシレン基例、tば4(2’
−エチレン)−6−メチルシクロヘキシレン、(2’−
インゾロ−ピレン〕シクロヘキシレン基および(2′−
インゾロピレン)メチルシクロヘキシレン基例えば2−
メチル−5(2′−イソプロピレン)シクロヘキシレン
である。
その他の場合には、Bは2個またはそ21以−ヒのアル
キレン単位全親含する構造を有しておりそしてそのよう
な単位の対は酸素またはll嘱黄原子により、基−aO
O−によ)またはアリーレンまたはシクロアルキレン基
にょ多結合さ扛ている。
キレン単位全親含する構造を有しておりそしてそのよう
な単位の対は酸素またはll嘱黄原子により、基−aO
O−によ)またはアリーレンまたはシクロアルキレン基
にょ多結合さ扛ている。
そのような構造の代表的なものは下肥式、−(OH2)
FL−0−(Ol(2)a−−(CH2)&−0−(O
H2)a’−0−(OH2)a−−(OH2)b−A−
(OH2)b”’−(cH2)。−coo−(ca2)
a−および−(O)L2)。−000−Y−000−(
OH2)。−(式中各a′および各Cは独立に1〜20
の整数を表わし、ai、j:2〜20の整数を表わし、
名すは独立に1〜10の整数を表わし、A)ユフェニレ
ンまたはシクロヘキシレンを表わしtそしてYは基−(
OH2)。−’!’だu & −(OH20H20)d
OH20H2−でそのdが1〜5の整数であるものを表
わす)のものである。aに対して好ましい値は2〜8で
あシ、bに対する好゛正しい値は1〜4でちゃそしてC
に対する釘葦しい値は1〜18、よp特定的には1〜1
2でおる。
FL−0−(Ol(2)a−−(CH2)&−0−(O
H2)a’−0−(OH2)a−−(OH2)b−A−
(OH2)b”’−(cH2)。−coo−(ca2)
a−および−(O)L2)。−000−Y−000−(
OH2)。−(式中各a′および各Cは独立に1〜20
の整数を表わし、ai、j:2〜20の整数を表わし、
名すは独立に1〜10の整数を表わし、A)ユフェニレ
ンまたはシクロヘキシレンを表わしtそしてYは基−(
OH2)。−’!’だu & −(OH20H20)d
OH20H2−でそのdが1〜5の整数であるものを表
わす)のものである。aに対して好ましい値は2〜8で
あシ、bに対する好゛正しい値は1〜4でちゃそしてC
に対する釘葦しい値は1〜18、よp特定的には1〜1
2でおる。
架橋形成性基Bのその俗の例は式
%式%)
)
(式中性Cは独立して1〜2o好址しくは6〜18、そ
してよシ好ましくは6〜12の値を■している)を有す
るものである。
してよシ好ましくは6〜12の値を■している)を有す
るものである。
a%bまた#−1tcの45+−が2を越えた場合には
、ポリメチレン基はは鎖状−またに分枝鎖状であシうる
。しかしほとんどの場合基−8−R−または−8−X−
が結合している末端炭素原子は第1級炭素原子である。
、ポリメチレン基はは鎖状−またに分枝鎖状であシうる
。しかしほとんどの場合基−8−R−または−8−X−
が結合している末端炭素原子は第1級炭素原子である。
2個またはそれ以上の単位が原子または基によって結合
されている、前記の種μ]の架橋形成性基中で硫黄原子
が結合しているアルキレン単位中の要素原子の至適数は
架橋形成性基の構造の残余部分に依存する。
されている、前記の種μ]の架橋形成性基中で硫黄原子
が結合しているアルキレン単位中の要素原子の至適数は
架橋形成性基の構造の残余部分に依存する。
その他の要求は、−8−B−8−基中の硫黄原子の相対
的位置がその安定剤物質含有ゴム組成物を加熱した場合
に有意の分子内閉環が生じうるようなものでおるべきで
はないということである。
的位置がその安定剤物質含有ゴム組成物を加熱した場合
に有意の分子内閉環が生じうるようなものでおるべきで
はないということである。
例えは架橋形成性基がトリメチレン葦ンζはテトラメチ
レンである化合物はほとんど安定MIJ活性全示す。そ
してこれはそのような化合物の閉場傾向の故であると信
じらnている。
レンである化合物はほとんど安定MIJ活性全示す。そ
してこれはそのような化合物の閉場傾向の故であると信
じらnている。
すなわち前記定義の化合物群においては槙りの程度の安
定剤活性が見出されるが、しかし以後に記載の計測法が
一般的でありそして従って特定の化合物が有用にゴム組
成物を安定化させるかどうかを決定することは当業者に
とっては簡単り実験の問題である。
定剤活性が見出されるが、しかし以後に記載の計測法が
一般的でありそして従って特定の化合物が有用にゴム組
成物を安定化させるかどうかを決定することは当業者に
とっては簡単り実験の問題である。
前記安定剤物質の式においてMおよびMlが1価の金T
h’t”=mわしている場合にはこれは例えばアルカリ
金跣例えばナトリウム、リチウムまたはカリウムであり
うる。ナトリウムが好ましいアルカリ全組である。Mま
たはMlはまた当gKおける多価金属例えばマグネシウ
ム、カルシウム、バ〜リウム、亜鉛、ニッケル、コバル
ト、アルミニウムまたは銅?!″表わしワる。
h’t”=mわしている場合にはこれは例えばアルカリ
金跣例えばナトリウム、リチウムまたはカリウムであり
うる。ナトリウムが好ましいアルカリ全組である。Mま
たはMlはまた当gKおける多価金属例えばマグネシウ
ム、カルシウム、バ〜リウム、亜鉛、ニッケル、コバル
ト、アルミニウムまたは銅?!″表わしワる。
Mがモノば窒業m基から導かれた11曲のイオンを表わ
している場合には、その窒索塙基はアンモニアまたはf
j’l卑な第1級、第2級または第3級アミンすなわち R6NH2、R6R7NH’Eた嬬R6R7R8N(式
中R6、R7およびR8の各々は独立してアルキル基例
えばol−20アルキルhi & 05〜9シクロアル
キルまたはアルキルシクロアルキル;¥−4911えば
シクロヘキシルまたはメチルシクロヘキシル、ベンジル
ノン、フェニル基また鉱ti 換フェニル基例えばトリ
ル゛またはクロロフェニル基を表わすが但しR6、R7
およびR8の1個以上のものがフェニルまたは置換フェ
ニル基であることf:l:ない)でありうる。
している場合には、その窒索塙基はアンモニアまたはf
j’l卑な第1級、第2級または第3級アミンすなわち R6NH2、R6R7NH’Eた嬬R6R7R8N(式
中R6、R7およびR8の各々は独立してアルキル基例
えばol−20アルキルhi & 05〜9シクロアル
キルまたはアルキルシクロアルキル;¥−4911えば
シクロヘキシルまたはメチルシクロヘキシル、ベンジル
ノン、フェニル基また鉱ti 換フェニル基例えばトリ
ル゛またはクロロフェニル基を表わすが但しR6、R7
およびR8の1個以上のものがフェニルまたは置換フェ
ニル基であることf:l:ない)でありうる。
好ましいアミンは比較的弱塩基性のものである。これら
としては弱塩基性/が窒系原すの1わυでの例えば第5
級アルキル基例えは4〜12個の炭素原子を含有する第
3級アルキル青例えば第5級ブチル、第3級アシルまた
は1,1,3.3−テトラメチルブチルの存在による立
体IIf害の結果であるようなアミンがあけらnる。そ
のようなアミンの例は第2級アミン16i7Naでその
R6およびR7の一方が第5級アルキル基でありそして
他方がベンジル基またはシクロヘキシルまたはアルキル
シクロヘキシル基であるものである。
としては弱塩基性/が窒系原すの1わυでの例えば第5
級アルキル基例えは4〜12個の炭素原子を含有する第
3級アルキル青例えば第5級ブチル、第3級アシルまた
は1,1,3.3−テトラメチルブチルの存在による立
体IIf害の結果であるようなアミンがあけらnる。そ
のようなアミンの例は第2級アミン16i7Naでその
R6およびR7の一方が第5級アルキル基でありそして
他方がベンジル基またはシクロヘキシルまたはアルキル
シクロヘキシル基であるものである。
あるいはまたR6およびR7の両方が第5級アルキル基
であシうる。その他の例はR6が第3級アルキル基でア
リヤしてR7およびR8がベンジル基である第3級アミ
ンである。
であシうる。その他の例はR6が第3級アルキル基でア
リヤしてR7およびR8がベンジル基である第3級アミ
ンである。
その他の適当な弱塩基性アミンはR6がフェニルまたは
籠挨フェニル基である第1級アミンR6NH2、および
R6がフェニルまたはfit換フェニルで69セしてR
7が01〜2oアルキル基好ましくは01〜12アルキ
ル基である第2級アミン16i7Naである。そのよう
なアミンの例はアニリン、トルイジン%N−ステルアニ
リン、N−ブチルアニリンおよびN−イソへキシルアニ
リンである。
籠挨フェニル基である第1級アミンR6NH2、および
R6がフェニルまたはfit換フェニルで69セしてR
7が01〜2oアルキル基好ましくは01〜12アルキ
ル基である第2級アミン16i7Naである。そのよう
なアミンの例はアニリン、トルイジン%N−ステルアニ
リン、N−ブチルアニリンおよびN−イソへキシルアニ
リンである。
そのような第2級アミンの特殊な群は、R6が第2級ア
ルキル幽好ましくは05〜12第2級アルキル基または
シクロアキル基金表°わしそしてR7が4−フェニルア
ミノフェニル基knわしているものを包含する。これら
アミンとしてはN−インプロピル−N′−フェニル−p
−フェニレンジアミン、N−第2級ブチル−N′−フェ
ニル−p−フェニレンジアミン5H−1,5−ジメチル
ブチル−N′−フェニル−p−フェニレンジアミン、
N −1,4−ジメチルペンチル−に′−フェニルーp
−フェニレンジアミンおよびN−シクロヘキシル−N′
−フェニル−p−フェニレンジアミンのような化合物が
あげられる。そのようなアミンは4−フェニルアミノフ
ェニル基中の第2級窒素原子の存在にもかかわらずモノ
酸塩基として機能する。その理由はこの第2級窒素原子
は実質的に塩基性t−:Wしていないからである。
ルキル幽好ましくは05〜12第2級アルキル基または
シクロアキル基金表°わしそしてR7が4−フェニルア
ミノフェニル基knわしているものを包含する。これら
アミンとしてはN−インプロピル−N′−フェニル−p
−フェニレンジアミン、N−第2級ブチル−N′−フェ
ニル−p−フェニレンジアミン5H−1,5−ジメチル
ブチル−N′−フェニル−p−フェニレンジアミン、
N −1,4−ジメチルペンチル−に′−フェニルーp
−フェニレンジアミンおよびN−シクロヘキシル−N′
−フェニル−p−フェニレンジアミンのような化合物が
あげられる。そのようなアミンは4−フェニルアミノフ
ェニル基中の第2級窒素原子の存在にもかかわらずモノ
酸塩基として機能する。その理由はこの第2級窒素原子
は実質的に塩基性t−:Wしていないからである。
Mが窒素#l基への2個またはそれ以ヒのプロトンの付
与flcJc#)形成さnた多価カチオンの1当tt″
表わしている場合には、そのようなイオンを誘導しうる
塩基としてはアルキレンジアミン%N、N’−ジ置換ア
ルキレンジアミン、フェニレンジアミンおよび式 %式% のN、H’−ジ置換フェニレンジアミンがあけらオLる
。ここにAはアルキレン基((3H2)。(式中Cは2
〜20、好ましくは2〜12の値を有しておシそして直
鎖または分枝鎖でありうる)またはフェニレン例えばm
−またはp−フェニレン基を表わしそして各R6は独立
してアルキル基例え、は01〜2oアルキル基、05〜
9シクロアルキルまたはアルキルシクロアルキル基、ベ
ンジル基、フェニル基または置換フェニル基ffi&わ
すがただLAがフェニレン基である場合にはどちらのR
6もフェニルまたは餘挨フェニル基ではない。
与flcJc#)形成さnた多価カチオンの1当tt″
表わしている場合には、そのようなイオンを誘導しうる
塩基としてはアルキレンジアミン%N、N’−ジ置換ア
ルキレンジアミン、フェニレンジアミンおよび式 %式% のN、H’−ジ置換フェニレンジアミンがあけらオLる
。ここにAはアルキレン基((3H2)。(式中Cは2
〜20、好ましくは2〜12の値を有しておシそして直
鎖または分枝鎖でありうる)またはフェニレン例えばm
−またはp−フェニレン基を表わしそして各R6は独立
してアルキル基例え、は01〜2oアルキル基、05〜
9シクロアルキルまたはアルキルシクロアルキル基、ベ
ンジル基、フェニル基または置換フェニル基ffi&わ
すがただLAがフェニレン基である場合にはどちらのR
6もフェニルまたは餘挨フェニル基ではない。
Aがアルキレン基ヲ表わしている好ましいアミンにおい
ては、RI6は第3級アルキル基例、tI/f。
ては、RI6は第3級アルキル基例、tI/f。
第3級ブチル、第3級アシルまたは、1,1e5t3−
テトラメチルブチルまたはフェニル基である。
テトラメチルブチルまたはフェニル基である。
そのようなアミンの例ハN、N’−ジフェニルエチレン
ジアミン%N、N’−ジ第3級ブチルー1.4−テトラ
メチレンジアミンおよびN、N’−ビス(1,1,3,
3−テトラメチルブチル) −1,6−へキサメチレン
ジアミンである。
ジアミン%N、N’−ジ第3級ブチルー1.4−テトラ
メチレンジアミンおよびN、N’−ビス(1,1,3,
3−テトラメチルブチル) −1,6−へキサメチレン
ジアミンである。
Aがフェニレン基を表わしている好ましいアミン忙おい
ては、R6は第2級アルキル基好ましくは03〜12第
2級アルキル基またはシクロヘキシル基である。そのよ
うなアミンの例はN、N’−ジ第2級ブチルーp−フェ
ニレンジアミン、N、N’−ビス(1,4−ジメチルイ
ンチル)−p−フェニレンジアミン、x、N’−ヒス(
1−エチル−3−メチルフェニル)−p−フェニレンジ
アミン%N、N’−ヒス(1−メチルヘプチル)−p−
7二二レンジアミンおよびH,N’−ジシクロヘキシル
−P−フェニレンジアミンである。
ては、R6は第2級アルキル基好ましくは03〜12第
2級アルキル基またはシクロヘキシル基である。そのよ
うなアミンの例はN、N’−ジ第2級ブチルーp−フェ
ニレンジアミン、N、N’−ビス(1,4−ジメチルイ
ンチル)−p−フェニレンジアミン、x、N’−ヒス(
1−エチル−3−メチルフェニル)−p−フェニレンジ
アミン%N、N’−ヒス(1−メチルヘプチル)−p−
7二二レンジアミンおよびH,N’−ジシクロヘキシル
−P−フェニレンジアミンである。
R1,R4またFiH5のい・ずnが一つが05〜6ア
ルキル基である場合には、これは直鎖状または分枝鎖状
の基であシうる。好ましいo1〜6アルキル系のものは
メチルおよびエチルである。その他の例はn−プロピル
、イソブチル、n−アミル、イソアミルおよびn−ヘキ
シルである。
ルキル基である場合には、これは直鎖状または分枝鎖状
の基であシうる。好ましいo1〜6アルキル系のものは
メチルおよびエチルである。その他の例はn−プロピル
、イソブチル、n−アミル、イソアミルおよびn−ヘキ
シルである。
前記式(al tii)のR3およびR5が結合さnて
いる環状基の例は式 (式中n′は2または3の値金有してお夛そして(CH
2)n/基中の水床原子の1個またはそn以上のものは
メチルまたはエチル基で置換さnることかできそしてR
4は前記定義の通りである)を苓するものである。環状
基の特定の例は2−ヒドロキシシクロはントー4−オン
−・1−エニル、2−ヒドロキシ−シクロヘキサ−5−
オン−1−エニルふミよび5−ヒドロキシ−3−メチル
−1−フェニルピラゾール−4−イルである。
いる環状基の例は式 (式中n′は2または3の値金有してお夛そして(CH
2)n/基中の水床原子の1個またはそn以上のものは
メチルまたはエチル基で置換さnることかできそしてR
4は前記定義の通りである)を苓するものである。環状
基の特定の例は2−ヒドロキシシクロはントー4−オン
−・1−エニル、2−ヒドロキシ−シクロヘキサ−5−
オン−1−エニルふミよび5−ヒドロキシ−3−メチル
−1−フェニルピラゾール−4−イルである。
Rが0015 tl’表わしている式ta+の化合物り
相当するビスチオシアネートから水性アルカリ金属水酸
化物および相転換触媒例えばテトラアルキルアンモニウ
ムヒドロキシドの存在下にクロロホルムと反応させるこ
とによシ製造できる。
相当するビスチオシアネートから水性アルカリ金属水酸
化物および相転換触媒例えばテトラアルキルアンモニウ
ムヒドロキシドの存在下にクロロホルムと反応させるこ
とによシ製造できる。
式(at(11および(11)の安定剤化合物の合成の
ための一般法は、ビス(チオスルホネート)中間体と活
性メチレン基含有化合物との極性溶媒中におけるアルカ
リ金属カルボキシレート例えに^゛[酸ナトリウムの存
在下での反応全包含する。好ましい極性溶媒はアルカノ
ール例えばメタノール、エタノールまたLイソプロパツ
ールである。
ための一般法は、ビス(チオスルホネート)中間体と活
性メチレン基含有化合物との極性溶媒中におけるアルカ
リ金属カルボキシレート例えに^゛[酸ナトリウムの存
在下での反応全包含する。好ましい極性溶媒はアルカノ
ール例えばメタノール、エタノールまたLイソプロパツ
ールである。
反応は便利には大気圧下に溶媒の還流温度で例えば60
〜100℃の範−の温度で実施さnる。
〜100℃の範−の温度で実施さnる。
しかし所望によシ加圧下に操作することによって一層高
い反応温度を達成することができる。
い反応温度を達成することができる。
前記の式(al(1)または+al lit i有する
化合物の製造のためには、活性メチレン基含有化合物は
式(式中R1,R2およびR3は前記定義のAシである
)′(i−有するものである。式(11)を有する基は
式(1]内の基のあるもののエノール形であることが理
解さnよう。前記の方法においては、R2−4たはR3
が活性メチレン基に隣接するカルボニル基を含有する基
であってそして互変異性化が可能である場合には、生成
物のエノール型〔式(011のものが通常反応混合物か
ら単離さnるものである。
化合物の製造のためには、活性メチレン基含有化合物は
式(式中R1,R2およびR3は前記定義のAシである
)′(i−有するものである。式(11)を有する基は
式(1]内の基のあるもののエノール形であることが理
解さnよう。前記の方法においては、R2−4たはR3
が活性メチレン基に隣接するカルボニル基を含有する基
であってそして互変異性化が可能である場合には、生成
物のエノール型〔式(011のものが通常反応混合物か
ら単離さnるものである。
同一のビス(チオスル、ホネート)中間体および活性メ
チレン化合物を使用するかしが(7アルカリ金属酸化物
金含有するアルカノールの反応中では、その主生成物は
式(alの化合物でありうる。しかしそnはよシ一般的
には式(blのオリゴマーであって、他方は少敏で形成
さ扛る。反応は通常50℃〜大気圧下での溶液の還流温
度の範囲内、好ましくは40〜60℃の範11」内の温
度で実施される。
チレン化合物を使用するかしが(7アルカリ金属酸化物
金含有するアルカノールの反応中では、その主生成物は
式(alの化合物でありうる。しかしそnはよシ一般的
には式(blのオリゴマーであって、他方は少敏で形成
さ扛る。反応は通常50℃〜大気圧下での溶液の還流温
度の範囲内、好ましくは40〜60℃の範11」内の温
度で実施される。
前記式中のMまたはMlが金属または苫1w、環基から
誘導されたイオンを表わしている場合の安定剤は、適当
にはMまたはMlがHである相当する化合物を経て製造
さ扛る。便利には、要求さ扛る生成物がその中に不溶で
あるよりな酊媒が金属または塩基源と水垢形の化合物の
混合のための媒体として選ば扛る。水垢形の化合物はこ
の媒体中に可溶であシ、その結果生成物り沈泉しそして
濾過により集めることができる。
誘導されたイオンを表わしている場合の安定剤は、適当
にはMまたはMlがHである相当する化合物を経て製造
さ扛る。便利には、要求さ扛る生成物がその中に不溶で
あるよりな酊媒が金属または塩基源と水垢形の化合物の
混合のための媒体として選ば扛る。水垢形の化合物はこ
の媒体中に可溶であシ、その結果生成物り沈泉しそして
濾過により集めることができる。
式(al (II f 7rTする化合物の製造のため
のその他の方法においては、出発物質はジチオールH8
−B−8IR(好ましくはアルカリ金属塩の形態)およ
び式 %式% (式中X1は塩素または奥床であり、そしてR1、R2
およびR3は前記定義の通りである)を有する化合物で
ある。極性溶媒反応媒体例えば01〜3アルカノールま
たはこルらアルコールと水の1見合物が適当でありそし
て反応は普通常態の常温以上の温度、そして便利には大
気圧下での媒体の還流温度で笑施さルる。
のその他の方法においては、出発物質はジチオールH8
−B−8IR(好ましくはアルカリ金属塩の形態)およ
び式 %式% (式中X1は塩素または奥床であり、そしてR1、R2
およびR3は前記定義の通りである)を有する化合物で
ある。極性溶媒反応媒体例えば01〜3アルカノールま
たはこルらアルコールと水の1見合物が適当でありそし
て反応は普通常態の常温以上の温度、そして便利には大
気圧下での媒体の還流温度で笑施さルる。
ジチオールおよびクロロ市+夕k ’I+用してこの方
法によシ・凋造できる化合物としては1.6−ビス(カ
ルボキシメチルチオ)ヘキサン、1,1o−ビス(カル
ボキシメチルチオ)デカン、(2’Cカルボキシメチル
子オ)インプロピル〕−(カルボキシメチルチオ)−4
−メチルシクロヘキサンおよび〔2′(カルボキシメチ
ルチオ)エチル〕−(カルボキシメチルチオ)シクロヘ
キサンおよび相当する亜鉛およびニッケル頃があげら扛
る。
法によシ・凋造できる化合物としては1.6−ビス(カ
ルボキシメチルチオ)ヘキサン、1,1o−ビス(カル
ボキシメチルチオ)デカン、(2’Cカルボキシメチル
子オ)インプロピル〕−(カルボキシメチルチオ)−4
−メチルシクロヘキサンおよび〔2′(カルボキシメチ
ルチオ)エチル〕−(カルボキシメチルチオ)シクロヘ
キサンおよび相当する亜鉛およびニッケル頃があげら扛
る。
前記に言及されている安定剤物質はゴムが天然または合
成のシスポリインプレンである1、1成1勿訃よび少く
とも25重i%のシスポリイソプレンとその他のゴムと
金台有するブレンド中において特に有効である。好まし
くはゴムはブレンドの場合には少くとも40重府%、よ
υ好゛ましくは少くとも60重量係のシスポリイソプレ
ンを含■している。シスポリイソプレンとブレンドさせ
ることのできるその他のゴムの例としてはボIJ−11
3−ブタジェン、1,6−ブタジェンとその他の*−X
体例えば、スチレン、アクリロニトリル、インブチレン
およびメチルメタクリレートとの共重合体およびエチレ
ンープロピレンージエンターボリマーがあげらnる。
成のシスポリインプレンである1、1成1勿訃よび少く
とも25重i%のシスポリイソプレンとその他のゴムと
金台有するブレンド中において特に有効である。好まし
くはゴムはブレンドの場合には少くとも40重府%、よ
υ好゛ましくは少くとも60重量係のシスポリイソプレ
ンを含■している。シスポリイソプレンとブレンドさせ
ることのできるその他のゴムの例としてはボIJ−11
3−ブタジェン、1,6−ブタジェンとその他の*−X
体例えば、スチレン、アクリロニトリル、インブチレン
およびメチルメタクリレートとの共重合体およびエチレ
ンープロピレンージエンターボリマーがあげらnる。
本発明の組成物中に使用さする安定剤化合物の量は通常
はゴム100貢−せ部当シ0.5〜5正量部例えば1.
5〜5重后部そして好ましくは2〜4重音部である。
はゴム100貢−せ部当シ0.5〜5正量部例えば1.
5〜5重后部そして好ましくは2〜4重音部である。
本竜明の組成物においてはその本質的加硫剤は硫黄であ
る。しかしその他の加硫剤・fullえばアミンジサル
ファイドを除外する必要はない。組成物中の勅を黄の量
は典型的にはゴム、1UO貢鎗部当92〜6重社部であ
る。しかじより少債まだ(グよυ多量例えば同一基準で
1〜5部ケ使用しうる。
る。しかしその他の加硫剤・fullえばアミンジサル
ファイドを除外する必要はない。組成物中の勅を黄の量
は典型的にはゴム、1UO貢鎗部当92〜6重社部であ
る。しかじより少債まだ(グよυ多量例えば同一基準で
1〜5部ケ使用しうる。
本発明の組成物中においては早−促進剤葦たは・υと通
剤混合切を使用しうる。こnらとしてはチオアゾールベ
ース促進j41J例えば2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、ビス(2−ベンゾチアゾリル)ジサルファイド、ベ
ンゾチアゾール−2−スルフェンアミド例えばN−イソ
プロピル−ベンゾチアゾール−2−スルフェンアミド、
N−FA6級ブチルベンゾチアゾール−2−スルフェン
アミド、N−シクロヘキシルベンゾチアゾール−2−ス
ルフェンアミド、N、iJ−ジイノプロビルーペンゾチ
アゾール−2−スルフェンアミド、N、N−ジシクロへ
キシルベンゾチアゾール−2−スルフェンアミドおよび
2(モルホリノチオ)ベンゾチアゾール、チオカルバミ
ルスルフェンアミド例えばL(、N−ジメチル−N /
、 n / −ジシクロへキシルチオカルバミルスルフ
ェンアミドおよびN(モルホリノチオカルボニルチオ)
モルポリンがあげられる。チアゾールベース促進剤とジ
フェニルグアニジンとの混合物が使用さ2Lうる。好ま
しい促進剤社ベンゾチアゾール2−スルフェンアミドで
ある。本発明の組成物においてはとrしらは通常ゴム1
00重号部当90.5〜1.5重量部の量で使用さnる
。
剤混合切を使用しうる。こnらとしてはチオアゾールベ
ース促進j41J例えば2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、ビス(2−ベンゾチアゾリル)ジサルファイド、ベ
ンゾチアゾール−2−スルフェンアミド例えばN−イソ
プロピル−ベンゾチアゾール−2−スルフェンアミド、
N−FA6級ブチルベンゾチアゾール−2−スルフェン
アミド、N−シクロヘキシルベンゾチアゾール−2−ス
ルフェンアミド、N、iJ−ジイノプロビルーペンゾチ
アゾール−2−スルフェンアミド、N、N−ジシクロへ
キシルベンゾチアゾール−2−スルフェンアミドおよび
2(モルホリノチオ)ベンゾチアゾール、チオカルバミ
ルスルフェンアミド例えばL(、N−ジメチル−N /
、 n / −ジシクロへキシルチオカルバミルスルフ
ェンアミドおよびN(モルホリノチオカルボニルチオ)
モルポリンがあげられる。チアゾールベース促進剤とジ
フェニルグアニジンとの混合物が使用さ2Lうる。好ま
しい促進剤社ベンゾチアゾール2−スルフェンアミドで
ある。本発明の組成物においてはとrしらは通常ゴム1
00重号部当90.5〜1.5重量部の量で使用さnる
。
本発明に使用さnる加硫安定剤は通常の混合法で例えば
そnらをパンベリーミキサー中に加えるかまたはミル上
でゴムにそれらを加えることによりゴム中に包含させる
ことができる。通常、液体状または低融点固体状加硫物
安定剤を使用する場合には艮好な分散を生成させるため
の特別の配慮は必要ではない。しかし高、謡点加硫安定
剤を使用する場合には、そrしらを微細な粉末、好葦し
くに70μm粒子サイズまたはそn以下の粉末に粉砕し
て充分な分散を確実ならしめることが推奨さnる。その
ような粉末は例えば油の添加によってダスト(粉塵)化
抑制処理をすることができる。またはそfLら全納会剤
例えば重合体ラテックスと混合しそして5車数%までの
結合剤全含有する顆粒またはベレットになすことができ
る。そnらはまたある梗のゴ′ム重合体例えばI!iP
DMまたはエチレン−ビニルアセテートゴム中の例えば
15〜50重量%の屯仕体を含有しうる予備分散液とし
て処方することができる。
そnらをパンベリーミキサー中に加えるかまたはミル上
でゴムにそれらを加えることによりゴム中に包含させる
ことができる。通常、液体状または低融点固体状加硫物
安定剤を使用する場合には艮好な分散を生成させるため
の特別の配慮は必要ではない。しかし高、謡点加硫安定
剤を使用する場合には、そrしらを微細な粉末、好葦し
くに70μm粒子サイズまたはそn以下の粉末に粉砕し
て充分な分散を確実ならしめることが推奨さnる。その
ような粉末は例えば油の添加によってダスト(粉塵)化
抑制処理をすることができる。またはそfLら全納会剤
例えば重合体ラテックスと混合しそして5車数%までの
結合剤全含有する顆粒またはベレットになすことができ
る。そnらはまたある梗のゴ′ム重合体例えばI!iP
DMまたはエチレン−ビニルアセテートゴム中の例えば
15〜50重量%の屯仕体を含有しうる予備分散液とし
て処方することができる。
ゴムストックは補強用カーボンブラック、を項料例えば
二酸化チタンおよび二酸化珪累、全屈酸化物活性剤例え
ば酸化亜鉛および酸化マグネシウム、ステアリン酸、炭
化水素軟化剤およびエクステンダー油、アミン、エーテ
ルおよびフェノール性酸化11止剤、フェニレンジアミ
ン劣化防止剤および粘着性付与剤を含有しうる。このス
トックにはまた前加硫防止剤をも官有させうる。しかし
ながら多くのストックにおいてそれらの使用は工費であ
る。
二酸化チタンおよび二酸化珪累、全屈酸化物活性剤例え
ば酸化亜鉛および酸化マグネシウム、ステアリン酸、炭
化水素軟化剤およびエクステンダー油、アミン、エーテ
ルおよびフェノール性酸化11止剤、フェニレンジアミ
ン劣化防止剤および粘着性付与剤を含有しうる。このス
トックにはまた前加硫防止剤をも官有させうる。しかし
ながら多くのストックにおいてそれらの使用は工費であ
る。
本発明の加硫物安定剤として石川なヘキサメチレンー1
,6−シチオシアネートは次のようにして製造さn 7
’c 。
,6−シチオシアネートは次のようにして製造さn 7
’c 。
1.6−ジブロモヘキサン(66、Of、 0.15モ
ル)およびチオシアン酸カリウム<45.7t、0.4
5モル)を5時間エタノール(50M)中で還流させた
。反応媒体を冷却後、固体KBrを炉別し、そしてエタ
ノールを真空中で蒸発させた。残存する油をエーテルに
溶解させ、水で数回洗い、乾燥させ(OaSO4) 、
そしてエーテル葡燕発によりそして最後に真空中で除去
すると無色4に体を生成し7ヒ(収量77%)。
ル)およびチオシアン酸カリウム<45.7t、0.4
5モル)を5時間エタノール(50M)中で還流させた
。反応媒体を冷却後、固体KBrを炉別し、そしてエタ
ノールを真空中で蒸発させた。残存する油をエーテルに
溶解させ、水で数回洗い、乾燥させ(OaSO4) 、
そしてエーテル葡燕発によりそして最後に真空中で除去
すると無色4に体を生成し7ヒ(収量77%)。
デカメチレン−1,10−ジチオシアネートは同様にし
て1,10−ジブロモデカンおよびチオシアン酸カリウ
ムから製造された。
て1,10−ジブロモデカンおよびチオシアン酸カリウ
ムから製造された。
本発明を以下の実施例により貌F′Aする。
例 1
本例はへキサメチレン−1,6−ビス(アセチルアセト
ンサルファイド)の製造を記載する。
ンサルファイド)の製造を記載する。
ヘキサン−1,6−ビス(p−トリルチオスルホネート
) (93,5t%0.204モル)とアセチルアセト
ン(過剰、65yd、0.6モル) ′t−1200*
+1!のエタノール中で55fの酢酸ナトリウムの存在
下に1時間還流させた。この混合物fニー5℃に冷却し
そして固体を濾過によシ分離しそして水洗した。
) (93,5t%0.204モル)とアセチルアセト
ン(過剰、65yd、0.6モル) ′t−1200*
+1!のエタノール中で55fの酢酸ナトリウムの存在
下に1時間還流させた。この混合物fニー5℃に冷却し
そして固体を濾過によシ分離しそして水洗した。
インプロパツールから再結晶させると針状晶を与えた。
収率67%、融点85〜86℃。
NMRスペクトル鉱エフェノール
構造5 UM5
と合致した。
例 2
本例はへキサメチレン−1,6−ビス(アセチルアセト
ンサルファイド)ナトリウム塩の製造を記載する。
ンサルファイド)ナトリウム塩の製造を記載する。
200 rnlのaa2cz2中の27.68 tのへ
キサメチレンビス(アセチルアセトンサルファイド)(
0,08そル)の溶液を800 ratのイソプロIソ
ノール中忙注いだ。この混合物に水酸化ナトリウム塩ウ
ム浴R(8t NaOH%200 ml H2O中)を
5〜10C(水浴)で滴加した。次いで得られた混合物
vi−60分室温で振伴し、固体を分離しそして真空下
に乾燥させると白色固体を与えた(収量58g″)。
キサメチレンビス(アセチルアセトンサルファイド)(
0,08そル)の溶液を800 ratのイソプロIソ
ノール中忙注いだ。この混合物に水酸化ナトリウム塩ウ
ム浴R(8t NaOH%200 ml H2O中)を
5〜10C(水浴)で滴加した。次いで得られた混合物
vi−60分室温で振伴し、固体を分離しそして真空下
に乾燥させると白色固体を与えた(収量58g″)。
工Rスペクトル: 5,100〜3,600CI+!−
1(5,560ZL−1K最大t−有する幅広い吸□収
バンド)、水加、の水。
1(5,560ZL−1K最大t−有する幅広い吸□収
バンド)、水加、の水。
1.57 Qa+t−1(ショルダー1,65tl儂−
1)%o−。
1)%o−。
吸収、アセチルアセトネート基。
この構造はNMR分析によシ確認さ2tた。
例 6
本例はポリメチレン−1,6−ビス(アセチルアセトン
サルファイド)のその他の全屈頃の製造を記載する。
サルファイド)のその他の全屈頃の製造を記載する。
攪拌しつつ5〜10℃(氷水浴)中でヘキサメチレンビ
ス(アセチルアセトンサルファイド)のメタノール分散
液(2[1,7f、 0.06モル、600m1の0H
50H中) &CIJaOHの水性溶液(62のNaO
H。
ス(アセチルアセトンサルファイド)のメタノール分散
液(2[1,7f、 0.06モル、600m1の0H
50H中) &CIJaOHの水性溶液(62のNaO
H。
100−のH2O中)t−滴加し、次いで金趙塩の水性
溶液を添加した。
溶液を添加した。
ニッケル塩(5a)の製造のためにはその溶液は15.
8fのNi804・6H20t−1第2銅塙(3b)の
製造のためKはその溶液は10.2 tの0uOt2
’ 2H20を、そして亜鉛塩(3C)の製造のために
はその溶液は& 2 t OZnOA2を官有していた
。
8fのNi804・6H20t−1第2銅塙(3b)の
製造のためKはその溶液は10.2 tの0uOt2
’ 2H20を、そして亜鉛塩(3C)の製造のために
はその溶液は& 2 t OZnOA2を官有していた
。
この混合物を室温で30分攪拌し、この時間の終シに懸
濁されていた固体をYL別し、11の水に再懸濁させ、
濾過し、洗いそして真空乾燥させるとほとんどの一般溶
媒に不溶の粉末が生成さnた。
濁されていた固体をYL別し、11の水に再懸濁させ、
濾過し、洗いそして真空乾燥させるとほとんどの一般溶
媒に不溶の粉末が生成さnた。
デカメチレン−1,10−ビス(アセチルアセトンサル
ファイド)ニッケル塩(6d)は、同様にしてデカメチ
レンビス(アセチルアセトンサルファイド) [(38
)%デカメチレン1,10−ビス(p−トリルチオスル
ホネート)訃よびアセチルアセトンから例1のものと同
様の方法により製造さnた]、NaOHおよびNiSO
4−6H20から製造さnた。
ファイド)ニッケル塩(6d)は、同様にしてデカメチ
レンビス(アセチルアセトンサルファイド) [(38
)%デカメチレン1,10−ビス(p−トリルチオスル
ホネート)訃よびアセチルアセトンから例1のものと同
様の方法により製造さnた]、NaOHおよびNiSO
4−6H20から製造さnた。
例 4
本例はへキサメチレン−1,6−ビス(アセトアセトア
ニリドサルファイド)の製造を記載する。
ニリドサルファイド)の製造を記載する。
ナトリウム(5f)t250dの無水エタノール中に攪
拌しつつ溶解させた。アセトアセトアニリド(56,1
5f’)’tこのエトキヅイF’ M t5゜に少威づ
つ加えた。次いでヘキサン−1,6−ビス(p−トリル
チオスルホネー) ) (46,5F )を500 m
gの無水エタノールと共に方【1えた。1(季られた混
合物を1時間40〜50℃で攪拌した。
拌しつつ溶解させた。アセトアセトアニリド(56,1
5f’)’tこのエトキヅイF’ M t5゜に少威づ
つ加えた。次いでヘキサン−1,6−ビス(p−トリル
チオスルホネー) ) (46,5F )を500 m
gの無水エタノールと共に方【1えた。1(季られた混
合物を1時間40〜50℃で攪拌した。
冷却後エタノールを蒸発により除去し、クロロホルムを
加えそしてこのmM相を水洗し・そして乾燥さぜた。0
HO15の除去は油を生成させlこ。
加えそしてこのmM相を水洗し・そして乾燥さぜた。0
HO15の除去は油を生成させlこ。
こ11は放置すると体々処置化した。
IRスペクトル: S、520c*−’ (N−H吸収
)%1、680傭−1(カルボニル基ニアミド+1ヒ)
NMRスにクトル構造式 に合致した。
)%1、680傭−1(カルボニル基ニアミド+1ヒ)
NMRスにクトル構造式 に合致した。
例 5
(al 7’カメチレン−1,10−ビス(ジメドンサ
ルファイド)の製造 デカン−1,10−ビス(p−トリルチオスルホネ−)
) (10,”5F )およびジメドン(6,6−シ
メチルシクロヘキサンー1,5−ジオン)(a6f)′
t−エタノール中で1時同5fの酢酸ナトリウムの存在
下に還流させた。この混合物を冷却させ、そして水次い
でaH2at2 ’6加えた。得ら牡た粗製固体をメタ
ノール/水から再結晶させた(収率90%)。
ルファイド)の製造 デカン−1,10−ビス(p−トリルチオスルホネ−)
) (10,”5F )およびジメドン(6,6−シ
メチルシクロヘキサンー1,5−ジオン)(a6f)′
t−エタノール中で1時同5fの酢酸ナトリウムの存在
下に還流させた。この混合物を冷却させ、そして水次い
でaH2at2 ’6加えた。得ら牡た粗製固体をメタ
ノール/水から再結晶させた(収率90%)。
工RスペクトルはO=0基およびOH(エノールg )
I/Cl’ft−さnる1500〜1600α−1.
5100〜3500!″′10幅広い吸収バシドの存在
金示した。NMR分析によってこの化合物の構造は所望
の生成物であるとケー認された。
I/Cl’ft−さnる1500〜1600α−1.
5100〜3500!″′10幅広い吸収バシドの存在
金示した。NMR分析によってこの化合物の構造は所望
の生成物であるとケー認された。
(b) ヘキサメチレン−1,6−ビス(ジノ1ζンサ
ルフアイド) このものはヘキサン−1,6−ビス(p −) ’Jル
チオスルホネート)およびジメドン力・らltT] b
’l!にして製造された。
ルフアイド) このものはヘキサン−1,6−ビス(p −) ’Jル
チオスルホネート)およびジメドン力・らltT] b
’l!にして製造された。
飼 6
ヘキサメチレンー1.b −ヒス(5−メチル−1−フ
ェニルピラゾロンサルファイF)の41&ナトリウム(
5t ) ’k 250 r、4の無水エタノールに(
d伴しつつ溶解させた。5−メチル−1−フェニルピラ
ゾール−5−オン(55,5f)をこのナトリウムエト
キシド溶液に少酸づつ1!1〜加した。次いでヘキサン
−1,6−ビス(p −) 17kfオスpvホネ−)
) C46,5f ) ?、 500 mgの無水エ
タノールと共に加えた。q4)らfLfc混合物を40
〜50′cで1時間攪拌し、冷却しそして1.5tの水
中r(注いだ。白色1ω体’EfF”別し、水洗しそし
て真空下に乾燥させた。収゛は43.8 F(87%)
、融膚169〜171 ’C0工Rスはクトル: 2,
60 (1−2,700ci−1ニ最大1: W t
ル2.000〜3,200 )幅広い吸収、OR吸収N
MRスペクトルはエノール構造 C6H5C6H5 に合致した。
ェニルピラゾロンサルファイF)の41&ナトリウム(
5t ) ’k 250 r、4の無水エタノールに(
d伴しつつ溶解させた。5−メチル−1−フェニルピラ
ゾール−5−オン(55,5f)をこのナトリウムエト
キシド溶液に少酸づつ1!1〜加した。次いでヘキサン
−1,6−ビス(p −) 17kfオスpvホネ−)
) C46,5f ) ?、 500 mgの無水エ
タノールと共に加えた。q4)らfLfc混合物を40
〜50′cで1時間攪拌し、冷却しそして1.5tの水
中r(注いだ。白色1ω体’EfF”別し、水洗しそし
て真空下に乾燥させた。収゛は43.8 F(87%)
、融膚169〜171 ’C0工Rスはクトル: 2,
60 (1−2,700ci−1ニ最大1: W t
ル2.000〜3,200 )幅広い吸収、OR吸収N
MRスペクトルはエノール構造 C6H5C6H5 に合致した。
例 7
本例はへキサメチレン−1,6−ビス〔(ジフェニルス
ルホニル)メタンサルファイド〕の製造を記載する。
ルホニル)メタンサルファイド〕の製造を記載する。
ナトリウム(1?)を60艷の無水エタノール中に9.
拌しつつ溶解させた。ビス、(フェニルスルホニル)メ
タン(、12,08f )t200rnlの無水エタノ
ール中の懸濁液としてこのエトキシド溶液に加えた。こ
の良好に撹拌さ扛た混合物を50℃に加熱し、次いでヘ
キサン−1,6−ビス(p−トリルチオールスルホネー
))(9,36f)を少者づつ加えた。得られた混合物
を一1時間50℃で攪拌したがこの間に反応混合物は最
初透明になり次いで白色固体が出現した。水(5D O
d)を加え、懸濁液を濾過しそしてこのようにして集め
た固体を水洗した。この生成物全熱メタノール中で15
分JIi、秤し次いで阜−IIしそして乾燥させた。収
量12F(80(牧)。
拌しつつ溶解させた。ビス、(フェニルスルホニル)メ
タン(、12,08f )t200rnlの無水エタノ
ール中の懸濁液としてこのエトキシド溶液に加えた。こ
の良好に撹拌さ扛た混合物を50℃に加熱し、次いでヘ
キサン−1,6−ビス(p−トリルチオールスルホネー
))(9,36f)を少者づつ加えた。得られた混合物
を一1時間50℃で攪拌したがこの間に反応混合物は最
初透明になり次いで白色固体が出現した。水(5D O
d)を加え、懸濁液を濾過しそしてこのようにして集め
た固体を水洗した。この生成物全熱メタノール中で15
分JIi、秤し次いで阜−IIしそして乾燥させた。収
量12F(80(牧)。
工Rスペクトル:
3、020cnl−1:芳香族0−H
21920;2,840cIn−1:脂肪族Cj−H1
,580;1,180;750;660m” :芳香環
1.320 ; 1,150cIrL−’ : −80
2i4NMRスはクトルは構造式 %式%) に合致した。
,580;1,180;750;660m” :芳香環
1.320 ; 1,150cIrL−’ : −80
2i4NMRスはクトルは構造式 %式%) に合致した。
例 8
本例はナトリウムマロンアミドのデカン−1,1〇−ビ
ス(p−トリルチオスルホネート)との反応によるオリ
ゴマーの′M造を記t、i15する。
ス(p−トリルチオスルホネート)との反応によるオリ
ゴマーの′M造を記t、i15する。
還流冷却器および0aC6z管を伺しノとフラスコ中で
4Ai半しつつナトリウム(1,9v)?60+neの
無水メタノールに溶解させた。ナトリウムの醪解俊s
? o y 7 ミド(a32F )を6[J meの
Vil )j(メタノールと共に加え、そしてこの倚ら
′iLだ混合物音10分間加熱還随させそして1jt件
姑ぜた。
4Ai半しつつナトリウム(1,9v)?60+neの
無水メタノールに溶解させた。ナトリウムの醪解俊s
? o y 7 ミド(a32F )を6[J meの
Vil )j(メタノールと共に加え、そしてこの倚ら
′iLだ混合物音10分間加熱還随させそして1jt件
姑ぜた。
次いでデカン−1,10−ビス(p−トリルチオスルホ
ネート)(21r)全150−の無水CH30Hと共に
少斌づつ加えた。この混合物を1時間還6にさせた。得
らnた白色固体t (F”別し覧水そして0HOL3で
洗い、そして真空下に乾燥させた。
ネート)(21r)全150−の無水CH30Hと共に
少斌づつ加えた。この混合物を1時間還6にさせた。得
らnた白色固体t (F”別し覧水そして0HOL3で
洗い、そして真空下に乾燥させた。
工Rスペクトル:
3.050〜3,500CIi−1(幅広い) : −
NH22,97QcrIL−1; 2,950αm−’
: −0H2−1,570〜1.720α−1(幅広
い)二カルボニル(1,660ニー1に最大) NMRスペクトル懺栴造 に合致した。
NH22,97QcrIL−1; 2,950αm−’
: −0H2−1,570〜1.720α−1(幅広
い)二カルボニル(1,660ニー1に最大) NMRスペクトル懺栴造 に合致した。
例 9
本例はナトリウムシアノアセトアミドの(alデカン−
1,10−ビス(p−トリルチオスル目二ネート)との
反応および(blヘキサン−1,6−ビ゛ス(p−トリ
ルチオスルホネート)との反応によるオリゴマーの製造
を記載する。
1,10−ビス(p−トリルチオスル目二ネート)との
反応および(blヘキサン−1,6−ビ゛ス(p−トリ
ルチオスルホネート)との反応によるオリゴマーの製造
を記載する。
遠流葡却器および0a042 v’c付し17Lフラス
コ中テk (半り、 Oツf ) ’Jウム(1,05
,r ) ’d: 60 meの無水メタノールに溶解
させた。シアノアセトアミド(3,5t )k60d(
7)無水0H30H(!: 共にこのメトキサイド溶液
に加えそしてこの混合物を10分間攪拌した。デカン−
1,1o−ビス(p−トリルチオスルホネート)(10
,5r)Eたけヘキサン−1,6−ヒス(p”)リルチ
オスルホネ−) ) (9,21i’) k 100m
!!cD無水メタノールと共に9址づつ加えた。俟らn
た混合物を50℃に1時間撹拌しつつ加熱した。この反
応物を水で急冷した。淡色の単離さ′I’した固体を水
洗しそして真空下に乾燥させた。
コ中テk (半り、 Oツf ) ’Jウム(1,05
,r ) ’d: 60 meの無水メタノールに溶解
させた。シアノアセトアミド(3,5t )k60d(
7)無水0H30H(!: 共にこのメトキサイド溶液
に加えそしてこの混合物を10分間攪拌した。デカン−
1,1o−ビス(p−トリルチオスルホネート)(10
,5r)Eたけヘキサン−1,6−ヒス(p”)リルチ
オスルホネ−) ) (9,21i’) k 100m
!!cD無水メタノールと共に9址づつ加えた。俟らn
た混合物を50℃に1時間撹拌しつつ加熱した。この反
応物を水で急冷した。淡色の単離さ′I’した固体を水
洗しそして真空下に乾燥させた。
工RおよびNMRスペクトルは構造
および
に合致した。
例 10
本例はナトリウムエチルシアノアセテートのデカン−1
,10−ビス(p−トリルチオスルホネート)との反応
によるオリゴマーの製造を日己載する。
,10−ビス(p−トリルチオスルホネート)との反応
によるオリゴマーの製造を日己載する。
この方法はシアノアセトアミドの代りにエチルシアノア
セテート(4,6:l)を使用する以外はデカン−1,
10−ビス(p−トリルチオスルホネート)の添加完了
まで例9に記載の操作と同一であった。この攪拌反応混
合物【50〜6[)’Cに2時間加熱しそして次いで水
で急冷させ次いでメチレンクロリドを添加させた。有機
相を分離し、水洗し、乾燥させそして溶媒全除去すると
油状物全生成した。
セテート(4,6:l)を使用する以外はデカン−1,
10−ビス(p−トリルチオスルホネート)の添加完了
まで例9に記載の操作と同一であった。この攪拌反応混
合物【50〜6[)’Cに2時間加熱しそして次いで水
で急冷させ次いでメチレンクロリドを添加させた。有機
相を分離し、水洗し、乾燥させそして溶媒全除去すると
油状物全生成した。
工RおよびNMRスペクトルは構造式
に合致した。
例 11
本例fl−j: (alヘキサン−1,6−ビス(チオ
グリコール酸)およびtb+亜鉛ヘキサン−1,6−ビ
ス(チオグリコレート)の製造を記載する。
グリコール酸)およびtb+亜鉛ヘキサン−1,6−ビ
ス(チオグリコレート)の製造を記載する。
(aJ tトリウムヘキサン−1,6−シチオレー)
(300−のエタノール中の75fのヘキサン−1,6
−ジチオールと2’00mの水に溶解させた水酸化ナト
リウム40vとから調遺さg7;c)?エタノール/水
混合物中のクロロ酢酸ナトリウム塩の浴液(1300−
のエタノール中の99231のクロロ#酸と200−の
水とに溶解させた4 2、5 rの水酸化ナトリウムか
ら製造)に加えた。この混合物上6時間攪袢下に還流さ
せた。
(300−のエタノール中の75fのヘキサン−1,6
−ジチオールと2’00mの水に溶解させた水酸化ナト
リウム40vとから調遺さg7;c)?エタノール/水
混合物中のクロロ酢酸ナトリウム塩の浴液(1300−
のエタノール中の99231のクロロ#酸と200−の
水とに溶解させた4 2、5 rの水酸化ナトリウムか
ら製造)に加えた。この混合物上6時間攪袢下に還流さ
せた。
エタノール/水共沸物を蒸留によシ除去すると残lテと
して水性スラリーを与えた。これを水(500m/)中
に注いだ。次いで2N HC3を水性r?+ 7i1E
をこのジカルボキシレートYJI液にそのpHが2〜2
.5に達するまで加えた。生成した白色固体を濾過によ
り集め、水洗しそして真窒ドK I2. Wさぜた。収
量76係、融点116〜117℃。
して水性スラリーを与えた。これを水(500m/)中
に注いだ。次いで2N HC3を水性r?+ 7i1E
をこのジカルボキシレートYJI液にそのpHが2〜2
.5に達するまで加えた。生成した白色固体を濾過によ
り集め、水洗しそして真窒ドK I2. Wさぜた。収
量76係、融点116〜117℃。
NMRスペクトルは提案さnている構造ao2a−au
2−8−(OH2)6−8−CH2−002Hに合致し
た。
2−8−(OH2)6−8−CH2−002Hに合致し
た。
(t)l 硫酸亜鉛の水性浴液(300a+1の水中4
3.22のznS04・7H20)′fr:ヘキサンー
1,6−ビス(チオグリコールr℃)ナトリウム塩のf
8 散[1000mlのメタノール中402のヘキサン
−1,6−ビス(チオグリコール酸)と200−の水に
一淫す解させた12.02rの水酸化ナトリウムとから
製造〕に滴加した。白色固体が沈殿しそしてこの乳合切
を型温で50分撹拌した。固体を濾過に〆よシ集め一部
(1000d)に再懸濁させ、そしてこの懸濁液t−1
5分攪拌した。次いでそれ″fI−濾過し、そして固体
を水洗しそして真窒下に乾燥させた。収−縫47v0 例 12 本例はヘキサン−1,6−ビス(トリクロロメチルサル
ファイド)の製造を記載する。
3.22のznS04・7H20)′fr:ヘキサンー
1,6−ビス(チオグリコールr℃)ナトリウム塩のf
8 散[1000mlのメタノール中402のヘキサン
−1,6−ビス(チオグリコール酸)と200−の水に
一淫す解させた12.02rの水酸化ナトリウムとから
製造〕に滴加した。白色固体が沈殿しそしてこの乳合切
を型温で50分撹拌した。固体を濾過に〆よシ集め一部
(1000d)に再懸濁させ、そしてこの懸濁液t−1
5分攪拌した。次いでそれ″fI−濾過し、そして固体
を水洗しそして真窒下に乾燥させた。収−縫47v0 例 12 本例はヘキサン−1,6−ビス(トリクロロメチルサル
ファイド)の製造を記載する。
フラスコ中でヘキサン−1,6−ビスチオシアネート(
2ot)、クロロホルム<76f)および“トラブチル
アンモニウムヒドロキシド(40%溶液1.5 f )
を激しく14+した。50%水性水酸化す) IJウム
浴液C40d)を少量づつ加え−そして得らnた混合物
を40℃で5〜4時間(遥?#:1.た。次いでこの混
合′吻を冷却し、水中に注ぎそしてクロロホルムで抽出
した。このクロロホルム痔液を水で数回C九い、硫酸カ
ルシウム上で乾燥させそして溶媒全蒸発させた。残渣は
暗赤色液体であった。収量25.5f(65%)。
2ot)、クロロホルム<76f)および“トラブチル
アンモニウムヒドロキシド(40%溶液1.5 f )
を激しく14+した。50%水性水酸化す) IJウム
浴液C40d)を少量づつ加え−そして得らnた混合物
を40℃で5〜4時間(遥?#:1.た。次いでこの混
合′吻を冷却し、水中に注ぎそしてクロロホルムで抽出
した。このクロロホルム痔液を水で数回C九い、硫酸カ
ルシウム上で乾燥させそして溶媒全蒸発させた。残渣は
暗赤色液体であった。収量25.5f(65%)。
NMRスペクトルは構造
ct5o−s−<aH2)6−s−aat5を確認し次
。
。
例 13
本例はヘキサン−1,6−ビス(チオグリコールr11
)のアミン塩の製造を記載する。
)のアミン塩の製造を記載する。
(al メタノール(100d)中のN−ベンジル−N
−1,1#5e3−テトラメチルブチルアミン(26
,8F)の溶液を室温でメタノール(600d)中の酸
(16f)の溶液に滴加した。この混付物を30公債拝
しそして溶媒を次いで除去すると残渣(42t)として
アミン塩を与えた。
−1,1#5e3−テトラメチルブチルアミン(26
,8F)の溶液を室温でメタノール(600d)中の酸
(16f)の溶液に滴加した。この混付物を30公債拝
しそして溶媒を次いで除去すると残渣(42t)として
アミン塩を与えた。
(bJ ヘキサン−1,6−ヒス(チオグリコール酸)
のN−イソプロピル−N′−フェニル−p−フェニレン
ジアミン塩が同様にして製造さtした。
のN−イソプロピル−N′−フェニル−p−フェニレン
ジアミン塩が同様にして製造さtした。
例 14
ビス(チオグリコールR)(alおよびその亜鉛f4t
blはジペンテンジメルカプタンH クロロrrr mナトリウムおよび硫酸亜鉛から例11
の記載と同様の方法によって製造さnた。
blはジペンテンジメルカプタンH クロロrrr mナトリウムおよび硫酸亜鉛から例11
の記載と同様の方法によって製造さnた。
例 15
ビス(チオグリコール酸)訪導体はエチルシクロヘキシ
ルジメルカプタン p宵 およびクロロ酢酸ナトリウムから例11に記載と同様の
方法によって製造された。
ルジメルカプタン p宵 およびクロロ酢酸ナトリウムから例11に記載と同様の
方法によって製造された。
例 16
天然ゴム加硫物中での本発明による加硫物安定剤の使用
を評価するために次の組成を有するマスターパッチ全製
造した。
を評価するために次の組成を有するマスターパッチ全製
造した。
重量部
天然ゴム 100
カーボンブラツク 50
酸化亜鉛 5
ステアリン酸 2
加 工 油 3
このマスターバッチの一部を取り、そしてゴム100重
量部当シそれぞf’L 2.5重量部、0.7重量部お
よび3.0重量部の割合の硫黄、2(モルホリノチオ)
ベンゾチアゾールおよび安定jflJ化合物と共に混合
した。硫黄および2(モルホリノチオ)ベンゾチアゾー
ルのみ玉・加えたマスターバッチの別部分を対照としで
使用した。
量部当シそれぞf’L 2.5重量部、0.7重量部お
よび3.0重量部の割合の硫黄、2(モルホリノチオ)
ベンゾチアゾールおよび安定jflJ化合物と共に混合
した。硫黄および2(モルホリノチオ)ベンゾチアゾー
ルのみ玉・加えたマスターバッチの別部分を対照としで
使用した。
このようにして得られた加硫oJ能組成物の硬化特住を
1°振幅を有するモンサント社振祠円板しオメーターエ
805417−19771K)にヨッテ’F表に示され
ている硬化温度で測定した。レオメータ−のデータから
最大トルク最大モジュラスに達するために要する時間(
t max)を記録した。
1°振幅を有するモンサント社振祠円板しオメーターエ
805417−19771K)にヨッテ’F表に示され
ている硬化温度で測定した。レオメータ−のデータから
最大トルク最大モジュラスに達するために要する時間(
t max)を記録した。
加硫物は最大モジュラスセ与えるレオメータ−データに
よシ示さnる時間(t max)の間の141℃のプレ
ス硬化(キュア)により製造さnた。
よシ示さnる時間(t max)の間の141℃のプレ
ス硬化(キュア)により製造さnた。
その他の加硫物はこの温度に200分(オーバーキュア
)保持させる以外は同一温度で製造さnた。両タイプの
加硫物を通常の物8!試験にかけた。英国標4I規格9
03、バートA8(1965)によって胛M性(レジリ
エンス)の1ltll 尾が笑施さtた。
)保持させる以外は同一温度で製造さnた。両タイプの
加硫物を通常の物8!試験にかけた。英国標4I規格9
03、バートA8(1965)によって胛M性(レジリ
エンス)の1ltll 尾が笑施さtた。
以下の衣においては、安定剤化合物はへキサメチレン−
1,6−ジチオシアネートについては「A」として、デ
カメチレン−1,1U−ジチオシアネートについてはF
B、Jとして、そして+W iIi己実施例による毎号
によってiiJ M送nている。がつこ内に示されてい
る数字は相当す仝対口にに対して得ら肚たものである。
1,6−ジチオシアネートについては「A」として、デ
カメチレン−1,1U−ジチオシアネートについてはF
B、Jとして、そして+W iIi己実施例による毎号
によってiiJ M送nている。がつこ内に示されてい
る数字は相当す仝対口にに対して得ら肚たものである。
B 15,8(17,7) 、 89(80)114.
2(1&0) 114(89)2 16.2(17,0
) 99(88)3a 17.5(17,2) 94(
84)3b 14.7(14,5) 96(91)5a
1種(14,5) 104(91)3d 14.9(
16,5) 109(81)3e 15.6(15,8
) 108(94)4 15.1(14,5) 99(
91)5(a) 19.9(1&1) 91(81)5
(b) 15.5(16,0) 101(89)6 1
4.9(14,5) 105(91)8 14.7(1
5,5) 102(84)9(a) 15.5(16,
5) 103(81)9(b) 15.1(16,9)
107(82)10 14.4(16,5) 104
(81)13(a) 163(14,6) 96(90
)13(b) 15.0(15,3) 95(89)1
4(a) 15.0(14,6) 99(90)14(
1)) 15.0(14,6) 101(90)15
16.5(17,4) 95(85)(注)(1) 試
料はt max t−で硬化さまた。
2(1&0) 114(89)2 16.2(17,0
) 99(88)3a 17.5(17,2) 94(
84)3b 14.7(14,5) 96(91)5a
1種(14,5) 104(91)3d 14.9(
16,5) 109(81)3e 15.6(15,8
) 108(94)4 15.1(14,5) 99(
91)5(a) 19.9(1&1) 91(81)5
(b) 15.5(16,0) 101(89)6 1
4.9(14,5) 105(91)8 14.7(1
5,5) 102(84)9(a) 15.5(16,
5) 103(81)9(b) 15.1(16,9)
107(82)10 14.4(16,5) 104
(81)13(a) 163(14,6) 96(90
)13(b) 15.0(15,3) 95(89)1
4(a) 15.0(14,6) 99(90)14(
1)) 15.0(14,6) 101(90)15
16.5(17,4) 95(85)(注)(1) 試
料はt max t−で硬化さまた。
(21t max ’Eで硬化さnた試料に対する結果
の係として殻わさnfc2[10分硬化試料に対する結
果。
の係として殻わさnfc2[10分硬化試料に対する結
果。
(31組成物は1.5部(phr)の安定ハリ金官Mし
ていた。
ていた。
こnらの結果はオーバーキュアの悲影響の軽減における
安定剤化合物の価値を示している。
安定剤化合物の価値を示している。
特許出願人 モンサント・ヨーロツプ・ソシエテ・アノ
ニム 一りり
ニム 一りり
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)ジエンゴム、硫黄および加硫促進剤を包含しそして
また式 %式% 〔式中Bは有機架橋形成性基であシ、そしてRは (1)式 (式中R1dHまたは01〜6アルキルであ9%でして
R2およびR5はそれぞれ独立してON。 CjOHHR4,0OR5、0OOR5,5O2R5、
000Mまたは5020Mであり、その際R4はH、O
j〜6アルキル、フェニルまたはベンジルであシ、R5
は01〜6アルキル、フェニルまたはベンジルであり、
そしてR2およびR5の一方はまたHである乙とができ
%M祉H,1価金属、当量の多価金属、モノ酸窒素塙基
から導かれたイオンまたは多酸窒素塩基から導かれた当
量のイオンを表わす)を有する基、 (式中、MlはH,1価金属、また社多価金属の当量を
辰わし%R5およびR5は前記定義の通りであるかまた
は静およびR5は結合して環状基金形成している)を有
する基、または(iiil ONまたはaOt5 である〕または t−有する安定剤物質をも包含することt%砿とする加
硫可能なゴム組成物。 2)安定剤がBが5〜16個の炭素原子を含有のアルキ
レン基を表わしR1がHであシそしてR2およびR3の
各々が弐R5E+02 ’i有しているかまたはR2が
R500であシそしてR5がR5SO2である式(a)
(1)を有する化合物である、前記特許請求の範囲第1
項記載の組成物。 5)安定剤がBが5〜16個の炭素原子を含有するアル
キレンa(0+−6アルキレン)シクロアルキレンまた
は(Oj〜6アルキレン)アルキルシクロアルキレン基
を表わし、R1がHであ5、R2がHであυそしてR5
が000MでそのMが水素、アルカリ金属、亜鉛の1当
量またはモノ版窒素塩基から導かnたイオンを表わして
いる式(a川)を有する化合物である前記特許請求の範
囲第1唄記載の組成物。 4)安定剤がα、ω−ビス(カルボキシメチルチオ)
05〜12アルカン、(2’Cカルボキシメチルチオ)
エチル〕−(カルボキシメチルチオ)シクロヘキサン、
[2’Cカルボキシメチルチオ)イソプロピル〕−(カ
ルボキシメチルチオ−4−メチルシクロヘキサン)、マ
たは岨鉛塩または式R6R7NH(式中R6およびR7
の一方が第6級アルキル基であり、他方がベンジル基で
あるかまたはR6が03〜12第2級アルキル基または
シクロヘキシル基を表わしそしてR7が4−フェニルア
ミノフェニル基’kWわしている)のアミンとの塩でお
るその塩である前記特許請求の範囲第3項記載の組成物
。 5)安定剤がBが5〜16個の炭素原子数のアルキレン
基を表わし、R3が0OR5(式中各R5は独立してメ
チルまたはエチルを表わす)を表わし、そしてMlがH
1アルカリ金川または銅、亜鉛゛またはニッケルの1当
i’i表わしている式ta+ l++ * 有する化合
物である前記特許請求の範囲第1項記載の組成物。 6)安定剤がヘキサメチレン−1,6−ビス(アセチル
アセトンサルファイド)の亜鉛塩である前記特許請求の
範囲第5項記載の組成物。 7)安定剤がBが5〜16個の炭素原子を含有するアル
キレン基を表わし R11がR4NHOOであシそして
R5がメチルまたはエチルである式(a) (II3を
有する化合物である前記特許請求の範囲第1項記載の組
成物。 8)安定剤の式中のRが式 (式中n′は2または6の(lft ’にオしており、
−(Ca2)n−基中の水素原子の1個またはそn以上
をメチルまたはエチル基で置換することができる)を有
する環状基を表わしておりそして安定剤の式中のBが5
〜16個の炭素原子を含イイするアルキレン′)i、を
表わしている前記特許請求の範囲第1項記載の組成物。 9)安定剤がヘキサメチレン−1,6−ビス(6−メチ
ル−1−フェニルピラゾロンサルファイド)である前記
特許請求の範囲第8項記載の組成物。 10)安定剤がBが5〜16個の炭素原子を含有するア
ルキレン基を表わしている式(a;(曲を有している化
合物でおる前記特許請求のI!I+)囲第1項記載の化
合物。 11)安定剤がR2およびR3がそt’Lぞn独立して
ON%0ONHR4または0OOR5でありそしてBが
5〜16個の炭素原f−を有するアルキレン基を表わし
ている式(blのvA負である前記6′σF請求の題U
柩1項記載のMA成物。 12) R’がHであシそしてR5がメチルまたはニブ
ルである前記特許請求の範囲第11項記戦の組成物。 13)安定剤が式 (式中nは1〜3の平均値を有している)を有している
前記特許請求の01第12項記載の組成物。 14)安定剤物質の鍵がゴム100重量部当91.5〜
5重量部でおる前記特許請求の範囲第1〜16項のいす
しかに記載の組成物。 15)ジエンゴムがシス−ポリイソプレンまたは少くと
も40重脅係のシス−ポリイソプレンヲ含有するジエン
ゴムのブレンドである。前記%if請求の範囲第1〜1
4項のいずnかに自己載の組成物。 16)前記特許請求の範囲第1〜15項のいずれかに記
載の組成物を加硫温度にh0熱することにより得らrし
る加硫物。 17)式 %式% 〔〔式中Bが5〜16個の炭素原−fを含ン胃するアル
キレン基であり、そしてRi>E式〔式中、R2および
R3はそれぞれ独立してON、0ONHR4,0OOR
5,5O2R5(式中、RAはHlCアルキル、フェニ
ルまたはベンジルであ1〜6 9、そしてR5は01〜6アルキル、フェニルまたはベ
ンジルである)である〕を有する基でおる〕」金石する
化合物。 18)Bが6〜10個の炭素原子fd:召“有するアル
キレン基でおりそしてR2およびR6力;そrL−t’
れ5o2c6u5である前記特許請求の!g!A第1項
記載の化合物。 19)ぺ R−8−B−8−R (式中、Rは式−OH2−000Mを有す′る基であそ
して (1)Bが5〜16個の炭素原子を有するアノキレン基
でありそしてMが多価金A’Aの当量−たはモノ(R電
素塩基から導かれたイオンを毛わしているか、または (2) B カ(01〜6−アルキレン)シクロアル;
レンまたIl’1CO1〜6−アルキレン)アル中ル・
クロアルキレン基であpそしてMが水素を価金属、多価
金属の当量またはモノ酸窒素1基から導かnたイオンを
表わしている)をンする化合物。 20)Bが5〜16個の炭素原子を含有するア。 7 キレン基であり、そしてM力! jji鉛の画情ま
たは式R6R7NH(式中、R6およびR7の一方は第
6級アルキル基であシそして他方はベンジル基でおるか
またはR6が03〜12第2級アルキルリ 基またはシ
クロヘキシル基を表わしそしてR7が4−フェニルアミ
ノフェニル基11)してυ いる)のアミンから4力1
れだイオン11つじま でいる前記特許請求の範囲第1
9項8己載のrヒ& 合物。 21) C2’(カルボキシメチルチオ)エチル〕−ヤ
(カルボキシメチルチオ)シクロヘキャ・ン、ン 〔
2′(カルボキシメチルチオ)イソプロピル〕1 −(
カルボキシメチルチオ−4−メチルシフ益 ロヘキサン
または、そのナト1ノウム塙、亜鉛胃 塩または式Rd
R7NH(式中、R6およびR1の一方は第5級アルキ
ル基でめりそしてイ邑方lエベル ンジル基である力為
またはH61fi05〜12 m 2 M 7ルキル基
またはシクロヘキシル基を表わしそしてR7は4−フェ
ニルアミノフェニル基ヲ表わす)のアミンとの塩である
前記特許請求の範囲第19項記載の化合物。 22)式 %式% 〔式中Bは5〜16個の炭素原子を金石するアルキレン
基であゃ、そしてR5は式 (式中M1はH,14曲金属、または多・帥全組の当i
゛ヲ表ワL 、R3B 0ONHR4または00R5f
表わし、七のR’&j:H%01〜6アルキル、フェニ
ルま7ζはベンジルであシそしてR5はC1〜6゛rル
キル、フェニル聾1ヒはベンジルである)r有する基を
表わす)′?f−Wする化合物。 23)Bが5〜16個の炭素原子な含南°するアルキレ
ン基を表わし、R3がooi’ts (各R5は独立し
てメチルまたはエチルを表わす)を軟わしそしてMlは
H1アルカリ金属、または(烏、亜鉛またはニッケルの
当知°を表わしている前記特許請求の範囲第22項記載
の化合物。 24)へキサメチレン−1,6−ビス(アセチルアセト
ンザルファイド)の亜鉛塩。 25) M’がH,ナトリウム、または亜鉛の当叶を表
わしそしてR3が06H5NHOOであυそしてR5が
メチルまたはエチルである前B己特許i貨A(の範囲8
g22塊り己戟の化合物。 26)式 %式% 〔式中Bは5〜16個の炭凧原Fを言有するアルキレン
基であシそして各Rが式 (式中%n′は2または3の値を有しており、−(aa
2)n−基中の水垢原子の1個またはそn以上をメチル
またはエチル基で抛換することができ、MlはH,1個
金鵜、または多価金属の当量ヲ表わし、そして各R4は
独立してメチル、エチルまたはフェニルを表わす)を有
する基である〕を有する化合物。 27)へキサメチレン−1,6−ビス(ジメドンサルフ
ァイド)、デカメチレン−1,10−ビス(ジメドンサ
ルファイド)およびヘキサメチレン−1,6−ビス(3
−メチル−1−フェニルピラゾロンサルファイド)の一
つである化合物。 28)式 (式中%Bは5〜16個の炭素原子を含有するアルキレ
ン基を表わし、R2およびR3はそれぞオ゛L独立して
ON 、 C0NHR4または000R5であシ。 そのK(R4はH,01〜6アルキル、フェニルマタは
ベンジルでToシ、R5はC1〜6アルキル、フェニル
またはベンジルであり、そしてnは1〜5の平均値を有
している)を有する物質。 29) t+)R2およびR3が共に0ONH2である
か、(II)R2がONでありそしてR3が0ONH2
であるかまlヒは+i++ R2かONでそしてR3が
00(1(!2H5である前記特II′l−請求の範囲
第28項記載の物質。 60)式 (式中、nは1〜3の平均値をMする)をゼする物質。
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