JPS6086567U - 液相エピタキシヤル成長装置 - Google Patents
液相エピタキシヤル成長装置Info
- Publication number
- JPS6086567U JPS6086567U JP17842183U JP17842183U JPS6086567U JP S6086567 U JPS6086567 U JP S6086567U JP 17842183 U JP17842183 U JP 17842183U JP 17842183 U JP17842183 U JP 17842183U JP S6086567 U JPS6086567 U JP S6086567U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid phase
- epitaxial growth
- phase epitaxial
- knife
- flat part
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は従来装置の構成と使用方法を示す断面図、第２
図は本考案の一実施例の構成を示す断面図、第３図は第
２図示の装置の使用方法を示す断面図である。 １．１０・・・・・・基板ホルダー、２・・・・・・メ
ルトホルダー、３，１１・・・・・・基板収納用凹部、
４・・・・・・半導体基板、５・・・・・・半導体メル
ト、６，１８・・・・・・メルトの残留部、１２・・・
・・・ナイフェツジ状突起部、１３・・・・・・平坦部
、１４・・・・・・溶液引き込み用凹部、１６・・・・
・・溶液引き込み用凹部の底面、１７・・・・・・溶液
引き込み用凹部の傾斜した端面。
図は本考案の一実施例の構成を示す断面図、第３図は第
２図示の装置の使用方法を示す断面図である。 １．１０・・・・・・基板ホルダー、２・・・・・・メ
ルトホルダー、３，１１・・・・・・基板収納用凹部、
４・・・・・・半導体基板、５・・・・・・半導体メル
ト、６，１８・・・・・・メルトの残留部、１２・・・
・・・ナイフェツジ状突起部、１３・・・・・・平坦部
、１４・・・・・・溶液引き込み用凹部、１６・・・・
・・溶液引き込み用凹部の底面、１７・・・・・・溶液
引き込み用凹部の傾斜した端面。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 基板ホルダーとメルトホルダーを備えた液相エピタキシ
ャル成長装置において、 前記基板ホルダーは、 略々直立した端面によって囲まれた基板収納用凹部、 該基板収納用凹部の直立した端面の一つを前縁とするナ
イフェツジ状突起部、 該ナイフェツジ状突起部の後縁に連接して形成された平
坦部、並びに 該平坦部に連接して形成され且つ前記基板収納用凹部の
底面よりも深い底面及び前記ナイフェツジ状突起部から
離間した側において該底面から基板ホルダーの表面に連
なる傾斜した端面を有す、る溶液引き込み用凹部を備え
たことを特徴とする液相エピタキシャル成長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17842183U JPS6086567U (ja) | 1983-11-18 | 1983-11-18 | 液相エピタキシヤル成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17842183U JPS6086567U (ja) | 1983-11-18 | 1983-11-18 | 液相エピタキシヤル成長装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6086567U true JPS6086567U (ja) | 1985-06-14 |
Family
ID=30387372
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17842183U Pending JPS6086567U (ja) | 1983-11-18 | 1983-11-18 | 液相エピタキシヤル成長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6086567U (ja) |
-
1983
- 1983-11-18 JP JP17842183U patent/JPS6086567U/ja active Pending
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