JPS609116B2 - パラジウム及びパラジウム合金の電着方法 - Google Patents
パラジウム及びパラジウム合金の電着方法Info
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- JPS609116B2 JPS609116B2 JP56198322A JP19832281A JPS609116B2 JP S609116 B2 JPS609116 B2 JP S609116B2 JP 56198322 A JP56198322 A JP 56198322A JP 19832281 A JP19832281 A JP 19832281A JP S609116 B2 JPS609116 B2 JP S609116B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/50—Electroplating: Baths therefor from solutions of platinum group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/567—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of platinum group metals
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- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はアンミン第一パラジウム塩化物、すなわちP
d(NH3)2Cそ2 のようなアンミンパラジウム化
合物の形態におけるパラジウムを用いためつき俗から生
地上にパラジウム金属又はパラジウム合金を雷着せしめ
る組成物及びその方法に関する。
d(NH3)2Cそ2 のようなアンミンパラジウム化
合物の形態におけるパラジウムを用いためつき俗から生
地上にパラジウム金属又はパラジウム合金を雷着せしめ
る組成物及びその方法に関する。
生地上にパラジウム金属及びその合金を軍着せしめるこ
とに関する先行特許は多数ありその代表的なものは次の
ようである:米国特許第353005び号一日ill他
同上 第358082び号−Yamamma他同上
第367790y号−Yamamma池同上 第4
066517号−Sにvens他同上 第40986
56号−De肋erこれらの引用文献からも明らかなよ
うにめつき溶液中のパラジウム金属成分は単独か又は合
金金属と共に用いるかのいずれにおいても、たとえばア
ンミン第一パラジウム塩化物及びジアンミンパラジゥム
ジ亜硝酸塩のようなァンミン鍔体の形態で用いるのが有
利であることは明らかである。
とに関する先行特許は多数ありその代表的なものは次の
ようである:米国特許第353005び号一日ill他
同上 第358082び号−Yamamma他同上
第367790y号−Yamamma池同上 第4
066517号−Sにvens他同上 第40986
56号−De肋erこれらの引用文献からも明らかなよ
うにめつき溶液中のパラジウム金属成分は単独か又は合
金金属と共に用いるかのいずれにおいても、たとえばア
ンミン第一パラジウム塩化物及びジアンミンパラジゥム
ジ亜硝酸塩のようなァンミン鍔体の形態で用いるのが有
利であることは明らかである。
先に技術において開示せられているアンミンパラジウム
及びパラジウム合金電解液又はめつき俗は通常pll範
囲約6.5及び100の範囲内で操作する。不幸にして
これらの俗は約2000なし、し7000の操作におい
てそのPHが5又はそれ以下に低下する傾向があり操作
を困難ならしめる。PHがひとたびこの水準に低下する
とパラジウム金属塩と同時に合金化金属塩の著しい沈澱
が生起する。従来、リン酸アンモニウム又はリン酸アル
カリ金属のような緩衝剤を用いることにより、かかる好
ましからざるpHの低下を防止しうろことが教示せられ
てきた。しかしながら、かかる緩衝剤を使用するとこれ
ら金属がリン酸塩として好ましくない沈澱を生成する傾
向があった。従ってアンミンパラジウム錯体電解液の使
用にあたっての主な問題点は頻繁にpHを調節してパラ
ジウム及び又はその合金化金属がひどく沈澱するのを防
止する必要性があった。この発明の目的は各種の生地上
へのパラジウム金属の電着に際して電解質としてアンミ
ンパラジウム鎖体を用いる際の諸問題を解決するための
方法を提供するにある。この発明の他の目的は操作中に
好ましくないpHの低下を起こさないようなめつき俗で
あって、アンミンパラジウム錯体単独又はこれと合金化
金属化合物とを含有するめつき格を提供することにある
。
及びパラジウム合金電解液又はめつき俗は通常pll範
囲約6.5及び100の範囲内で操作する。不幸にして
これらの俗は約2000なし、し7000の操作におい
てそのPHが5又はそれ以下に低下する傾向があり操作
を困難ならしめる。PHがひとたびこの水準に低下する
とパラジウム金属塩と同時に合金化金属塩の著しい沈澱
が生起する。従来、リン酸アンモニウム又はリン酸アル
カリ金属のような緩衝剤を用いることにより、かかる好
ましからざるpHの低下を防止しうろことが教示せられ
てきた。しかしながら、かかる緩衝剤を使用するとこれ
ら金属がリン酸塩として好ましくない沈澱を生成する傾
向があった。従ってアンミンパラジウム錯体電解液の使
用にあたっての主な問題点は頻繁にpHを調節してパラ
ジウム及び又はその合金化金属がひどく沈澱するのを防
止する必要性があった。この発明の目的は各種の生地上
へのパラジウム金属の電着に際して電解質としてアンミ
ンパラジウム鎖体を用いる際の諸問題を解決するための
方法を提供するにある。この発明の他の目的は操作中に
好ましくないpHの低下を起こさないようなめつき俗で
あって、アンミンパラジウム錯体単独又はこれと合金化
金属化合物とを含有するめつき格を提供することにある
。
更にこの発明の目的はパラジウム又は合金化金属塩類の
著しい沈澱が避けられるようなァンミンパラジウム錯体
含有めつき浴を提供することにある。更にこの発明の自
適は特殊な露着格を用いて生地上にパラジウム又はその
合金をめつきする改良方法を提供することにある。
著しい沈澱が避けられるようなァンミンパラジウム錯体
含有めつき浴を提供することにある。更にこの発明の自
適は特殊な露着格を用いて生地上にパラジウム又はその
合金をめつきする改良方法を提供することにある。
この発明によればめつき格の調製に際してホウ酸塩緩衝
剤を用いることによりパラジウム金属又は合金化金属塩
類の甚だしい沈澱を避けながら安定したpHが維持せら
れうろことが判明した。
剤を用いることによりパラジウム金属又は合金化金属塩
類の甚だしい沈澱を避けながら安定したpHが維持せら
れうろことが判明した。
このホウ酸塩緩衝剤は格のpHを約6.5ないし9.5
の範囲以内に収めるのに十分な量で添加する。このpH
は約20こ○ないし760の通常のパラジウム金属めつ
き温度及び約1なし、し100ASF(0.1なし、し
10.7A/Dめ)、好ましくは3なし、し50ASF
(0.3ないし5.4A/D〆)の電流密度を用いる実
際的なめつき条件下においては、pH5又はそれ以下に
は低下しない。この結果格のpHを好ましい範囲にする
ことによりパラジウム又は合金化金属塩の甚しい沈澱が
避けられ;かつその上に、この発明において用いたホウ
酸塩は好ましからざる沈澱を生じてめつき格の通常の機
能を阻害するような金属塩を形成する傾向がない。この
発明に用いるホウ酸塩はホウ酸をアルカリ金属水酸化物
、アンモニア、水酸化アンモニウム又はアミンにより中
和して生成される。
の範囲以内に収めるのに十分な量で添加する。このpH
は約20こ○ないし760の通常のパラジウム金属めつ
き温度及び約1なし、し100ASF(0.1なし、し
10.7A/Dめ)、好ましくは3なし、し50ASF
(0.3ないし5.4A/D〆)の電流密度を用いる実
際的なめつき条件下においては、pH5又はそれ以下に
は低下しない。この結果格のpHを好ましい範囲にする
ことによりパラジウム又は合金化金属塩の甚しい沈澱が
避けられ;かつその上に、この発明において用いたホウ
酸塩は好ましからざる沈澱を生じてめつき格の通常の機
能を阻害するような金属塩を形成する傾向がない。この
発明に用いるホウ酸塩はホウ酸をアルカリ金属水酸化物
、アンモニア、水酸化アンモニウム又はアミンにより中
和して生成される。
中和は格の調製間に行うか又は別個に中和して生成した
ホウ酸塩を俗の一成分として添加する。このようなホウ
酸の中和は次のような物質、すなわちアンモニア;水酸
化アンモニウム:水酸化ナトリウム、水酸化カリウムそ
の他のようなアルカリ又はアルカリ士類金属:又はエチ
レンジアミン、ジェチレントリアミンその他のようなア
ミンを用いて実施しうる。好ましいホウ酸塩はナトリウ
ムテトラボレート及びアンモニウム/ゞィポレートであ
る。好ましくはアルカリ性反応剤をホウ酸を中和するに
十分な量、すなわち約10なし、し50夕/そを用いる
だけでなく新しく調製しためつき浴の初期のpHを約6
.5ないし9.5に上昇せしめるか又は調整するのに十
分な量で使用する。ァンミンパラジウム錯体はハロゲン
化物、亜硝酸塩、硝酸塩、硫酸塩又はスルフアメートの
いずれでもよい。
ホウ酸塩を俗の一成分として添加する。このようなホウ
酸の中和は次のような物質、すなわちアンモニア;水酸
化アンモニウム:水酸化ナトリウム、水酸化カリウムそ
の他のようなアルカリ又はアルカリ士類金属:又はエチ
レンジアミン、ジェチレントリアミンその他のようなア
ミンを用いて実施しうる。好ましいホウ酸塩はナトリウ
ムテトラボレート及びアンモニウム/ゞィポレートであ
る。好ましくはアルカリ性反応剤をホウ酸を中和するに
十分な量、すなわち約10なし、し50夕/そを用いる
だけでなく新しく調製しためつき浴の初期のpHを約6
.5ないし9.5に上昇せしめるか又は調整するのに十
分な量で使用する。ァンミンパラジウム錯体はハロゲン
化物、亜硝酸塩、硝酸塩、硫酸塩又はスルフアメートの
いずれでもよい。
代表的な錆体は次のようなものである。
ジアンミン第一パラジウム塩化物〔Pd
(NQ)2C〆2〕
ジアンミンパラジウム亜硝酸塩〔Pd
(Nは)2(N02)2〕
テトラアンミンパラジウム硝酸塩〔Pd
(N&)4(N03)2〕
ジアンミンパラジウム硫酸塩〔Pd
(N&)2S04〕
使用されうる他のパラジウム塩類としてはジクロロジア
ンミンパラジウム塩化物〔(NH3)2PdC〆4〕そ
の他である。
ンミンパラジウム塩化物〔(NH3)2PdC〆4〕そ
の他である。
アンミン錆体中のパラジウム金属は約1なし、し50タ
ノ〆、好ましくは約5なし、し35夕/その範囲の量で
用いる。
ノ〆、好ましくは約5なし、し35夕/その範囲の量で
用いる。
被めつき物又は生地をパラジウム合金でめつきする必要
がいまいま起きるがこの発明に用いられる合金化金属は
銅、コバルト、カドミウム、金、鉄、インジウム、ニッ
ケル、銀、スズ及び亜鉛のアミノ塩類である。
がいまいま起きるがこの発明に用いられる合金化金属は
銅、コバルト、カドミウム、金、鉄、インジウム、ニッ
ケル、銀、スズ及び亜鉛のアミノ塩類である。
代表的な合金化金属成分にはアンミン第一ニッケル塩化
物、アミノ酢酸亜鉛、エチレンジアミン四酢酸コバルト
鍔体、ニトリロ三酢酸ニッケル鈴体等が包含せられる。
合金化金属成分は浴中に約0なし、し50夕/夕、好ま
しくは約5ないし20夕/その範囲の量において存在し
うる。
物、アミノ酢酸亜鉛、エチレンジアミン四酢酸コバルト
鍔体、ニトリロ三酢酸ニッケル鈴体等が包含せられる。
合金化金属成分は浴中に約0なし、し50夕/夕、好ま
しくは約5ないし20夕/その範囲の量において存在し
うる。
この俗は又、導電性塩約5ないし1509/そ、好まし
くは10ないし100夕/夕を含有する。
くは10ないし100夕/夕を含有する。
当該目的に対する導電性塩はアンモニウム又はアルカリ
金属のハロゲン化物、カルボン酸塩、硫酸塩、硝酸塩及
びスルフアメート塩である。たとえばかかる塩は塩化ア
ンモニウム、クエン酸アンモニウム、硝酸アンモニウム
、硝酸ナトリウム、スルフアミン酸アンモニウム、硫酸
アンモニウム等及びこれらの混合物を包含する。特に好
ましい導電性塩は塩化アンモニウム、クエン酸アンモニ
ウム、クエン酸カリウム及びこれらの混合物である。こ
の発明のめつき俗を調製するに際しては、ある種の目的
に対しては光沢剤を使用するのが好ましい。この目的に
対して有用な光沢剤は芳香族スルホンアミド、芳香族ス
ルホンィミド、アルカリ金属芳香族スルホネート及び芳
香族スルホン酸類の単独又は混合物である。特に好まし
い光沢剤はナトリウムナフタレンスルホネート、サッカ
リンナトリウム塩及びこれらの混合物である。一般に光
沢剤は約0.1ないし5夕/そ、好ましくは約0.5な
いし4タノクの範囲の量で用いる。ある場合には裕中に
“遊離”又は錯体化していない亜硝酸イオン源を供給す
るのが好ましい。
金属のハロゲン化物、カルボン酸塩、硫酸塩、硝酸塩及
びスルフアメート塩である。たとえばかかる塩は塩化ア
ンモニウム、クエン酸アンモニウム、硝酸アンモニウム
、硝酸ナトリウム、スルフアミン酸アンモニウム、硫酸
アンモニウム等及びこれらの混合物を包含する。特に好
ましい導電性塩は塩化アンモニウム、クエン酸アンモニ
ウム、クエン酸カリウム及びこれらの混合物である。こ
の発明のめつき俗を調製するに際しては、ある種の目的
に対しては光沢剤を使用するのが好ましい。この目的に
対して有用な光沢剤は芳香族スルホンアミド、芳香族ス
ルホンィミド、アルカリ金属芳香族スルホネート及び芳
香族スルホン酸類の単独又は混合物である。特に好まし
い光沢剤はナトリウムナフタレンスルホネート、サッカ
リンナトリウム塩及びこれらの混合物である。一般に光
沢剤は約0.1ないし5夕/そ、好ましくは約0.5な
いし4タノクの範囲の量で用いる。ある場合には裕中に
“遊離”又は錯体化していない亜硝酸イオン源を供給す
るのが好ましい。
遊離亜硝酸イオン源として好ましいものはアルカリ金属
亜硝酸塩のような水溶性無機亜硝酸化合物である。特に
好ましい亜硝酸塩は頭硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム
、亜硝酸アンモニウムその他である。用いる蛭硝酸イオ
ンの量は変えうるが裕中のパラジウムイオンに対して少
くとも約0.05重量%である。初期にはこの亜硝酸イ
オンの濃度はパラジウムイオンの重量基準約0.1ない
し約50重量%の範囲でありうる。この発明の格は不溶
性白金、白金クラッド、タンタル又はコロンビュゥム陽
極を使用して操作する。
亜硝酸塩のような水溶性無機亜硝酸化合物である。特に
好ましい亜硝酸塩は頭硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム
、亜硝酸アンモニウムその他である。用いる蛭硝酸イオ
ンの量は変えうるが裕中のパラジウムイオンに対して少
くとも約0.05重量%である。初期にはこの亜硝酸イ
オンの濃度はパラジウムイオンの重量基準約0.1ない
し約50重量%の範囲でありうる。この発明の格は不溶
性白金、白金クラッド、タンタル又はコロンビュゥム陽
極を使用して操作する。
一般にはラックめつきを行い、かつ加工材料、たとえば
箱形及びピン形接点、プリント配線基板形接点、装飾品
等は銅、真ちゆう、青銅、ニッケル、銀、鋼等の表面を
有する。生成したパラジウム金属又はパラジウム金属合
金析出物は極めて高品位なものであった。この発明は次
の実施例を参照することによりより良く理解することが
できよう。
箱形及びピン形接点、プリント配線基板形接点、装飾品
等は銅、真ちゆう、青銅、ニッケル、銀、鋼等の表面を
有する。生成したパラジウム金属又はパラジウム金属合
金析出物は極めて高品位なものであった。この発明は次
の実施例を参照することによりより良く理解することが
できよう。
実施例 I
水性のパラジウム金属めつき俗を次の処方により調製し
た:成分 G/L アンミン第一パラジウム塩化物 10(Pd金属として) 塩化アンモニウム 50 ホウ酸 30 水酸化アンモニウム PH8.沙〆下水
バランス 当該格を約20℃ないし約70℃、電流密度10ASF
(1.1A/D〆)において操作した。
た:成分 G/L アンミン第一パラジウム塩化物 10(Pd金属として) 塩化アンモニウム 50 ホウ酸 30 水酸化アンモニウム PH8.沙〆下水
バランス 当該格を約20℃ないし約70℃、電流密度10ASF
(1.1A/D〆)において操作した。
4時間後においてもこのPHは7.5以下にはならなか
った。
った。
実施例 0
次の処方に従って水性のパラジウム金属めつき俗を調製
した:成 分 G/L ジアンミンパラジウムジ亜硫酸塩 10一30(Pd金属として) 亜硫酸ナトリウム 10 硝酸アンモニウム 30 ホウ酸 20 アンモニア PH7.0−7.5
以下水 バランスこの格を約50
qCないし約7000において、かつ電流密度100な
し、し1000ASF(10.8ないし107A/D〆
)において操作した。
した:成 分 G/L ジアンミンパラジウムジ亜硫酸塩 10一30(Pd金属として) 亜硫酸ナトリウム 10 硝酸アンモニウム 30 ホウ酸 20 アンモニア PH7.0−7.5
以下水 バランスこの格を約50
qCないし約7000において、かつ電流密度100な
し、し1000ASF(10.8ないし107A/D〆
)において操作した。
4時間後においてもpH‘ま7.5以下には低下しなか
った。
った。
実施例 m
次の処方に従って水性のパラジウムーニッケル金属合金
めつきを調製した:成分 G/L アンミン第一パラジウム塩化物 10(Pd金属として) アンミン第一ニッケル塩化物 12(Ni金属として) 塩化アンモニウム 30 クエン酸アンモニウム 10 ホウ酸 15 水酸化アンモニウム PH9.0以下水
バランス俗は約2000ないし約
50qo、電流密度約20ASF(2.1A/Dの)に
おいて操作せられた。
めつきを調製した:成分 G/L アンミン第一パラジウム塩化物 10(Pd金属として) アンミン第一ニッケル塩化物 12(Ni金属として) 塩化アンモニウム 30 クエン酸アンモニウム 10 ホウ酸 15 水酸化アンモニウム PH9.0以下水
バランス俗は約2000ないし約
50qo、電流密度約20ASF(2.1A/Dの)に
おいて操作せられた。
操業後4時間後においても格のPHは7.5以下には下
らなかつた。実施例 W 実験 A タ パラジゥム金属含有量を24夕/れこ減量し、かつ
銀ジ亜硝酸アルカリ金属塩の形態における5夕/その銀
金属を存在せしめた以外は実施例0と全く同じ浴を調製
した。
らなかつた。実施例 W 実験 A タ パラジゥム金属含有量を24夕/れこ減量し、かつ
銀ジ亜硝酸アルカリ金属塩の形態における5夕/その銀
金属を存在せしめた以外は実施例0と全く同じ浴を調製
した。
浴温を20ooないし25qoに維持した。0実験 B
パラジウム金属含有量を5夕/れこ減量し、かつ合金亜
鉛金属(1夕/夕)をアミノ酢酸亜鉛の形態で存在せし
めた以外は実施列Dと全く同じ格を調製した。
鉛金属(1夕/夕)をアミノ酢酸亜鉛の形態で存在せし
めた以外は実施列Dと全く同じ格を調製した。
タ実験 C
ペンズアルデヒド−oーナトリウムスルホネート3夕/
そ及びナトリウムナフタレンスルホネート0.1夕/夕
を添加した以外は実施例虹と全く同じめつき俗を再調製
した。
そ及びナトリウムナフタレンスルホネート0.1夕/夕
を添加した以外は実施例虹と全く同じめつき俗を再調製
した。
この俗を30oC、電流密0度10及び50ASF(1
.1及び5.4A/Dで)間において操作した。実験
Dサッカリンナトリウム0.1なし、し10夕/そを添
加した以外は実施例皿と全く同じめつき俗を調製した。
.1及び5.4A/Dで)間において操作した。実験
Dサッカリンナトリウム0.1なし、し10夕/そを添
加した以外は実施例皿と全く同じめつき俗を調製した。
ひずみが少いニッケルーパラジウム皮膜を与えるように
、この格を35qo、電流密度5及び5船SF(0.5
及び5.4A/D〆)の間において電解した。通常の操
作条件下において、実験Aから実験Dのいずれの俗にお
いても著しいpHの低減、すなわち7.5から5のよう
なpH減少は見られなかった。
、この格を35qo、電流密度5及び5船SF(0.5
及び5.4A/D〆)の間において電解した。通常の操
作条件下において、実験Aから実験Dのいずれの俗にお
いても著しいpHの低減、すなわち7.5から5のよう
なpH減少は見られなかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次の組成 成分 G/L パラジウム金属 1ないし50 導電性塩 5ないし150 ホウ酸(アルカリ金属水 酸化合物、水酸化アンモ ニウム、アンモニア又は アミンを用いて浴中で pH6.5−9.5に中和) 10ないし50水 バラ
ンスを有する水性パラジウム金属めつき浴。 2 パラジウム金属がアンミンパラジウムのハロゲン化
物、亜硝酸塩、硝酸塩、硫酸塩、スルフアメート又はカ
ルボン酸誘導体として存在することを特徴とする特許請
求の範囲第1項に記載のめつき浴。 3 パラジウム金属がアンミン第1パラジウム塩化物と
して存在することを特徴とする特許請求の範囲第2項に
記載のめつき浴。 4 パラジウム金属がジアンミンパラジウム亜硝酸塩と
して存在することを特徴とする特許請求の範囲第2項に
記載のめつき浴。 5 さらに20g/l以下の合金化金属を含有すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 6 さらに5g/l以下の光沢剤を含有することを特徴
とする特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。7 さ
らに20g/l以下の合金化金属および5g/l以下の
光沢剤を含有することを特徴とする特許請求の範囲第1
項に記載のめつき浴。 8 合金化金属成分が銅、コバルト、カドミウム、金、
鉄、インジウム、ニツケル、銀、スズ及び亜鉛のアミノ
錯体ならびにその塩から成る部類から選択せられること
を特徴とする特許請求の範囲第5に記載のめつき浴。 9 合金化金属がニツケルアミノ錯体の形態であること
を特徴とする特許請求の範囲第8項に記載のめつき浴。 10 合金化金属が銀アミノ錯体の形態であることを特
徴とする特許請求の範囲第8項に記載のめつき浴。11
合金化金属が亜鉛アミノ錯体の形態であることを特徴
とする特許請求の範囲第8項に記載のめつき浴。 12 導電性塩がアンモニウム又はアルカリ金属のハロ
ゲン化物、カルボン酸塩、硫酸塩、硝酸塩及びスルフア
メート塩ならびにこれらの混合物から成る部類から選択
せられることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載
のめつき浴。 13 光沢剤が芳香族スルホンイミド、芳香族スルホン
アミド、アルカリ金属芳香族スルホネート及び芳香族ス
ルホン酸ならびにこれらの混合物から成る部類から選択
せられることを特徴とする特許請求の範囲第6項に記載
のめつき浴。 14 ホウ酸が水酸化アンモニウムにより中和せられる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のめつき
浴。 15 ホウ酸かアンモニアにより中和せられることを特
徴とする特許請求の範囲第1項に記載のめつき浴。 16 パラジウム金属又は合金化金属がめつき浴から沈
澱することを防止するための改良電着方法であつて、次
の組成成分 G/L パラジウム金属 1ないし50 導電性塩 5ないし150 ホウ酸 10ないし50 水 バランス を有する水性パラジウム金属めつき浴を用いて素地上に
20℃ないし75℃、電流密度1ないし1000ASF
(0.1ないし107A/Dm^2)においてパラジウ
ム又はパラジウム合金電着せしめる際に、操作中に浴中
のホウ酸をアルカリ金属水酸化物、水酸化アンモニウム
、アンモニア又はアミンを用いて中和して浴のpHを6
.5〜9.5に維持せしめる電着方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US21521280A | 1980-12-11 | 1980-12-11 | |
| US215212 | 1994-03-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57123992A JPS57123992A (en) | 1982-08-02 |
| JPS609116B2 true JPS609116B2 (ja) | 1985-03-07 |
Family
ID=22802107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56198322A Expired JPS609116B2 (ja) | 1980-12-11 | 1981-12-09 | パラジウム及びパラジウム合金の電着方法 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
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