JPS6096821U - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPS6096821U JPS6096821U JP18901483U JP18901483U JPS6096821U JP S6096821 U JPS6096821 U JP S6096821U JP 18901483 U JP18901483 U JP 18901483U JP 18901483 U JP18901483 U JP 18901483U JP S6096821 U JPS6096821 U JP S6096821U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- manufacturing equipment
- semiconductor manufacturing
- semiconductor wafer
- rotary table
- semiconductor
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の半導体製造装置の一例を示す側断面図、
第2図は本考案の一実施例を示す側断面図、第3図は第
2図の回転テーブルの具体例を示す拡大側断面図、第4
図は第3図のA−A線に沿う断面図である。 1・・・・・・半導体ウェーハ、14・・・・・・回転
テーブル、22・・・・・・気体吹出口、23・・・・
・・気体。
第2図は本考案の一実施例を示す側断面図、第3図は第
2図の回転テーブルの具体例を示す拡大側断面図、第4
図は第3図のA−A線に沿う断面図である。 1・・・・・・半導体ウェーハ、14・・・・・・回転
テーブル、22・・・・・・気体吹出口、23・・・・
・・気体。
Claims (1)
- 半導体ウェーハの下面中央部を吸着して半導体ウェーハ
をその中心点を中心に回転させる回転テーブルの外周に
、吸着した半導体ウェーハの下面周辺部に沿って気体を
噴出する気体吹出口を形成したことを特徴とする半導体
製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18901483U JPS6096821U (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18901483U JPS6096821U (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 半導体製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6096821U true JPS6096821U (ja) | 1985-07-02 |
Family
ID=30407625
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18901483U Pending JPS6096821U (ja) | 1983-12-06 | 1983-12-06 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6096821U (ja) |
-
1983
- 1983-12-06 JP JP18901483U patent/JPS6096821U/ja active Pending
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