JPS6086797A - 薄膜el表示パネル - Google Patents
薄膜el表示パネルInfo
- Publication number
- JPS6086797A JPS6086797A JP58194834A JP19483483A JPS6086797A JP S6086797 A JPS6086797 A JP S6086797A JP 58194834 A JP58194834 A JP 58194834A JP 19483483 A JP19483483 A JP 19483483A JP S6086797 A JPS6086797 A JP S6086797A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- film
- display panel
- thin
- dielectric
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims description 23
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 17
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 6
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は交流又は直流の電界印加によってEL(E16
ctro−Luminescence ) 発光を呈す
る薄IN EL表示パネルの特性に対し有効となる絶縁
膜に関するものである。
ctro−Luminescence ) 発光を呈す
る薄IN EL表示パネルの特性に対し有効となる絶縁
膜に関するものである。
薄膜FiL表示パネルは、従来、交流動作で発光層に規
則的に高い電界(106v/Q、I程度)を印加し、絶
縁耐圧2発光効率及び動作の安定性等を高めるために、
01〜2. Ow t%のM nあるいはOu、TbF
3 、F!mF3等をドープしたZnS、Zn5e等の
半導体発光層をS i O2,Ta2O。
則的に高い電界(106v/Q、I程度)を印加し、絶
縁耐圧2発光効率及び動作の安定性等を高めるために、
01〜2. Ow t%のM nあるいはOu、TbF
3 、F!mF3等をドープしたZnS、Zn5e等の
半導体発光層をS i O2,Ta2O。
、TiO2,Y2O3等の誘電体薄膜でサンドインチし
た三層構造KL表示パネルが代表的な例としてよく知ら
れている。また、最近ではEL表示パネルの駆動電圧を
下げるために二重fa t&構造から絶縁層を1つ取り
除いたMより (Metal In5ula−tor
Sem1conductor )構造も精力的に研究が
進められている。
た三層構造KL表示パネルが代表的な例としてよく知ら
れている。また、最近ではEL表示パネルの駆動電圧を
下げるために二重fa t&構造から絶縁層を1つ取り
除いたMより (Metal In5ula−tor
Sem1conductor )構造も精力的に研究が
進められている。
第1図は二重絶縁構造の薄j模FiL表示パネルの断面
図である。
図である。
ガラス基板1上にIn2O3、SnO□等の透明電極2
、さらにその上に積層して51o2 。
、さらにその上に積層して51o2 。
Ta20B 、Y2O,、TiO2,A7.20..5
isN4等からなる第1の誘電体層3がスパッタまたは
蒸着などにより形成されている。第1の誘電体層乙の上
にZns:MnやZ n B e : M nなどの前
記材料よりなる発光層5が焼結ベレットの電子ビーム蒸
着などで形成される。発光層5の上には第1の誘電体層
3と同様の材質から成る第2の誘電体層4が積層され、
更にその上にAt等からなる背面電極6がf膜形成され
ている。透明電極2と背面電極6は交流を源7に接続さ
れ、薄膜EL表示パネルが駆動される。
isN4等からなる第1の誘電体層3がスパッタまたは
蒸着などにより形成されている。第1の誘電体層乙の上
にZns:MnやZ n B e : M nなどの前
記材料よりなる発光層5が焼結ベレットの電子ビーム蒸
着などで形成される。発光層5の上には第1の誘電体層
3と同様の材質から成る第2の誘電体層4が積層され、
更にその上にAt等からなる背面電極6がf膜形成され
ている。透明電極2と背面電極6は交流を源7に接続さ
れ、薄膜EL表示パネルが駆動される。
第2図はIA工S構造の薄膜KL光表示<ネルの断面図
である。これは第1図の二重絶縁構造から絶縁層を1つ
取り除いた構造である。絶縁層を取り除いた分だけ発光
層に電圧が有効に印加される。
である。これは第1図の二重絶縁構造から絶縁層を1つ
取り除いた構造である。絶縁層を取り除いた分だけ発光
層に電圧が有効に印加される。
このような薄膜KL表示パネルに関する最大の技術課題
は長期信頼性の確保であり、そのポイントはいかに緻密
で絶縁性の優れた誘電体層を形成できるかということで
ある。特に100〜200■以上の高い駆動電圧をU十
Vに下げられる可能性のあるM工84M造のEL表ノJ
ミパネルにおいては、膜質の向上による安定化が不可欠
である。
は長期信頼性の確保であり、そのポイントはいかに緻密
で絶縁性の優れた誘電体層を形成できるかということで
ある。特に100〜200■以上の高い駆動電圧をU十
Vに下げられる可能性のあるM工84M造のEL表ノJ
ミパネルにおいては、膜質の向上による安定化が不可欠
である。
本発明は、比較的薄膜形成が容易な金属を蒸着やスパッ
ター、イオンブレーティング等で薄膜状に形成した後、
無水溶液中で陽極酸化により得られるピンホールがない
緻密な絶縁膜をKL構造に付与することによって、低電
圧駆動が可能な薄膜KL表示パネルを提供するものであ
る。
ター、イオンブレーティング等で薄膜状に形成した後、
無水溶液中で陽極酸化により得られるピンホールがない
緻密な絶縁膜をKL構造に付与することによって、低電
圧駆動が可能な薄膜KL表示パネルを提供するものであ
る。
薄1iEL表示パネルに用いられる誘電体絶縁層は、こ
れまでスパッターや蒸着などの物理的な方法で形成され
ているが、その3b成手法と結果として生成する誘電体
層の電気的絶縁特性とは必ずしも対応した満足すべき結
果を与えるものではない特に薄膜EL表示パネルのよう
に基本的に発光層に高い電界を印加する必要のあるデバ
イスにおいては、誘電体層の形成時に電気的絶縁特性が
確保される手法のほうが望ましい。
れまでスパッターや蒸着などの物理的な方法で形成され
ているが、その3b成手法と結果として生成する誘電体
層の電気的絶縁特性とは必ずしも対応した満足すべき結
果を与えるものではない特に薄膜EL表示パネルのよう
に基本的に発光層に高い電界を印加する必要のあるデバ
イスにおいては、誘電体層の形成時に電気的絶縁特性が
確保される手法のほうが望ましい。
陽極酸化法による誘電体絶縁層の形成は、望ましい手法
の一つと考えられる。
の一つと考えられる。
しかし、各C来の含水性溶液中で形成した酸化膜の表面
には、一般に凹凸およびピンホールが観察される。これ
は、酸化反応によって発生した膜中のプロトンが酸化膜
表面で電子をトラップして水素ガスになり、膜外へ噴出
する際にピンホールを発生するためと推定されている。
には、一般に凹凸およびピンホールが観察される。これ
は、酸化反応によって発生した膜中のプロトンが酸化膜
表面で電子をトラップして水素ガスになり、膜外へ噴出
する際にピンホールを発生するためと推定されている。
これに対して無水溶゛液中で形成した酸化膜は、平?j
t性、緻密性ともに優れており、絶縁特性も格段の耐性
を示した。
t性、緻密性ともに優れており、絶縁特性も格段の耐性
を示した。
本発明の具体的な実施例を以下に説明していく。第2図
のM工S構造の薄膜EL表示ノぐネルでは、バイレック
ス等の耐熱ガラスから成るガラス基板1上に例えば帯状
成形された透明電極2がコーテングされ、その上にZn
8発光層5が電子ビーム蒸着で積層される。さらにAI
!−が積層され、硝酸カリウムを加えたエチレングリコ
ール溶′液中で定電流陽極酸化と定電圧陽極酸化を行な
ってAA20.膜4を形成した。上記多層膜上にAt金
属層を150°C以上の温度で蒸着し、背面電極6とし
た。透明電極2及び背面電極6よりリード端子をとり電
源7により給′亀される。
のM工S構造の薄膜EL表示ノぐネルでは、バイレック
ス等の耐熱ガラスから成るガラス基板1上に例えば帯状
成形された透明電極2がコーテングされ、その上にZn
8発光層5が電子ビーム蒸着で積層される。さらにAI
!−が積層され、硝酸カリウムを加えたエチレングリコ
ール溶′液中で定電流陽極酸化と定電圧陽極酸化を行な
ってAA20.膜4を形成した。上記多層膜上にAt金
属層を150°C以上の温度で蒸着し、背面電極6とし
た。透明電極2及び背面電極6よりリード端子をとり電
源7により給′亀される。
なお、陽極酸化のプロセスは、硝酸カリウムo、 o
4mol−/d工工程程度む無水のエチレングリコール
を用いて、定電流陽極酸化をろ兜A/cJで乙000〜
5oooXまで強制的に膜形成を行ない、引続き定電圧
法に切シ換え最終電流密度が初期の10分の1になるま
で行なった。
4mol−/d工工程程度む無水のエチレングリコール
を用いて、定電流陽極酸化をろ兜A/cJで乙000〜
5oooXまで強制的に膜形成を行ない、引続き定電圧
法に切シ換え最終電流密度が初期の10分の1になるま
で行なった。
さらに必要に応じて上記酸化膜を100−、’+00″
Cの温度範囲で30〜60分間アニーリングした。
Cの温度範囲で30〜60分間アニーリングした。
このようにして作製したM IS ufJ造の薄膜EL
表示パネルは、45〜50Vで大体5850久全ピーク
に幅広い波長領域で強い発光を呈する。
表示パネルは、45〜50Vで大体5850久全ピーク
に幅広い波長領域で強い発光を呈する。
信頼性については、104時間経過した状況で異常はな
い。
い。
前記実施例と同様に8iをOVDで薄が膜形成した後、
Atと同様の売件で陽極酸化したが、同じように優れた
結果を得た。
Atと同様の売件で陽極酸化したが、同じように優れた
結果を得た。
またTaをスパッターで薄膜形成した後、陽極酸化で作
成したT a20.膜は、誘電率が大きく、20〜25
Vで強い発光を呈した。
成したT a20.膜は、誘電率が大きく、20〜25
Vで強い発光を呈した。
以上説明したように本発明の非水溶液による陽極酸化絶
縁膜を用いた薄膜EL表示パネルは、パネルの長期信頼
性、駆動電圧の安定化、さらにはM 工S構造による低
電圧ρイ動化に著しい効果をもたらした。
縁膜を用いた薄膜EL表示パネルは、パネルの長期信頼
性、駆動電圧の安定化、さらにはM 工S構造による低
電圧ρイ動化に著しい効果をもたらした。
第1図は二重絶縁構造による薄膜KL表示パネルの断面
模型図である。 第2図はM工S構這による薄膜EL表示パネルの断tT
+j図模型図である。 1・・・・・・・・・ガラス基板 2・・・・・・・・・透明電極 3.4・・・誘電体絶縁層 5・・・・・・・・・発光層 6・・・・・・・・・背面電杼 7・・・・・・・・・電源 第2図
模型図である。 第2図はM工S構這による薄膜EL表示パネルの断tT
+j図模型図である。 1・・・・・・・・・ガラス基板 2・・・・・・・・・透明電極 3.4・・・誘電体絶縁層 5・・・・・・・・・発光層 6・・・・・・・・・背面電杼 7・・・・・・・・・電源 第2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 電圧印加によりEL光発光呈する薄膜KL素子に
おいて、二重絶縁構造又はM工8構造の絶縁膜として金
属薄膜を非水系温媒の陽極酸化により形成した膜を採用
したことを特徴とする薄膜EL表示パネル。 2 金属薄膜として、8i、At、Ta、Y、のいずれ
か、又はそれらの2種以上の薄膜であることを特徴とす
る特許請求の範FfJJ第1項記載の薄膜EL表示パネ
ル。 38 非水系溶媒として無水エチレングリコールを用い
たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の薄膜K
L表示パ′ネル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58194834A JPS6086797A (ja) | 1983-10-18 | 1983-10-18 | 薄膜el表示パネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58194834A JPS6086797A (ja) | 1983-10-18 | 1983-10-18 | 薄膜el表示パネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6086797A true JPS6086797A (ja) | 1985-05-16 |
Family
ID=16331036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58194834A Pending JPS6086797A (ja) | 1983-10-18 | 1983-10-18 | 薄膜el表示パネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6086797A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01265495A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-23 | Gunze Ltd | エレクトロルミネッセンス素子 |
-
1983
- 1983-10-18 JP JP58194834A patent/JPS6086797A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01265495A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-23 | Gunze Ltd | エレクトロルミネッセンス素子 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPWO2003045115A1 (ja) | El素子 | |
| FI78211C (fi) | Elektroluminescensanordning och foerfarande foer dess tillverkning. | |
| JPS6086797A (ja) | 薄膜el表示パネル | |
| JP2902745B2 (ja) | 有機エレクトロルミネッセンス素子 | |
| EP1554913B1 (en) | Thin film phosphor for electroluminescent displays | |
| JPS6040160B2 (ja) | 電場発光素子 | |
| JP5283166B2 (ja) | 衝突励起型el用蛍光体、衝突励起型el用蛍光体薄膜の製造方法、薄膜el素子、薄膜elディスプレイ及び薄膜elランプ | |
| JPS5829880A (ja) | 電場発光素子 | |
| JP2000173775A (ja) | 紫外発光エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 | |
| JPS63994A (ja) | 薄膜電場発光素子の製造法 | |
| JPS6343293A (ja) | 薄膜el素子 | |
| JPH0541284A (ja) | El素子 | |
| JPS617595A (ja) | 薄膜el素子に於ける透明導電膜の製造方法 | |
| JPS6337592A (ja) | 薄膜エレクトロルミネツセンス素子の製造法 | |
| JPS60100398A (ja) | 薄膜発光素子 | |
| JPS5832393A (ja) | 薄膜電場発光素子 | |
| JPH06251873A (ja) | エレクトロルミネッセンス素子の形成方法 | |
| JPH0726196B2 (ja) | アルミナ薄膜の形成方法 | |
| JP2760607B2 (ja) | 発光素子 | |
| JPH0294289A (ja) | 薄膜型エレクトロルミネツセンス素子の製造法 | |
| JPS5910033B2 (ja) | 薄膜エレクトロルミネセンス素子の製造方法 | |
| CN1808732A (zh) | 无机电致发光显示器及其制作方法 | |
| JPS6338982A (ja) | エレクトロルミネツセンス素子 | |
| JPH04363895A (ja) | エレクトロルミネッセンス素子 | |
| JPH08330074A (ja) | エレクトロルミネッセンス発光素子 |