JPS6086268A - Alの連続蒸着法 - Google Patents
Alの連続蒸着法Info
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- JPS6086268A JPS6086268A JP19228284A JP19228284A JPS6086268A JP S6086268 A JPS6086268 A JP S6086268A JP 19228284 A JP19228284 A JP 19228284A JP 19228284 A JP19228284 A JP 19228284A JP S6086268 A JPS6086268 A JP S6086268A
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- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title abstract description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 10
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims abstract description 6
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 16
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000001883 metal evaporation Methods 0.000 abstract description 3
- 238000007788 roughening Methods 0.000 abstract description 2
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 14
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- -1 +No. Chemical class 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000005518 electrochemistry Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/26—Vacuum evaporation by resistance or inductive heating of the source
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
連続的に、しかも効率よく蒸発させる導電性セラミック
スからなる真空蒸発用抵抗加熱器を用いるAtの連続蒸
着法に関する。
スからなる真空蒸発用抵抗加熱器を用いるAtの連続蒸
着法に関する。
従来から頁を蒸着用抵抗加熱器(以下ボート)という)
は、タングステン(W〉、モリブテン04o)、タンタ
ル(Ta)等から選ばれた1種の高融点金属からなるが
一トかある。しかし、これら高融点金属は蒸着材である
μ等の溶融金属と合金化したり、又、高融点金稙の結晶
化等により破損したりするので、パッチ式の蒸着で数回
の連用しか出来なかった。
は、タングステン(W〉、モリブテン04o)、タンタ
ル(Ta)等から選ばれた1種の高融点金属からなるが
一トかある。しかし、これら高融点金属は蒸着材である
μ等の溶融金属と合金化したり、又、高融点金稙の結晶
化等により破損したりするので、パッチ式の蒸着で数回
の連用しか出来なかった。
又前記のボートに銀等の蒸着材を蒸発源として収納し、
ゲートを加熱して、融液釦から蒸発するとき蒸発源の幻
一が少くなってくると島状になるので、が一トの底面に
高融点金属繊維状部品またはボート内底面に凹凸面を形
成することが提案されている。この方法ではボート材料
として高融点金属を用いているため蒸発状況は改善され
るが、Atの蒸尤に使用できす、その寿命は従来のもの
と変らず連続使用は不可能であるという欠点があった。
ゲートを加熱して、融液釦から蒸発するとき蒸発源の幻
一が少くなってくると島状になるので、が一トの底面に
高融点金属繊維状部品またはボート内底面に凹凸面を形
成することが提案されている。この方法ではボート材料
として高融点金属を用いているため蒸発状況は改善され
るが、Atの蒸尤に使用できす、その寿命は従来のもの
と変らず連続使用は不可能であるという欠点があった。
(実開昭50 − 40850号)
近年、これらの漏融点金属にかわってチタンポライド、
ジルコニウムボライド、ボロンナイトライド、アルミニ
ウムナイトライド等から選ばれた1種以上な加圧焼結し
た導電性セラミックスが提案されている。この導電性セ
ラミックスからなるテートは耐熱性が高く、耐ス号?−
リング性にすぐれ、Atなとの蒸発用金属(以下蒸着材
という)との反応が少なくボート寿命が長いという利点
がある。
ジルコニウムボライド、ボロンナイトライド、アルミニ
ウムナイトライド等から選ばれた1種以上な加圧焼結し
た導電性セラミックスが提案されている。この導電性セ
ラミックスからなるテートは耐熱性が高く、耐ス号?−
リング性にすぐれ、Atなとの蒸発用金属(以下蒸着材
という)との反応が少なくボート寿命が長いという利点
がある。
しかし、こねらのポートはTaのような高融点合端から
なるポートに比較して、溶融した蒸着材がやや濡れ難い
。そのため蒸発初期からポートと蒸着材であるAtとの
接触が不充分となり、鱈?−トの発熱が充分に蒸着材に
達せず、多くは輻射熱として放散し熱効率が悪かった。
なるポートに比較して、溶融した蒸着材がやや濡れ難い
。そのため蒸発初期からポートと蒸着材であるAtとの
接触が不充分となり、鱈?−トの発熱が充分に蒸着材に
達せず、多くは輻射熱として放散し熱効率が悪かった。
史に説明すると、蒸着材の溶融金属蒸発部(以下キャビ
チーという)への諦れ拡がりが悪く、浴融した蒸着材で
キャビチー底面の全面を濡らすことが困難で、キャビチ
ー底面全面を蒸発部として有効に利用できないためにA
I等を均一にしかも連続的に蒸着できず、又単位時間当
りの蒸発量は低かった。本発明ばこわらの欠点を解決し
たもので、従来知られていなかったAtの連続蒸着法を
提供しようとするものである。
チーという)への諦れ拡がりが悪く、浴融した蒸着材で
キャビチー底面の全面を濡らすことが困難で、キャビチ
ー底面全面を蒸発部として有効に利用できないためにA
I等を均一にしかも連続的に蒸着できず、又単位時間当
りの蒸発量は低かった。本発明ばこわらの欠点を解決し
たもので、従来知られていなかったAtの連続蒸着法を
提供しようとするものである。
すなわち、本発明は、基材に〃を真空蒸着するにあたり
、チタン−〇ライドな主成分とし、ゾロンナイトライド
を含有する導電性セラミックスからなる真空蒸発用抵抗
加熱器の内底面を粗面状に処理したものを真空蒸着装置
内に装填し、直接通電により前記加熱器を加熱すると共
にM線の連続供給装置からAt線を供給し、基材に〃を
連続的に蒸着することを特徴とするAtの連続蒸着法で
ある。
、チタン−〇ライドな主成分とし、ゾロンナイトライド
を含有する導電性セラミックスからなる真空蒸発用抵抗
加熱器の内底面を粗面状に処理したものを真空蒸着装置
内に装填し、直接通電により前記加熱器を加熱すると共
にM線の連続供給装置からAt線を供給し、基材に〃を
連続的に蒸着することを特徴とするAtの連続蒸着法で
ある。
以下さらに本発明の詳細な説明する。
本発明はポートのキャビチー底面を粗面状としたチタン
ポライドを主成分としゾロンナイトライドを含有する導
電性セラミックスからなる真を蒸着用抵抗加熱器を用い
てAtの真を蒸着用に使用すると、Atとケートとの初
期の濡れは良好となり、Atを連続的に供給すればキャ
ビティー全面にAtがひろがって常に一定蒸発面を保ち
ながら基材にAt蒸着することができる。本発明△ において、ポート材料としてチタンポライドを主成分と
しボロンナイトライドを含有する焼結成形体を用いるが
、このような系のものは導電性と切削加工性を具えたも
のであるので、貫空蒸着用ポートとしてはすぐれている
。
ポライドを主成分としゾロンナイトライドを含有する導
電性セラミックスからなる真を蒸着用抵抗加熱器を用い
てAtの真を蒸着用に使用すると、Atとケートとの初
期の濡れは良好となり、Atを連続的に供給すればキャ
ビティー全面にAtがひろがって常に一定蒸発面を保ち
ながら基材にAt蒸着することができる。本発明△ において、ポート材料としてチタンポライドを主成分と
しボロンナイトライドを含有する焼結成形体を用いるが
、このような系のものは導電性と切削加工性を具えたも
のであるので、貫空蒸着用ポートとしてはすぐれている
。
本発明に用いるポートのキャビチー内底面を蒸着材に濡
れやすい粗面とする方法としては次の2つがあげられる
。
れやすい粗面とする方法としては次の2つがあげられる
。
(1) 導電性セラミック床材より加工されたデートの
キャビチーの内底面にサンドブラスト装置等によりSt
C等よりなる研磨材を吹き付けることにより、蒸着材に
濡れやすい粗面を形成−(る方法。
キャビチーの内底面にサンドブラスト装置等によりSt
C等よりなる研磨材を吹き付けることにより、蒸着材に
濡れやすい粗面を形成−(る方法。
f21 StCやダイヤモンド等からなる研磨用の回転
砥石でキャビチーの内底面を研磨することにより充分に
蒸着材に濡れやすい粗面を形成する方法。
砥石でキャビチーの内底面を研磨することにより充分に
蒸着材に濡れやすい粗面を形成する方法。
本発明のポートを用いることにより蒸着材であるAtは
キャビチーの内底面の全面に容易に諦れ拡がり、キャビ
チー底面の全面より蒸発可能となり、単位時間当りのM
の蒸着量を増加することができる。更に、ポートからA
tへの熱の伝達量が多くなり、従来のカートより少ない
電力で効率良く金属を蒸着することが可能となった。
キャビチーの内底面の全面に容易に諦れ拡がり、キャビ
チー底面の全面より蒸発可能となり、単位時間当りのM
の蒸着量を増加することができる。更に、ポートからA
tへの熱の伝達量が多くなり、従来のカートより少ない
電力で効率良く金属を蒸着することが可能となった。
また、溶融した蒸着材がキャビチー内底面の全面に濡れ
拡がり、濡れ拡がりの面積が変化しないため、7I?−
トの抵抗変化がなくなり蒸着中の電、源制御が容易にな
る。
拡がり、濡れ拡がりの面積が変化しないため、7I?−
トの抵抗変化がなくなり蒸着中の電、源制御が容易にな
る。
=V、キャビチー内底面の全面より蒸着する金属を蒸発
させることができ、低いポート温度での操作が可能とな
り、?−トと〃との反応がなく、さらにW 、 Ta
+ Noなどの高融点金属を用いたポートのように局部
的な腐食等が見られずポートの寿命が長いという効果を
有する。
させることができ、低いポート温度での操作が可能とな
り、?−トと〃との反応がなく、さらにW 、 Ta
+ Noなどの高融点金属を用いたポートのように局部
的な腐食等が見られずポートの寿命が長いという効果を
有する。
次に、本発明を比較例及び実施例に従って説明する。
比較例
比抵抗が1200μΩctn となるように、チタンぎ
ライド48沖量部、ボロンナイトライド28重量部及び
アルミニウムナイトライド241m部を含む導電性セラ
ミックをホットプレス法により成形した。
ライド48沖量部、ボロンナイトライド28重量部及び
アルミニウムナイトライド241m部を含む導電性セラ
ミックをホットプレス法により成形した。
この導電性セラミック成形体から16X8X100my
nの?−トを切り出し、250メツシユのダイヤモンド
ホイルによって切削し、l1w 12ir。
nの?−トを切り出し、250メツシユのダイヤモンド
ホイルによって切削し、l1w 12ir。
深さ15論、長さ70rtrmのキャビチーを形成した
。
。
蒸着材として円径1.5喘のAt線を選び、連続供給装
動“を用い10接通電で加熱さ4たが一トから連続蒸着
をおこなった。
動“を用い10接通電で加熱さ4たが一トから連続蒸着
をおこなった。
M IJ &’L、’d;L 圧8.5 V ′t%流
350AでおこないAtの巣位時間当りの蒸発量は1.
5f1分であった。
350AでおこないAtの巣位時間当りの蒸発量は1.
5f1分であった。
浴融したAtは、キャビチー全11nには濡れ拡がらず
、キャビチーの片側の壁にそって約半分に藺れ拡がった
に留まり、更に電圧を壇してが−ト温度を高くしても濶
れ拡かりは改善されなかった。この条件で300分の蒸
着を続けた後、yJ?−)はキャビチーの壁部で蒸着材
と反応し、カートは変形し、これ以上の蒸着に耐えない
ものとなった。
、キャビチーの片側の壁にそって約半分に藺れ拡がった
に留まり、更に電圧を壇してが−ト温度を高くしても濶
れ拡かりは改善されなかった。この条件で300分の蒸
着を続けた後、yJ?−)はキャビチーの壁部で蒸着材
と反応し、カートは変形し、これ以上の蒸着に耐えない
ものとなった。
実施例1
比較例と同一条件でボートにキャビチーを形成した。得
られたが一トのキャビチー底面に、サンドブラスト装鰺
にて、空気圧5 却/ crAで60メツシユのStC
研磨材を10秒間吹き付け、キャビチー底面を粗面とし
たボートを作成した。
られたが一トのキャビチー底面に、サンドブラスト装鰺
にて、空気圧5 却/ crAで60メツシユのStC
研磨材を10秒間吹き付け、キャビチー底面を粗面とし
たボートを作成した。
このボートを使用して、比較例に示す方法でAtの連続
蒸着を実施した。
蒸着を実施した。
蒸着は電圧8.0■電流310AでおこないMの単位時
間当りの蒸発し“は1.9f/分であった。
間当りの蒸発し“は1.9f/分であった。
溶融したルはキャビチーの内底面の全面に濡れ拡がり電
圧、電31f、の変動は見られなかった。
圧、電31f、の変動は見られなかった。
実施例2
比較例と同一条件でデートにキャビチーを形成した。得
られたキャビチー底面に80メツシユのダイヤモンドを
研磨面に持つ口伝砥石を約10秒間かけて底面を粗面と
した。
られたキャビチー底面に80メツシユのダイヤモンドを
研磨面に持つ口伝砥石を約10秒間かけて底面を粗面と
した。
このデートを使用して、比較例に示す方法でAtの連続
蒸着を実施した。
蒸着を実施した。
蒸加は′鑓圧8.Ov電流300AでおこないAtの単
位時間当りの蒸発量は2.0r/分であった。
位時間当りの蒸発量は2.0r/分であった。
溶融した〃はキャビチー底面の全面に個れ拡がり笥、圧
雷流の変シリ1も見られず、析めて安定した掃業が可能
であった。この条件で300分連糸売蒸着を実施したが
、キャビチー壁部の腐食をま舅、られなかった。
雷流の変シリ1も見られず、析めて安定した掃業が可能
であった。この条件で300分連糸売蒸着を実施したが
、キャビチー壁部の腐食をま舅、られなかった。
特許出願人 電気化学■秦株式会社
Claims (1)
- 基材にAtを真空蒸着するにあたり、チタンがライドを
主成分とし、ボロンナイトライドを含有する導電性セラ
ミックスからなる真空蒸発用抵抗加熱器の内底面を粗面
状に処理したものを真空蒸着装愼内に装填し直接通電に
より前記加熱器を加熱すると共にAt線の連続供給装遣
からAt線を供給し、基材に〃を連続的に蒸着すること
な特りと′1−るAtの連続蒸着法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19228284A JPS6086268A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | Alの連続蒸着法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19228284A JPS6086268A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | Alの連続蒸着法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10026077A Division JPS5433878A (en) | 1977-08-22 | 1977-08-22 | Resistance heater and method of treating the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6086268A true JPS6086268A (ja) | 1985-05-15 |
Family
ID=16288682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19228284A Pending JPS6086268A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | Alの連続蒸着法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6086268A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5068931A (ja) * | 1973-10-23 | 1975-06-09 | ||
| JPS5040850B1 (ja) * | 1971-07-15 | 1975-12-27 | ||
| JPS5433878A (en) * | 1977-08-22 | 1979-03-12 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Resistance heater and method of treating the same |
-
1984
- 1984-09-13 JP JP19228284A patent/JPS6086268A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5040850B1 (ja) * | 1971-07-15 | 1975-12-27 | ||
| JPS5068931A (ja) * | 1973-10-23 | 1975-06-09 | ||
| JPS5433878A (en) * | 1977-08-22 | 1979-03-12 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Resistance heater and method of treating the same |
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