JPS6096771A - 亜硝酸イオン濃度の制御方法 - Google Patents

亜硝酸イオン濃度の制御方法

Info

Publication number
JPS6096771A
JPS6096771A JP20374383A JP20374383A JPS6096771A JP S6096771 A JPS6096771 A JP S6096771A JP 20374383 A JP20374383 A JP 20374383A JP 20374383 A JP20374383 A JP 20374383A JP S6096771 A JPS6096771 A JP S6096771A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nitrite ion
phosphate
nitrite
potential difference
phosphate treatment
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP20374383A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6213432B2 (ja
Inventor
Yokichi Sato
佐藤 与吉
Yoshio Moriya
盛屋 喜夫
Takashi Kojima
隆司 小島
Miyuki Maeda
前田 実由紀
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nihon Parkerizing Co Ltd
Original Assignee
Nihon Parkerizing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Parkerizing Co Ltd filed Critical Nihon Parkerizing Co Ltd
Priority to JP20374383A priority Critical patent/JPS6096771A/ja
Publication of JPS6096771A publication Critical patent/JPS6096771A/ja
Publication of JPS6213432B2 publication Critical patent/JPS6213432B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/73Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals characterised by the process
    • C23C22/77Controlling or regulating of the coating process

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属のリン酸塩処理工程で使用されるリン酸
塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を測定し制御する亜硝酸
イオン濃度の制御方法に関するものである。
従来、金属のリン酸塩処理工程は、脱脂→水洗→リン酸
塩処理→水洗→乾燥からなる工程で行われ、そのリン酸
塩処理液は処理液成分の消費に応じて薬剤の補給を行い
、処理液の濃度を常に一定に保つように管理している。
リン酸塩処理液の一成分として亜硝酸イオンが促進剤と
して含有されているが、この亜硝酸イオンは亜硝酸ナト
リウムや亜硝酸カリウムの如き町浴性亜硝酸塩の形でリ
ン酸塩処理液に供給されている。金属の表面に最良のリ
ン酸塩皮膜を生成させるには、リン酸塩処理液中の亜硝
酸イオン濃度を常に最適濃度に維持することが望ましい
。従ってこの制御を行うには、リン酸塩処理液中の亜硝
酸イオン濃度を絶えまなく測定し、その測定値に基づい
て亜硝酸塩を補給し、その亜硝酸イオン濃度を望ましい
範囲に保つ必要がおる。
リン酸塩処理液中の亜硝酸イオン酸度を測定する方法に
は、例えば容量分析法として酸化還元法及びサツカロメ
ーターを用いたガス容量法、蒸留法としてキルプール法
、比色法としてn−す7チルエチレンジアミン法及びイ
オンクロマトグラフィーによる分析法等がある。しかし
これらの測定方法は・亜硝酸イオン濃度を測定する迄に
試薬類の添加、液の調整及び複雑な分析操作が必要であ
シ、ある程度の時間と面倒な操作を要する。現在リン酸
塩処理を連続して行っている工業的なリン酸塩処理液中
の亜硝酸イオン測定法には、サツカロメーター内に化成
処理液を入れ、スルファミン酸を過剰添加して発生した
ガス量からリン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を知る
ガス容量法及び酸化還元電極を用いて硫酸セリウムによ
る容量分析法(反応式NO2+ 2 Ce ” +Ht
O−NOs +2Ce +2H)が一般的である。
連続的に一定して均一なリン酸塩皮膜を得るには測定頻
度を高める必要があり、通常1o分に1同根度の測定が
必要である。しかしガス容量法は間欠的な測定法であシ
、リン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度の変化を連続し
て測定し、亜硝酸イオンを常に一定にリン酸塩処理液中
に存在させることが困難である。酸化還元電極を用いた
硫酸セリウム等の酸化剤による滴定法では、連続して化
成処理液中の亜硝酸イオン濃度を測定出来、定常に濃度
を制御することが出来るが、それには濃度を正しく調整
した滴定液を必要とし、又自動的に滴定を行う場合には
高精度の定量吐出機構をもっ滴定装置が必要であシ工業
的に適さない。
本発明の目的は、これらの欠陥を補いリン酸塩処理液中
の亜硝酸イオン製産を連続して自動的に測定し、その測
定値に基づいて自動的に亜硝酸イオンの補給を行い、リ
ン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を常に適切な範囲に
保つことが可能な方法を提供することにある。
本発明による亜硝酸イオン濃度の制御方法は、リン酸塩
処理液中の亜硝酸イオン濃度を亜硝酸イオン選択性電極
を用いて連続的に測定し、前記亜硝酸イオン濃度が予め
定めた範囲の設定値になるように亜硝酸イオンを前記リ
ン酸塩処理液に自動的に供給させるようにしたことを特
徴とするものである。
本発明に用いる亜硝酸イオン選択性電極を第1図にて説
明すると、1が亜硝酸イオン選択性電極、2が一ガラス
電極、3が内部液、4が疎水性気体透過膜である。
亜硝酸イオンは、リン酸塩処理液中で以下に示すような
経路で水素イオンと反応しN、 0.に変化する。
H十NOt ’:’KONO H+HONOイH2No : H20+No +NO+
 NCh =Nt Os 亜硝酸イオン選択性電極1をリン酸塩処理液に浸漬する
と、とのNeon は亜硝酸イオン選択性電極lの先端
部に設けられた疎水性気体透過膜4を透過して内部液3
中の水と可逆反応を起こす。
”/!NtOa + H,Od H” + NO。
疎水性気体透過膜4を透過し拡散したNtOsガス量は
、N20.の分圧に依存し化成処理液中のN、O,濃度
に比例する。内部液3の水素イオン濃度はリン酸塩処理
液中の亜硝酸イオン製産に比例するので、これから電極
電位を検出してリン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を
測定する。
この亜硝酸イオン選択性電極1をリン酸塩処理液に適用
する方法について説明すると、第2図はリン酸塩処理液
中に含まれる亜硝酸イオン濃度を連続して測定するため
のセル5であって、第3図は亜硝酸イオンを自動的に連
続して補給する操作説明図である。セル5はセル本体6
を含み、そのセル本体6は塩化ビニル、アクリル、フッ
素樹脂等の合成樹脂で作られ、その内部に亜硝酸イオン
の電位を選択測定するだめの亜硝酸イオン選択性電極1
及びそれに比較電位を与える比較電極7、更に温度補償
電極8が設置されている。
亜硝酸イオン選択性電極1及び比較電極7はリード線9
,10によって電位差検出回路12に接続されるととも
に温度補償電極8はリード線11によって温度検出回路
13に接続されている。電位差検出回路12で検出され
た両電極1−7間の電位差信号と温度検出回路13から
の温度信号とは補正回路14に入力されてその電位差が
基準温度における電位差値に補正される。補正回路14
からの電位差値と設定器15による設定値とが比較器1
6において比較されてその差信号がポンプ駆動回路17
に入力され、それに応じて亜硝酸イオンをリン酸塩処理
槽18に補給するためのサーボポンプ19が駆動される
ようになっている。
一方、亜硝酸イオン濃度を測定するための亜硝酸イオン
を含むリン酸塩処理液、即ち検液は循環ポンプ20によ
ってセル本体6の下部入口Aからその反対側のセル本体
上部出口Bに流れ、リン酸塩処理を行っている間は常に
この状態にある。セル本体上部出口Bから出たリン酸塩
処理液は再びリン酸塩処理槽18に戻シ、再びリン酸塩
処理のための処理液として用いられる。
リン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度は前述のように亜
硝酸イオン選択性電極1と比較電極7の間の電位差によ
って検知され、予め定めた所望の範囲の適正設定値と比
較して亜硝酸イオン補給液21のサーボポンプ19を作
動させる。即ち、第4図に示すように、例えば前記の電
位差が222m?(亜硝酸イオン下限濃度0.115 
t/1 )になるとサーボポンプ19が作動して亜硝酸
イオン補給液21がリン酸塩処理槽18に補給され、2
28m?(亜硝酸イオン上限濃度0.136 f/1 
)になるとサーボポンプ19が停止して亜硝酸イオン補
給液21の補給が止まる。
以上の如く、本発明を実施することにより、リン酸塩処
理液中の亜硝酸イオン濃度を連続して自動的に測定し、
その測定値に基づいて自動的に亜硝酸イオンの補給を行
い、リン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を常に適切な
範囲に保つことが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は亜硝酸イオン選択性電極の説明図、第2図はセ
ルの説明図、第3図は亜硝酸イオンを自動的に連続して
補給する操作説明図、第4図は亜硝酸イオン選択性電極
で検知された電位差、即ち亜硝酸イオン濃度と時間の関
係グラフである。 1、・・亜硝酸イオン選択性電極、5・・・セル、7・
・・比較電極、8・・・温度補償電極、12・・・電位
差検出回路、13・・・温度検出回路、14・・・補正
回路、15・・・設定器、16・・・比較器、17・・
・ポンプ駆動回路、18・・・リン酸塩処理槽、19・
・・サーボポンプ、20・・・循環ポンプ、21・・・
亜硝酸イオン補給液。 代理人 岡 部 正 良 第1図 第2図 第3図 第4図 晴 間

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. リン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を亜硝酸イオン選
    択性電極を用いて連続的に測定し、前記亜硝酸イオン濃
    度が予め定めた範囲の設定値になるように亜硝酸イオン
    を前記リン酸塩処理液に自動的に供給させるようにした
    ことを特徴とする亜硝酸イオン濃度の制御方法。
JP20374383A 1983-11-01 1983-11-01 亜硝酸イオン濃度の制御方法 Granted JPS6096771A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20374383A JPS6096771A (ja) 1983-11-01 1983-11-01 亜硝酸イオン濃度の制御方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20374383A JPS6096771A (ja) 1983-11-01 1983-11-01 亜硝酸イオン濃度の制御方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6096771A true JPS6096771A (ja) 1985-05-30
JPS6213432B2 JPS6213432B2 (ja) 1987-03-26

Family

ID=16479112

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20374383A Granted JPS6096771A (ja) 1983-11-01 1983-11-01 亜硝酸イオン濃度の制御方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6096771A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110205621A (zh) * 2019-06-18 2019-09-06 武汉钢铁有限公司 控制镀锌磷化中磷化液补充量的方法、装置和存储介质

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110205621A (zh) * 2019-06-18 2019-09-06 武汉钢铁有限公司 控制镀锌磷化中磷化液补充量的方法、装置和存储介质

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6213432B2 (ja) 1987-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3177338B2 (ja) 無電解メッキ溶液を保持する方法および装置
US3826741A (en) Method of treating waste solution containing chromate ion or cyanide ion
JPS61110799A (ja) 金属めつき槽の制御装置
JPS6096771A (ja) 亜硝酸イオン濃度の制御方法
GB2153854A (en) Automatically controlling the phosphate coating of metals
EP0442250B1 (en) Control method with redox-potential
Trojanowicz Continuous potentiometric determination of sulphate in a differential flow system
US3214301A (en) Automatic ph control of chemical treating baths
JP2002531700A (ja) 鋼の酸洗い工程を制御する装置と方法
JPH0235809Y2 (ja)
JP7777062B2 (ja) イオン濃度測定方法
JPH0524660B2 (ja)
JPH0365489B2 (ja)
JPH02118445A (ja) リン酸濃度測定装置
JPS6235059B2 (ja)
JP2786075B2 (ja) 燐酸亜鉛処理液の活性度制御装置
JP2521215Y2 (ja) Cod自動測定装置
JPS5848700A (ja) 電解浴中の金属イオン濃度の制御方法
Westbroek et al. Development of an amperometric sensor for the continuous and in-line measurement of hydrogen peroxide concentration in textile bleaching baths
US3457145A (en) Liquid and gas analysis
JPH04122090A (ja) エッチング液管理装置
JPH04168286A (ja) エッチング浴の管理方法
JPH03225262A (ja) 酸化剤消費量測定方法および装置
JPH04333581A (ja) エッチング浴の管理方法
JPH0137690B2 (ja)