JPS6092470A - 斜め方向に指向性を有する蒸発源装置 - Google Patents

斜め方向に指向性を有する蒸発源装置

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JPS6092470A
JPS6092470A JP19918383A JP19918383A JPS6092470A JP S6092470 A JPS6092470 A JP S6092470A JP 19918383 A JP19918383 A JP 19918383A JP 19918383 A JP19918383 A JP 19918383A JP S6092470 A JPS6092470 A JP S6092470A
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JP
Japan
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top end
vapor
density
electron beam
evaporating material
Prior art date
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Application number
JP19918383A
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English (en)
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JPS6363629B2 (ja
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Muneharu Komiya
小宮 宗治
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Ulvac Inc
Original Assignee
Ulvac Inc
Nihon Shinku Gijutsu KK
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Publication date
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C14/24Vacuum evaporation
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    • C23C14/30Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は真空蒸着に使用される蒸発蒸気を斜め方向に指
向性を有するように蒸発させるに適した蒸発源装置に関
する。
従来蒸発源装置として例えば第1図示のように水冷銅ハ
ースaに蒸発材料すを入れ、電子ビームCt−該蒸発材
料すに投入してこれを溶解させる式のものが知られてい
るが、この式のものではハースa内の溶解面を水平に保
つように蒸発源装置を配置すると共にその上方に基板a
’1配置し、該溶解面から蒸発する蒸気を該基板上に凝
縮させる全一般とするもので斜め方向に配置された基板
には蒸気を凝縮させ難い欠点がある。即ちこうした水平
に配置された蒸発源装置から蒸発する蒸気は鉛直方向に
最も密度が高く近似的に余弦則(cos#:nは1より
大きい実数)で表わされる密度分布を有し、傾斜方向に
はさして大きな密度分布を得ることが出来ないものであ
り、基板の配置や形状が制約されて好ましくない。
本発明は斜め方向に高い密度分布が得られる蒸発源装置
を提供することを目的としたもので、ロンド状の蒸発材
料の先端を斜め上方に向けて回転自在に設け、該蒸発材
料の先端部外周を耐熱性筒体で覆い、該先端を電子ビー
ムを当てて溶解することを特徴とする。
本発明の実施例t−図面につき説明するに、その第2図
に於て(11は真空の蒸着室、(2)は該室(1)内に
設けた蒸発源装置、(3)は蒸着処理されるべき基板を
示し、該蒸発源装置(2)は先端(4a)を斜め上方に
向けたロンド状の蒸発材料(4)と、該蒸発材料(4)
の先端部外周を覆った水冷銅ハース等の耐熱性同体(5
)を備え、該先端(4a)にはフイラメン)(6)から
磁界で偏向された電子ビーム(7)が当てられるものと
する。また蒸発材料(4)はi動機により固定の耐熱性
筒体(5)内で回転され1好ましくは該材料(4)をさ
らにその軸方向にも出没可能に設けられる。
その作動は次の通シである。
蒸発拐料(4)全回転させその先端(4a)に電子ビー
ム(7)を当てると表面が融解して放物線状に窪み、溶
けた溶湯れ重力に従って水平な溶解面を形成すべく流動
する。回転が比較的遅いと溶湯は窪み(81の下面に溜
り勝ちでおるが、回転速度が適切であると溶湯の動粘性
と遠心力及び表面張力の相乗作用によって放物面状の翅
み(8)の表面にほぼ均一な厚さに溶湯が分布し、放物
面の全面からほぼ一様に溶湯が蒸発する。こうした条件
で蒸発を行なうと傾斜回転軸(9)方向に最も密度の高
い密度分布をもった蒸気ビームαIが得られ、例えば図
示のように傾斜して設けられた基板(3)に高い密度の
蒸気を当てることが出来、迅速な蒸m’t−行なうこと
が出来る。該窪み(8)は蒸発の進行に伴ない深まるが
、ワイヤ状の蒸発材の先端を該窪み(8)に挿入して溶
解蒸発した分を補給するか、或は図示の如くロンド状の
蒸発材料(4)ヲ押し上げることにより適切な高さの溶
解面を維持出来る。
このように本発明によるときは傾斜して設けた回転自在
のロンド状の蒸発材料の先端部外周を耐熱性の筒体で覆
い、該材料の先端から電子ビームで溶解するようにした
ので斜め方向に高い密度分布の指向性を有する蒸発蒸気
を得ることが出来、基板の配置や形状に制約されること
なく蒸着を行なえる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来例の截断側面図、第2図は本発明の実施例
の截断側面図である。 (4)・・・蒸発材料、(41L)・・・先端、<5)
−・・耐熱性筒体、(7)・・・電子ビーム特許出願人
 日本真空技術株式会社 代理人 北村欣−外2名(回弐)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ロンド状の蒸発材料の先端を斜め上方に向けて回転自在
    に設け1該蒸発材料の先端部外周を耐熱性筒体で覆い、
    該先端を電子ビームを当てて溶解することを特徴とする
    斜め方向に指向性を有する蒸発源装置。
JP19918383A 1983-10-26 1983-10-26 斜め方向に指向性を有する蒸発源装置 Granted JPS6092470A (ja)

Priority Applications (1)

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JP19918383A JPS6092470A (ja) 1983-10-26 1983-10-26 斜め方向に指向性を有する蒸発源装置

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JP19918383A JPS6092470A (ja) 1983-10-26 1983-10-26 斜め方向に指向性を有する蒸発源装置

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Publication Number Publication Date
JPS6092470A true JPS6092470A (ja) 1985-05-24
JPS6363629B2 JPS6363629B2 (ja) 1988-12-08

Family

ID=16403517

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JP (1) JPS6092470A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2597174A1 (en) * 2011-11-23 2013-05-29 United Technologies Corporation Vapor deposition of ceramic coatings

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2597174A1 (en) * 2011-11-23 2013-05-29 United Technologies Corporation Vapor deposition of ceramic coatings

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JPS6363629B2 (ja) 1988-12-08

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