JPS6213432B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6213432B2 JPS6213432B2 JP20374383A JP20374383A JPS6213432B2 JP S6213432 B2 JPS6213432 B2 JP S6213432B2 JP 20374383 A JP20374383 A JP 20374383A JP 20374383 A JP20374383 A JP 20374383A JP S6213432 B2 JPS6213432 B2 JP S6213432B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- nitrite
- nitrite ion
- phosphate treatment
- treatment solution
- ion concentration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 45
- 229940005654 nitrite ion Drugs 0.000 claims description 44
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 36
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 36
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 36
- -1 nitrite ions Chemical class 0.000 claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 34
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 5
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 4
- 210000005056 cell body Anatomy 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 3
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- OZECDDHOAMNMQI-UHFFFAOYSA-H cerium(3+);trisulfate Chemical compound [Ce+3].[Ce+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O OZECDDHOAMNMQI-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZFNGPAYDKGCRB-XCPIVNJJSA-M [(1s,2s)-2-amino-1,2-diphenylethyl]-(4-methylphenyl)sulfonylazanide;chlororuthenium(1+);1-methyl-4-propan-2-ylbenzene Chemical compound [Ru+]Cl.CC(C)C1=CC=C(C)C=C1.C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)[N-][C@@H](C=1C=CC=CC=1)[C@@H](N)C1=CC=CC=C1 AZFNGPAYDKGCRB-XCPIVNJJSA-M 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004737 colorimetric analysis Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004255 ion exchange chromatography Methods 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001463 metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002826 nitrites Chemical class 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 description 1
- 235000010289 potassium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 239000004304 potassium nitrite Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000012085 test solution Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/73—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals characterised by the process
- C23C22/77—Controlling or regulating of the coating process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属のリン酸塩処理工程で使用され
るリン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を測定し
制御する亜硝酸イオン濃度の制御方法に関するも
のである。
るリン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を測定し
制御する亜硝酸イオン濃度の制御方法に関するも
のである。
従来、金属のリン酸塩処理工程は、脱脂→水洗
→リン酸塩処理→水洗→乾燥からなる工程で行わ
れ、そのリン酸塩処理液は処理液成分の消費に応
じて薬剤の補給を行い、処理液の濃度を常に一定
に保つように管理している。リン酸塩処理液の一
成分として亜硝酸イオンが促進剤として含有され
ているが、この亜硝酸イオンは亜硝酸ナトリウム
や亜硝酸カリウムの如き可溶性亜硝酸塩の形でリ
ン酸塩処理液に供給されている。金属の表面に最
良のリン酸塩皮膜を生成させるには、リン酸塩処
理液中の亜硝酸イオン濃度を常に最適濃度に維持
することが望ましい。従つてこの制御を行うに
は、リン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を絶え
まなく測定し、その測定値に基づいて亜硝酸塩を
補給し、その亜硝酸イオン濃度を望ましい範囲に
保つ必要がある。
→リン酸塩処理→水洗→乾燥からなる工程で行わ
れ、そのリン酸塩処理液は処理液成分の消費に応
じて薬剤の補給を行い、処理液の濃度を常に一定
に保つように管理している。リン酸塩処理液の一
成分として亜硝酸イオンが促進剤として含有され
ているが、この亜硝酸イオンは亜硝酸ナトリウム
や亜硝酸カリウムの如き可溶性亜硝酸塩の形でリ
ン酸塩処理液に供給されている。金属の表面に最
良のリン酸塩皮膜を生成させるには、リン酸塩処
理液中の亜硝酸イオン濃度を常に最適濃度に維持
することが望ましい。従つてこの制御を行うに
は、リン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を絶え
まなく測定し、その測定値に基づいて亜硝酸塩を
補給し、その亜硝酸イオン濃度を望ましい範囲に
保つ必要がある。
リン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を測定す
る方法には、例えば容量分析法として酸化還元法
及びサツカロメーターを用いたガス容量法、蒸留
法としてキルダール法、比色法としてｎ―ナフチ
ルエチレンジアミン法及びイオンクロマトグラフ
イーによる分析法等がある。しかしこれらの測定
方法は、亜硝酸イオン濃度を測定する迄に試薬類
の添加、液の調整及び複雑な分析操作が必要であ
り、ある程度の時間と面倒な操作を要する。現在
リン酸塩処理を連続して行つている工業的なリン
酸塩処理液中の亜硝酸イオン測定法には、サツカ
ロメーター内に化成処理液を入れ、スルフアミン
酸を過剰添加して発生したガス量からリン酸塩処
理液中の亜硝酸イオン濃度を知るガス容量法及び
酸化還元電極を用いて硫酸セリウムによる容量分
析法（反応式NO2 -＋2Ce4+＋H2O→NO3 -＋2Ce3+
＋2H+）が一般的である。
る方法には、例えば容量分析法として酸化還元法
及びサツカロメーターを用いたガス容量法、蒸留
法としてキルダール法、比色法としてｎ―ナフチ
ルエチレンジアミン法及びイオンクロマトグラフ
イーによる分析法等がある。しかしこれらの測定
方法は、亜硝酸イオン濃度を測定する迄に試薬類
の添加、液の調整及び複雑な分析操作が必要であ
り、ある程度の時間と面倒な操作を要する。現在
リン酸塩処理を連続して行つている工業的なリン
酸塩処理液中の亜硝酸イオン測定法には、サツカ
ロメーター内に化成処理液を入れ、スルフアミン
酸を過剰添加して発生したガス量からリン酸塩処
理液中の亜硝酸イオン濃度を知るガス容量法及び
酸化還元電極を用いて硫酸セリウムによる容量分
析法（反応式NO2 -＋2Ce4+＋H2O→NO3 -＋2Ce3+
＋2H+）が一般的である。
連続的に一定して均一なリン酸塩皮膜を得るに
は測定頻度を高める必要があり、通常10分に１回
程度の測定が必要である。しかしガス容量法は間
欠的な測定法であり、リン酸塩処理液中の亜硝酸
イオン濃度の変化を連続して測定し、亜硝酸イオ
ンを常に一定にリン酸塩処理液中に存在させるこ
とが困難である。酸化還元電極を用いた硫酸セリ
ウム等の酸化剤による滴定法では、連続して化成
処理液中の亜硝酸イオン濃度を測定出来、定常に
濃度を制御することが出来るが、それには濃度を
正しく調整した滴定液を必要とし、又自動的に滴
定を行う場合には高精度の定量吐出機構をもつ滴
定装置が必要であり工業的に適さない。
は測定頻度を高める必要があり、通常10分に１回
程度の測定が必要である。しかしガス容量法は間
欠的な測定法であり、リン酸塩処理液中の亜硝酸
イオン濃度の変化を連続して測定し、亜硝酸イオ
ンを常に一定にリン酸塩処理液中に存在させるこ
とが困難である。酸化還元電極を用いた硫酸セリ
ウム等の酸化剤による滴定法では、連続して化成
処理液中の亜硝酸イオン濃度を測定出来、定常に
濃度を制御することが出来るが、それには濃度を
正しく調整した滴定液を必要とし、又自動的に滴
定を行う場合には高精度の定量吐出機構をもつ滴
定装置が必要であり工業的に適さない。
本発明の目的は、これらの欠陥を補いリン酸塩
処理液中の亜硝酸イオン濃度を連続して自動的に
測定し、その測定値に基づいて自動的に亜硝酸イ
オンの補給を行い、リン酸塩処理液中の亜硝酸イ
オン濃度を常に適切な範囲に保つことが可能な方
法を提供することにある。
処理液中の亜硝酸イオン濃度を連続して自動的に
測定し、その測定値に基づいて自動的に亜硝酸イ
オンの補給を行い、リン酸塩処理液中の亜硝酸イ
オン濃度を常に適切な範囲に保つことが可能な方
法を提供することにある。
本発明による亜硝酸イオン濃度の制御方法は、
先端部に疎水性気体透過膜が設けられた容器に内
部液が入れられリン酸塩処理液中の亜硝酸イオン
が水素イオンと反応して変化するN2O3が前記疎
水性気体透過膜を透過し前記内部液中の水と反応
して生ずる水素イオンの電位から前記リン酸塩処
理液中の亜硝酸イオンの電位を選択的に検出可能
とする亜硝酸イオン選択性電極を用いてリン酸塩
処理液中の亜硝酸イオン濃度を連続的に測定し、
前記亜硝酸イオン濃度が予め定めた範囲の設定値
になるように亜硝酸イオンを前記リン酸塩処理液
に自動的に供給させるようにしたことを特徴とす
るものである。
先端部に疎水性気体透過膜が設けられた容器に内
部液が入れられリン酸塩処理液中の亜硝酸イオン
が水素イオンと反応して変化するN2O3が前記疎
水性気体透過膜を透過し前記内部液中の水と反応
して生ずる水素イオンの電位から前記リン酸塩処
理液中の亜硝酸イオンの電位を選択的に検出可能
とする亜硝酸イオン選択性電極を用いてリン酸塩
処理液中の亜硝酸イオン濃度を連続的に測定し、
前記亜硝酸イオン濃度が予め定めた範囲の設定値
になるように亜硝酸イオンを前記リン酸塩処理液
に自動的に供給させるようにしたことを特徴とす
るものである。
本発明に用いる亜硝酸イオン選択性電極を第１
図にて説明すると、１が亜硝酸イオン選択性電
極、２がPHガラス電極、３が内部液、４が疎水性
気体透過膜である。
図にて説明すると、１が亜硝酸イオン選択性電
極、２がPHガラス電極、３が内部液、４が疎水性
気体透過膜である。
亜硝酸イオンは、リン酸塩処理液中で以下に示
すような経路で水素イオンと反応しN2O3に変化
する。
すような経路で水素イオンと反応しN2O3に変化
する。
H+＋O2 -HONO
H+＋HONOH2ONOH2O＋NO+
NO+NO2 -N2O3
亜硝酸イオン選択性電極１をリン酸塩処理液に
浸漬すると、このN2O3は亜硝酸イオン選択性電
極１の先端部に設けられた疎水性気体透過膜４を
透過して内部液３中の水と可逆反応を起こす。
浸漬すると、このN2O3は亜硝酸イオン選択性電
極１の先端部に設けられた疎水性気体透過膜４を
透過して内部液３中の水と可逆反応を起こす。
1/2N2O3＋H2OH+＋NO2 -
疎水性気体透過膜４を透過し拡散したN2O3ガ
ス量は、N2O3の分圧に依存し化成処理液中の
N2O3濃度に比例する。内部液３の水素イオン濃
度はリン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度に比例
するので、これから電極電位を検出してリン酸塩
処理液中の亜硝酸イオン濃度を測定する。
ス量は、N2O3の分圧に依存し化成処理液中の
N2O3濃度に比例する。内部液３の水素イオン濃
度はリン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度に比例
するので、これから電極電位を検出してリン酸塩
処理液中の亜硝酸イオン濃度を測定する。
この亜硝酸イオン選択性電極１をリン酸塩処理
液に適用する方法について説明すると、第２図は
リン酸塩処理液中に含まれる亜硝酸イオン濃度を
連続して測定するためのセル５であつて、第３図
は亜硝酸イオンを自動的に連続して補給する操作
説明図である。セル５はセル本体６を含み、その
セル本体６は塩化ビニル、アクリル、フツ素樹脂
等の合成樹脂で作られ、その内部に亜硝酸イオン
の電位を選択測定するための亜硝酸イオン選択性
電極１及びそれに比較電位を与える比較電極７、
更に温度補償電極８が設置されている。
液に適用する方法について説明すると、第２図は
リン酸塩処理液中に含まれる亜硝酸イオン濃度を
連続して測定するためのセル５であつて、第３図
は亜硝酸イオンを自動的に連続して補給する操作
説明図である。セル５はセル本体６を含み、その
セル本体６は塩化ビニル、アクリル、フツ素樹脂
等の合成樹脂で作られ、その内部に亜硝酸イオン
の電位を選択測定するための亜硝酸イオン選択性
電極１及びそれに比較電位を与える比較電極７、
更に温度補償電極８が設置されている。
亜硝酸イオン選択性電極１及び比較電極７はリ
ード線９，１０によつて電位差検出回路１２に接
続されるとともに温度補償電極８はリード線１１
によつて温度検出回路１３に接続されている。電
位差検出回路１２で検出された両電極１―７間の
電位差信号と温度検出回路１３からの温度信号と
は補正回路１４に入力されてその電位差が基準温
度における電位差値に補正される。補正回路１４
からの電位差値と設定器１５による設定値とが比
較器１６において比較されてその差信号がポンプ
駆動回路１７に入力され、それに応じて亜硝酸イ
オンをリン酸塩処理槽１８に補給するためのサー
ボポンプ１９が駆動されるようになつている。
ード線９，１０によつて電位差検出回路１２に接
続されるとともに温度補償電極８はリード線１１
によつて温度検出回路１３に接続されている。電
位差検出回路１２で検出された両電極１―７間の
電位差信号と温度検出回路１３からの温度信号と
は補正回路１４に入力されてその電位差が基準温
度における電位差値に補正される。補正回路１４
からの電位差値と設定器１５による設定値とが比
較器１６において比較されてその差信号がポンプ
駆動回路１７に入力され、それに応じて亜硝酸イ
オンをリン酸塩処理槽１８に補給するためのサー
ボポンプ１９が駆動されるようになつている。
一方、亜硝酸イオン濃度を測定するための亜硝
酸イオンを含むリン酸塩処理液、即ち検液は循環
ポンプ２０によつてセル本体６の下部入口Ａから
その反対側のセル本体上部出口Ｂに流れ、リン酸
塩処理を行つている間は常にこの状態にある。セ
ル本体上部出口Ｂから出たリン酸塩処理液は再び
リン酸塩処理槽１８に戻り、再びリン酸塩処理の
ための処理液として用いられる。
酸イオンを含むリン酸塩処理液、即ち検液は循環
ポンプ２０によつてセル本体６の下部入口Ａから
その反対側のセル本体上部出口Ｂに流れ、リン酸
塩処理を行つている間は常にこの状態にある。セ
ル本体上部出口Ｂから出たリン酸塩処理液は再び
リン酸塩処理槽１８に戻り、再びリン酸塩処理の
ための処理液として用いられる。
リン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度は前述の
ように亜硝酸イオン選択性電極１と比較電極７の
間の電位差によつて検知され、予め定めた所望の
範囲の適正設定値と比較して亜硝酸イオン補給液
２１のサーボポンプ１９を作動させる。即ち、第
４図に示すように、例えば前記の電位差が222mv
（亜硝酸イオン下限濃度0.115ｇ／）になるとサ
ーボポンプ１９が作動して亜硝酸イオン補給液２
１がリン酸塩処理槽１８に補給され、228mv（亜
硝酸イオン上限濃度0.136ｇ／）になるとサー
ボポンプ１９が停止して亜硝酸イオン補給液２１
の補給が止まる。
ように亜硝酸イオン選択性電極１と比較電極７の
間の電位差によつて検知され、予め定めた所望の
範囲の適正設定値と比較して亜硝酸イオン補給液
２１のサーボポンプ１９を作動させる。即ち、第
４図に示すように、例えば前記の電位差が222mv
（亜硝酸イオン下限濃度0.115ｇ／）になるとサ
ーボポンプ１９が作動して亜硝酸イオン補給液２
１がリン酸塩処理槽１８に補給され、228mv（亜
硝酸イオン上限濃度0.136ｇ／）になるとサー
ボポンプ１９が停止して亜硝酸イオン補給液２１
の補給が止まる。
以上の如く、本発明を実施することにより、リ
ン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を連続して自
動的に測定し、その測定値に基づいて自動的に亜
硝酸イオンの補給を行い、リン酸塩処理液中の亜
硝酸イオン濃度を常に適切な範囲に保つことが出
来る。
ン酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を連続して自
動的に測定し、その測定値に基づいて自動的に亜
硝酸イオンの補給を行い、リン酸塩処理液中の亜
硝酸イオン濃度を常に適切な範囲に保つことが出
来る。
第１図は亜硝酸イオン選択性電極の説明図、第
２図はセルの説明図、第３図は亜硝酸イオンを自
動的に連続して補給する操作説明図、第４図は亜
硝酸イオン選択性電極で検知された電位差、即ち
亜硝酸イオン濃度と時間の関係グラフである。 １…亜硝酸イオン選択性電極、５…セル、７…
比較電極、８…温度補償電極、１２…電位差検出
回路、１３…温度検出回路、１４…補正回路、１
５…設定器、１６…比較器、１７…ポンプ駆動回
路、１８…リン酸塩処理槽、１９…サーボポン
プ、２０…循環ポンプ、２１…亜硝酸イオン補給
液。
２図はセルの説明図、第３図は亜硝酸イオンを自
動的に連続して補給する操作説明図、第４図は亜
硝酸イオン選択性電極で検知された電位差、即ち
亜硝酸イオン濃度と時間の関係グラフである。 １…亜硝酸イオン選択性電極、５…セル、７…
比較電極、８…温度補償電極、１２…電位差検出
回路、１３…温度検出回路、１４…補正回路、１
５…設定器、１６…比較器、１７…ポンプ駆動回
路、１８…リン酸塩処理槽、１９…サーボポン
プ、２０…循環ポンプ、２１…亜硝酸イオン補給
液。
Claims (1)
- １ 先端部に疎水性気体透過膜が設けられた容器
に内部液が入れられリン酸塩処理液中の亜硝酸イ
オンが水素イオンと反応して変化するN2O3が前
記疎水性気体透過膜を透過し前記内部液中の水と
反応して生ずる水素イオンの電位から前記リン酸
塩処理液中の亜硝酸イオンの電位を選択的に検出
可能とする亜硝酸イオン選択性電極を用いてリン
酸塩処理液中の亜硝酸イオン濃度を連続的に測定
し、前記亜硝酸イオン濃度が予め定めた範囲の設
定値になるように亜硝酸イオンを前記リン酸塩処
理液に自動的に供給させるようにしたことを特徴
とする亜硝酸イオン濃度の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20374383A JPS6096771A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 亜硝酸イオン濃度の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20374383A JPS6096771A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 亜硝酸イオン濃度の制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6096771A JPS6096771A (ja) | 1985-05-30 |
| JPS6213432B2 true JPS6213432B2 (ja) | 1987-03-26 |
Family
ID=16479112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20374383A Granted JPS6096771A (ja) | 1983-11-01 | 1983-11-01 | 亜硝酸イオン濃度の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6096771A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110205621B (zh) * | 2019-06-18 | 2021-03-30 | 武汉钢铁有限公司 | 控制镀锌磷化中磷化液补充量的方法、装置和存储介质 |
-
1983
- 1983-11-01 JP JP20374383A patent/JPS6096771A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6096771A (ja) | 1985-05-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3177338B2 (ja) | 無電解メッキ溶液を保持する方法および装置 | |
| JP2680075B2 (ja) | 溶液中に溶解した物質の含有量を選択的に測定する方法とその装置 | |
| KR20150051873A (ko) | 화학적 산소 소비량(ｃｏｄ) 자동 측정 장치 | |
| US5061631A (en) | Method, apparatus and solution for calibration of partial pressure value | |
| JPS60104246A (ja) | 化学銅めつき浴中のホルムアルデヒドの分析方法 | |
| CN112881587B (zh) | 一种电镀锡溶液中游离酸和二价锡浓度联合测定方法及装置 | |
| CN115615970B (zh) | 光学溶解氧传感器响应时间测试装置及测试方法 | |
| JPS6213432B2 (ja) | ||
| US3214301A (en) | Automatic ph control of chemical treating baths | |
| Thompson et al. | Fast reaction flow system using crystal-membrane ion-selective electrodes | |
| JP2002531700A (ja) | 鋼の酸洗い工程を制御する装置と方法 | |
| CA1317346C (en) | Method, apparatus and solution for calibration of partial pressure value | |
| JPS591679A (ja) | エツチング液の制御管理方法 | |
| JP7777062B2 (ja) | イオン濃度測定方法 | |
| JP2521215Y2 (ja) | Ｃｏｄ自動測定装置 | |
| IL22522A (en) | Automatic determination and/or control of the hydroxide:nitrite ratio in nitrite solutions | |
| JPH0365489B2 (ja) | ||
| JPH0235809Y2 (ja) | ||
| JPS563677A (en) | Method and apparatus for controlling chemical treating fluid | |
| JP3333237B2 (ja) | ガルバニ電池タイプの酸素分析計およびこの分析計の制御方法 | |
| US4597806A (en) | Process for maintaining the zinc content in zinc phosphate baths | |
| JP2786075B2 (ja) | 燐酸亜鉛処理液の活性度制御装置 | |
| JPH04168286A (ja) | エッチング浴の管理方法 | |
| SU1481666A1 (ru) | Способ измерени концентрации ионов натри и устройство дл его осуществлени | |
| JPS6130207Y2 (ja) |