JPS6088540U - エツチング装置 - Google Patents

エツチング装置

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Publication number
JPS6088540U
JPS6088540U JP18163383U JP18163383U JPS6088540U JP S6088540 U JPS6088540 U JP S6088540U JP 18163383 U JP18163383 U JP 18163383U JP 18163383 U JP18163383 U JP 18163383U JP S6088540 U JPS6088540 U JP S6088540U
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JP
Japan
Prior art keywords
etching device
electrodes
abstract
recorded
etches
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Pending
Application number
JP18163383U
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English (en)
Inventor
有村　孝一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPS6088540U publication Critical patent/JPS6088540U/ja
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  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の枚葉式ドライエツチング装置、第２図は
、本考案の一実施例による枚葉式ドライエツチング装置
である。 １．１５・・・真空チャンバ、２・・・上部電極高さ調
整用駒、３，１２・・・上部電極、４，１３・・・下部
電極、５，１４・・・半導体ウェハー、６，１６・・・
シールド板、７・・・駆動モータ、８・・・エンコーダ
スリット、９・・・センサ、１０・・・ピッチスクリュ
ー、１１・・・平板。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. チェンバー内に二つの電極を有し電極間に高周波をかけ
    ることによりエツチングするエツチング装置において、
    前記二つの電極の間隔を自動的に可変する手段が設けら
    れていることを特徴とする、　　　　エツチング装置。
JP18163383U 1983-11-25 1983-11-25 エツチング装置 Pending JPS6088540U (ja)

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JP18163383U JPS6088540U (ja) 1983-11-25 1983-11-25 エツチング装置

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JP18163383U JPS6088540U (ja) 1983-11-25 1983-11-25 エツチング装置

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JPS6088540U true JPS6088540U (ja) 1985-06-18

Family

ID=30393546

Family Applications (1)

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JP18163383U Pending JPS6088540U (ja) 1983-11-25 1983-11-25 エツチング装置

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Country Link
JP (1) JPS6088540U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01279783A (ja) * 1988-05-02 1989-11-10 Tokyo Electron Ltd エッチング装置及びエッチング方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01279783A (ja) * 1988-05-02 1989-11-10 Tokyo Electron Ltd エッチング装置及びエッチング方法

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