JPS6092834U - 半導体ウエ−ハの導電率の非接触測定装置 - Google Patents
半導体ウエ−ハの導電率の非接触測定装置Info
- Publication number
- JPS6092834U JPS6092834U JP18610883U JP18610883U JPS6092834U JP S6092834 U JPS6092834 U JP S6092834U JP 18610883 U JP18610883 U JP 18610883U JP 18610883 U JP18610883 U JP 18610883U JP S6092834 U JPS6092834 U JP S6092834U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductivity
- measurement device
- semiconductor wafers
- contact measurement
- support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は本考案測定装置の一実施例を示す一部切欠正面
図、第２図は同平面図、第３図は回路図、第４図はウェ
ーハ周縁近傍の導電率を測定している状態を示す平面路
である。 尚図中、１・・・・・・支持体、ｌａ、ｌｂ・・・・・
・支持部、Ｃ・・・・・・挿入間隙、ｆよｑ ｆ２・・
・・・・支持部の対向面、２・・・・・・検出コイル、
３・・・・・・励磁コイル、Ｗ・・・・・・半導体ウェ
ーハ。
図、第２図は同平面図、第３図は回路図、第４図はウェ
ーハ周縁近傍の導電率を測定している状態を示す平面路
である。 尚図中、１・・・・・・支持体、ｌａ、ｌｂ・・・・・
・支持部、Ｃ・・・・・・挿入間隙、ｆよｑ ｆ２・・
・・・・支持部の対向面、２・・・・・・検出コイル、
３・・・・・・励磁コイル、Ｗ・・・・・・半導体ウェ
ーハ。
Claims (1)
- 熱膨張係数の極めて小さい素材で支持体を構成し、該支
持体に所定の間隔をおいて並行に対向する一対の支持部
を設け、これら支持部間に半導体ウェーハの挿入間隙を
形成すると共に、該支持部の対向面に検出コイルと励磁
コイルとを同一軸線上に位置させて設け、この検出コイ
ル及び励磁コイルを直径３悶以下に形成してなる半導体
ウェーハの導電率の非接触測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18610883U JPS6092834U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 半導体ウエ−ハの導電率の非接触測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18610883U JPS6092834U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 半導体ウエ−ハの導電率の非接触測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092834U true JPS6092834U (ja) | 1985-06-25 |
Family
ID=30402076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18610883U Pending JPS6092834U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 半導体ウエ−ハの導電率の非接触測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092834U (ja) |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP18610883U patent/JPS6092834U/ja active Pending
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