JPS6098432A - フオトレジスト形成用積層板の製造方法 - Google Patents
フオトレジスト形成用積層板の製造方法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0091—Apparatus for coating printed circuits using liquid non-metallic coating compositions
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フォトレジスト形成用積層板を製造するため
の方法に関するものである。さらに詳しくいえば、本発
明はプリント基板上のきすにより画像再現性がそこなわ
れることなく、シかも操作中に感光性組成物層の剥離を
生じることなく、精スト形成用積層板の製造方法に関す
るものである。
の方法に関するものである。さらに詳しくいえば、本発
明はプリント基板上のきすにより画像再現性がそこなわ
れることなく、シかも操作中に感光性組成物層の剥離を
生じることなく、精スト形成用積層板の製造方法に関す
るものである。
現在、プリント基板の製版、プリント回路製作、電子工
業用精密部品製作などの多くの分野において、多種多様
の画像形成性感光性材料、例えば液状感光性材料、シル
クスクリーンインキ状感光性材料、あるいは一般にドラ
イフィルムと称せられているあらかじめたわみ性支持体
に担持させた感光性材料などが使用されている。
業用精密部品製作などの多くの分野において、多種多様
の画像形成性感光性材料、例えば液状感光性材料、シル
クスクリーンインキ状感光性材料、あるいは一般にドラ
イフィルムと称せられているあらかじめたわみ性支持体
に担持させた感光性材料などが使用されている。
ところで、これらの中で液状感光性材料を用いて基板上
にこれを積層する場合、通常、ロールコータやドクター
ナイフなどを用いて所要の厚さに塗布する方法がとられ
ているが、この方法では、1回の塗布操作で2〜3μm
程度の乾燥膜厚しか得られないことが多く、適切な条件
の組合せを用Aてもたかだか10μmはどであるため、
30〜50μmという厚い膜を要する場合は、塗布と乾
燥という工程を多数回繰り返さなければならない。
にこれを積層する場合、通常、ロールコータやドクター
ナイフなどを用いて所要の厚さに塗布する方法がとられ
ているが、この方法では、1回の塗布操作で2〜3μm
程度の乾燥膜厚しか得られないことが多く、適切な条件
の組合せを用Aてもたかだか10μmはどであるため、
30〜50μmという厚い膜を要する場合は、塗布と乾
燥という工程を多数回繰り返さなければならない。
これに対して、あらかじめたわみ性支持体に担持させた
感光性材料(以下ドライフィルムと称す好にするための
整面前処理を行った基板表面に、感光性材料層の露出せ
る面を重ね、熱ロール間隙を通して圧着するという極め
て簡単な操作によって、所望の膜厚を有する感光性材料
層を形成することができるため、最近この方法が注目を
集めるようになり、これ1でも基板上に直接ドライフィ
ルムを積層し、像形成露光、現像を行う方法(%公昭4
5−25231号公報)やドライフィルムの一方の表面
に接着層を設け、これを介して基板に積層し、像形成露
丸、現像を行う方法(特開昭52−154363号公報
〕な号公報系されている。
感光性材料(以下ドライフィルムと称す好にするための
整面前処理を行った基板表面に、感光性材料層の露出せ
る面を重ね、熱ロール間隙を通して圧着するという極め
て簡単な操作によって、所望の膜厚を有する感光性材料
層を形成することができるため、最近この方法が注目を
集めるようになり、これ1でも基板上に直接ドライフィ
ルムを積層し、像形成露光、現像を行う方法(%公昭4
5−25231号公報)やドライフィルムの一方の表面
に接着層を設け、これを介して基板に積層し、像形成露
丸、現像を行う方法(特開昭52−154363号公報
〕な号公報系されている。
ところで、プリント基板の表面に精密なノくターンを正
確に形成させるには、その表面をできるだけ平坦にする
必要があるが、通常その製造工程中でどのように慎重に
取り扱ったとしても微細な凹凸やきすが生じるのを免れ
ない。そして、ノ<ターンが微細になればなるほど、プ
リント基板表面のこれらの欠陥が原因となって、線切れ
や変形を生じ、不良品が多くなるという結果をもたらす
。
確に形成させるには、その表面をできるだけ平坦にする
必要があるが、通常その製造工程中でどのように慎重に
取り扱ったとしても微細な凹凸やきすが生じるのを免れ
ない。そして、ノ<ターンが微細になればなるほど、プ
リント基板表面のこれらの欠陥が原因となって、線切れ
や変形を生じ、不良品が多くなるという結果をもたらす
。
他方、プリント基板とドライフィルム・と全積層する場
合、両者の間の接着力が不足すると、この積層体を像形
成露光、現像、乾燥する工程で剥離を生じ、所望のフ第
1・レジスト板が得られない。
合、両者の間の接着力が不足すると、この積層体を像形
成露光、現像、乾燥する工程で剥離を生じ、所望のフ第
1・レジスト板が得られない。
こ第1.全防止するには、例えば前記したようにドライ
フィルムの表面にあらかじめ接着層を設けることが行わ
れているが、この場合接着層は完全に乾燥した状態にあ
るため、プリント基板との積層に際1〜て、ioo℃又
はそれ以上に加熱した熱ロールを用いて圧着しなければ
ならない上に、ドライフィルムの保存中に接着層が変質
して接着力が低下するという欠点がある。
フィルムの表面にあらかじめ接着層を設けることが行わ
れているが、この場合接着層は完全に乾燥した状態にあ
るため、プリント基板との積層に際1〜て、ioo℃又
はそれ以上に加熱した熱ロールを用いて圧着しなければ
ならない上に、ドライフィルムの保存中に接着層が変質
して接着力が低下するという欠点がある。
このような事情のもとで、本発明者らは、ドライフィル
ムとプリント基板との接着を確実にし、しかもプリント
基板表面に多少の凹凸やきすが存在してもすぐれた画像
再現性を示し、したがって最終製品の高い歩留りをもた
らすことができるフォトレジスト形成用積層板の製造方
法を開発するために鋭意研究を重ねた結果、プリント基
板とドライフィルムとkm層するに先立って、・・レー
ション防II−,剤を含む液状感光性組成物をプリント
基板上に塗布し、それがまだ固化し7ない、いわゆる生
乾きの状態で、高温に加熱することなく、ロール間でド
ライフィルムと圧着することによりその目的を達成しう
ることを見出し、本発明をなすに至った。
ムとプリント基板との接着を確実にし、しかもプリント
基板表面に多少の凹凸やきすが存在してもすぐれた画像
再現性を示し、したがって最終製品の高い歩留りをもた
らすことができるフォトレジスト形成用積層板の製造方
法を開発するために鋭意研究を重ねた結果、プリント基
板とドライフィルムとkm層するに先立って、・・レー
ション防II−,剤を含む液状感光性組成物をプリント
基板上に塗布し、それがまだ固化し7ない、いわゆる生
乾きの状態で、高温に加熱することなく、ロール間でド
ライフィルムと圧着することによりその目的を達成しう
ることを見出し、本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、プリント基板上に、ハレーンヨン
防止剤を含む液状感光性組成物を固化しない程度で被着
し、その上にたわみ性感光性材料層を積層し、温度70
℃以下において加圧しながら接着させることを特徴とす
るフォトレジスト形成用積層板の製造方法を提供するも
のである。
防止剤を含む液状感光性組成物を固化しない程度で被着
し、その上にたわみ性感光性材料層を積層し、温度70
℃以下において加圧しながら接着させることを特徴とす
るフォトレジスト形成用積層板の製造方法を提供するも
のである。
本発明方法で用いる基板の材料としては、プリント回路
その他の電子部品用基板として慣用されている材料、例
えば銅、アルミニウムなどの金属、ケイ素、酸化チタン
、酸化タンタル、ベークライト、ガラス、エポキシ樹脂
、ポリイミド、紙、フェノール樹脂などの絶縁性材料及
びこれらの表面に、銅、銀、アルミニウムなどを積層し
たものの中から任意に選ぶことができる。
その他の電子部品用基板として慣用されている材料、例
えば銅、アルミニウムなどの金属、ケイ素、酸化チタン
、酸化タンタル、ベークライト、ガラス、エポキシ樹脂
、ポリイミド、紙、フェノール樹脂などの絶縁性材料及
びこれらの表面に、銅、銀、アルミニウムなどを積層し
たものの中から任意に選ぶことができる。
1だ、この基板表面に塗布する液状感光性組成物は、ネ
ガ型、ポジ型すなわち、光硬化性組成物、光分解性組成
物のいずれでもよい。光硬化性組成物の例としては、高
分子量ポリオールのケイ皮酸エステル、ポリクイ皮酸ビ
ニル、ポリビニルアニシルアセトフエノンのような光架
橋性重合体や、ポリアクリル酸アミド、ポリオール重合
体、ゼラチンなどと重クロム酸金属塩、ジアゾ化合物、
アジド化合物類などとを組み合わせた組成物、環化ゴム
とビスアンドから成る組成物又はこれらに少量のエボキ
7アクリレートを配合した組成物などの光硬化性組成物
をあげることができる。
ガ型、ポジ型すなわち、光硬化性組成物、光分解性組成
物のいずれでもよい。光硬化性組成物の例としては、高
分子量ポリオールのケイ皮酸エステル、ポリクイ皮酸ビ
ニル、ポリビニルアニシルアセトフエノンのような光架
橋性重合体や、ポリアクリル酸アミド、ポリオール重合
体、ゼラチンなどと重クロム酸金属塩、ジアゾ化合物、
アジド化合物類などとを組み合わせた組成物、環化ゴム
とビスアンドから成る組成物又はこれらに少量のエボキ
7アクリレートを配合した組成物などの光硬化性組成物
をあげることができる。
しかしながら、特に好ましいのは、メタクリル酸メチル
/アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル/ス
チレン共重合体、メタクリル酸]。
/アクリル酸メチル共重合体、メタクリル酸メチル/ス
チレン共重合体、メタクリル酸]。
チル/スチレン共重合体、アクリル酸メチル/アクリロ
ニトリル共重合体、アクリル酸エチル/アクリロニトリ
ル共重合体、アクリル酸メチル/スチレン/アクリロニ
トリル共重合体、アクリル酸メチル/メタクリル酸ブチ
ル共重合体、アクリル酸エチル/メタクリル酸ブチル共
重合体、メタクリル酸メチル/アクリル酸共重合体、メ
タクリル酸メチル/β−ヒドロキシエチルアクリレート
共重合体、メタクリル酸メチル/β−ヒドロキノプロピ
ルアクリレート/メタクリル酸共重合体、ポリ(メタク
リル酸/エポキシアクリレート)、ポリ(メタクリル酸
/エポキシアクリレート/メタクリル酸)、これらの化
合物の少なくとも1種とポリアクリル化ウレタンとの共
重合体あるいはこれらの化合物を主体とし、これにポリ
アルキレ/グリコールジアクリレート又はジメタクリレ
ート、(平均重合度n=2〜200 ) 、ポリエチレ
ングリコールジアクリレ−1・又はジメタクリレート(
n−1〜200)、ポリエチレングリコールモノアクリ
レート又はモノメタクリレート(n=1〜2oO)、ウ
レタンジアクリレート又はジメタクリレート、ポリアル
キレンジアミンジアクリレート又はジメタクリレート(
n=1〜10)、エポキシアクリレート(n−1〜10
)、ペンタエリスリトールトリアクリレート又はトリメ
タクリレートなどのアクリル系光重合性化合物又はアク
リル系光重合性混合物を活性成分としたものである。
ニトリル共重合体、アクリル酸エチル/アクリロニトリ
ル共重合体、アクリル酸メチル/スチレン/アクリロニ
トリル共重合体、アクリル酸メチル/メタクリル酸ブチ
ル共重合体、アクリル酸エチル/メタクリル酸ブチル共
重合体、メタクリル酸メチル/アクリル酸共重合体、メ
タクリル酸メチル/β−ヒドロキシエチルアクリレート
共重合体、メタクリル酸メチル/β−ヒドロキノプロピ
ルアクリレート/メタクリル酸共重合体、ポリ(メタク
リル酸/エポキシアクリレート)、ポリ(メタクリル酸
/エポキシアクリレート/メタクリル酸)、これらの化
合物の少なくとも1種とポリアクリル化ウレタンとの共
重合体あるいはこれらの化合物を主体とし、これにポリ
アルキレ/グリコールジアクリレート又はジメタクリレ
ート、(平均重合度n=2〜200 ) 、ポリエチレ
ングリコールジアクリレ−1・又はジメタクリレート(
n−1〜200)、ポリエチレングリコールモノアクリ
レート又はモノメタクリレート(n=1〜2oO)、ウ
レタンジアクリレート又はジメタクリレート、ポリアル
キレンジアミンジアクリレート又はジメタクリレート(
n=1〜10)、エポキシアクリレート(n−1〜10
)、ペンタエリスリトールトリアクリレート又はトリメ
タクリレートなどのアクリル系光重合性化合物又はアク
リル系光重合性混合物を活性成分としたものである。
この液状感光性組成物は、通常上記の活性成分(て0口
え、光重合開始剤としてアントラキノン、メチルアント
ラキノン、クロロアントラキノン、2−エチルアントラ
キノン、2−t;ert−ブチルアントラキノン、ベニ
/ズアントラキノ:/、ベンゾイン、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ミヒラー
ケトンなど、熱重合禁止剤としてヒドロキノン、メチル
ヒドロキノンなどを含むが、そ九以外に必グに応じて着
色剤、可塑剤などを含むこともできる。また、ボン型の
例としては、オルトベンゾキノンジアジド又ii、2−
ナフトキノンジアンドとアルカリ可溶性フェノールノボ
ラック樹脂との組合せを活性成分とするアルカリ現像型
のもの(特公昭37−18015 号公報)や、上記の
アルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂の代りに、シ
ェラツク、スチレ/−無水マレイン酸共重合体などを用
いたもの(特公昭37−3627号公報)を挙げること
ができる。
え、光重合開始剤としてアントラキノン、メチルアント
ラキノン、クロロアントラキノン、2−エチルアントラ
キノン、2−t;ert−ブチルアントラキノン、ベニ
/ズアントラキノ:/、ベンゾイン、ベンゾインイソプ
ロピルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ミヒラー
ケトンなど、熱重合禁止剤としてヒドロキノン、メチル
ヒドロキノンなどを含むが、そ九以外に必グに応じて着
色剤、可塑剤などを含むこともできる。また、ボン型の
例としては、オルトベンゾキノンジアジド又ii、2−
ナフトキノンジアンドとアルカリ可溶性フェノールノボ
ラック樹脂との組合せを活性成分とするアルカリ現像型
のもの(特公昭37−18015 号公報)や、上記の
アルカリ可溶性フェノールノボラック樹脂の代りに、シ
ェラツク、スチレ/−無水マレイン酸共重合体などを用
いたもの(特公昭37−3627号公報)を挙げること
ができる。
本発明においては、この液状感光性組成物中に、・・レ
ー7ヨン防止剤を含有させることが必要である。これは
、ドライフィルムを積層した後での解像度や画像再現性
を高めるために加えられるものであり、これによって微
細なパターンを正確に再現することができる。このハレ
ーション防止剤は、感光特性波長280〜480nm領
域において吸収を示すものであればよく、アクリジン染
料、アニリン黒、アントラキノン染料、アジン染料、ア
ゾ染料、アゾメチン染料、ベンゾキノン染料、ナフトキ
ノン染料、インジゴイド染料、インドフェノール、イン
ドアニリン、インダミン、ロイコ建染め染料エステル、
ナフトールイミド染料、ニグロシン及びインシュリン、
ニトロ及びニトロン染料、オキサジン及びジオキサジン
染料、酸化染料、フタロシアニン染料、ポリメチン染料
、キノフタロン染料、硫化染料、トリアリールメタン及
びジアリールメタン染料、チアジン染料、チアゾール染
料、キサンチン染料などの染料や無機及び有機顔料、サ
リチル酸フェニル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリア
ゾール系及びアクリレート系紫外線吸収剤などを挙げる
ことができる。この・・レーション防止剤は表面保護層
を形成する樹脂の全重量に基づ@0.001〜10重量
%好ましくは005〜2重量%の割合で加えられる。
ー7ヨン防止剤を含有させることが必要である。これは
、ドライフィルムを積層した後での解像度や画像再現性
を高めるために加えられるものであり、これによって微
細なパターンを正確に再現することができる。このハレ
ーション防止剤は、感光特性波長280〜480nm領
域において吸収を示すものであればよく、アクリジン染
料、アニリン黒、アントラキノン染料、アジン染料、ア
ゾ染料、アゾメチン染料、ベンゾキノン染料、ナフトキ
ノン染料、インジゴイド染料、インドフェノール、イン
ドアニリン、インダミン、ロイコ建染め染料エステル、
ナフトールイミド染料、ニグロシン及びインシュリン、
ニトロ及びニトロン染料、オキサジン及びジオキサジン
染料、酸化染料、フタロシアニン染料、ポリメチン染料
、キノフタロン染料、硫化染料、トリアリールメタン及
びジアリールメタン染料、チアジン染料、チアゾール染
料、キサンチン染料などの染料や無機及び有機顔料、サ
リチル酸フェニル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリア
ゾール系及びアクリレート系紫外線吸収剤などを挙げる
ことができる。この・・レーション防止剤は表面保護層
を形成する樹脂の全重量に基づ@0.001〜10重量
%好ましくは005〜2重量%の割合で加えられる。
なお、本発明における液状感光性組成物中の樹脂形成成
分としては、プリント基板をドライフィルムとの接着性
を高め、かつ現像時における現像液に対する溶解性をド
ライフィルムのそれと同一にするために、ドライフィル
ムに用いられている感光性樹脂成分と同−組成又は類似
の組成のものを選択するのが好ましい。
分としては、プリント基板をドライフィルムとの接着性
を高め、かつ現像時における現像液に対する溶解性をド
ライフィルムのそれと同一にするために、ドライフィル
ムに用いられている感光性樹脂成分と同−組成又は類似
の組成のものを選択するのが好ましい。
この液状感光性組成物は、前記した各成分を適当な溶剤
、例えばアセトン、メチルエチルケトン、トリクロロエ
タン、エチレンクリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチ
レングリコールジアセテートなどに溶解することによっ
て調製する。こD際の溶剤の量としては、液状感光性組
成物をプリント基板に塗布するのに十分な流動性を有し
、しかも塗布後それが流下しない程度の量を用いること
が必要であり、通常、組成物全量に基づき50〜95重
量%の範囲内で選ばれる。
、例えばアセトン、メチルエチルケトン、トリクロロエ
タン、エチレンクリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチ
レングリコールジアセテートなどに溶解することによっ
て調製する。こD際の溶剤の量としては、液状感光性組
成物をプリント基板に塗布するのに十分な流動性を有し
、しかも塗布後それが流下しない程度の量を用いること
が必要であり、通常、組成物全量に基づき50〜95重
量%の範囲内で選ばれる。
次に、この液状感光性組成物層を介してプリント基板上
に積層させるたわみ性感光性材料としては、ドライフィ
ルムとしてよく知られている材料すなわちたわみ性支持
体上に感光性組成物から成る感光性樹脂層を積層し、さ
らにその上に所望に応じ保護フィルム層を施したものを
用いることができる。上記のたわみ性支持体としては、
金属ホイル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、紙などが用いられるが像形成露光
の際に取り除く必要がない点で、透明な材料が有利であ
り、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。1だ
、感光性樹脂層としては、光に感応して溶剤不溶性にな
るもの、あるいは逆に溶媒可溶性になるものであればど
のようなものでもよく、特に制限はない。このようなも
のの例としては、前記液状感光性組成物の樹脂成分とし
て例示した感光性組成物をあげることができる。
に積層させるたわみ性感光性材料としては、ドライフィ
ルムとしてよく知られている材料すなわちたわみ性支持
体上に感光性組成物から成る感光性樹脂層を積層し、さ
らにその上に所望に応じ保護フィルム層を施したものを
用いることができる。上記のたわみ性支持体としては、
金属ホイル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステ
ル、ポリ塩化ビニル、紙などが用いられるが像形成露光
の際に取り除く必要がない点で、透明な材料が有利であ
り、特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。1だ
、感光性樹脂層としては、光に感応して溶剤不溶性にな
るもの、あるいは逆に溶媒可溶性になるものであればど
のようなものでもよく、特に制限はない。このようなも
のの例としては、前記液状感光性組成物の樹脂成分とし
て例示した感光性組成物をあげることができる。
本発明方法を好適に実施するには、プリント基鈑の両面
に光を遮断した帯域中で5例えば両面コータなどを用い
液状感光性組成物を塗布する。この塗布量は、乾燥処理
後に1〜8pmの層厚になる範囲内で選択される。この
乾燥後の層厚が1μm未満では接着性の向上、プリント
基板の表面の凹凸やきすのカバーが不十分になるし、捷
だ8μmよりも厚くなると、像形成露光に長時間を要す
る上に、たわみ性感光性材料の積層時に残存溶剤のため
、この材料が軟化されて硬化困難となりテンティング特
性が劣化したり、・・レーションを起しやすぐなるので
好捷しくない。
に光を遮断した帯域中で5例えば両面コータなどを用い
液状感光性組成物を塗布する。この塗布量は、乾燥処理
後に1〜8pmの層厚になる範囲内で選択される。この
乾燥後の層厚が1μm未満では接着性の向上、プリント
基板の表面の凹凸やきすのカバーが不十分になるし、捷
だ8μmよりも厚くなると、像形成露光に長時間を要す
る上に、たわみ性感光性材料の積層時に残存溶剤のため
、この材料が軟化されて硬化困難となりテンティング特
性が劣化したり、・・レーションを起しやすぐなるので
好捷しくない。
液状感光性組成物を塗布されたプリント基板は、次いで
この液状感光性組成物が完全に固化しない程度、すなわ
ち生乾き状態になるまで乾燥する。
この液状感光性組成物が完全に固化しない程度、すなわ
ち生乾き状態になるまで乾燥する。
この乾燥は温度60〜80℃において必要に応じ不活性
ガスを通しながら、組成物中の溶剤含量が10〜30重
量%になるまで行われる。この溶剤含量が10重量−未
満では、後続のたわみ性感光性材料と積層に際し、十分
な接着性が得られないし、また溶剤含量が30重量%よ
りも多くなると、いったん接着したたわみ性感光性材料
が剥離したり、あるいは残存溶剤によりたわみ性感光性
材料が軟化しテンティング特性の劣化をもたらす。
ガスを通しながら、組成物中の溶剤含量が10〜30重
量%になるまで行われる。この溶剤含量が10重量−未
満では、後続のたわみ性感光性材料と積層に際し、十分
な接着性が得られないし、また溶剤含量が30重量%よ
りも多くなると、いったん接着したたわみ性感光性材料
が剥離したり、あるいは残存溶剤によりたわみ性感光性
材料が軟化しテンティング特性の劣化をもたらす。
なお、液状感光性組成物の湿潤塗布厚が2〜3μm8度
の場合は、乾燥速度が速いので、特に乾燥処理を施すこ
となく、所要の東件にもたらすことができる。
の場合は、乾燥速度が速いので、特に乾燥処理を施すこ
となく、所要の東件にもたらすことができる。
本発明方法においては、プリント基板とたわみ性感光性
材料とを積層する場合、従来方法のように高温に加熱す
る必要はなく、加圧ローラは70℃以下、好ましくは室
温に維持しておけばよい。
材料とを積層する場合、従来方法のように高温に加熱す
る必要はなく、加圧ローラは70℃以下、好ましくは室
温に維持しておけばよい。
このようにして、本発明方法によれば連続的にフォトレ
ジスト形成用積層板を製造することができる。
ジスト形成用積層板を製造することができる。
本発明により得られた積層板からフォトレジストパター
ンを得るには、通常のフォトレジスト形成に際して使用
されている像形成露光及び現像の方法を用いて行うこと
ができる。ただし現像に際しては、たわみ性感光性材料
の未露光部(ポジ型の場合は露光部)と同時に液状感光
性組成物層の未露光部(ボン型の場合は露光部)を溶解
しうる現像液を用いることが必要である。この現像液は
、たわみ性感光性材料層及び液状感光性組成物層を形成
する感光性組成物の種類により適宜選択されるが、通常
は、アルカリ水溶液、アルコール類、ケトン類、炭化水
素類、ハロゲン化炭化水素類又はこれらの混合物が用い
られる。
ンを得るには、通常のフォトレジスト形成に際して使用
されている像形成露光及び現像の方法を用いて行うこと
ができる。ただし現像に際しては、たわみ性感光性材料
の未露光部(ポジ型の場合は露光部)と同時に液状感光
性組成物層の未露光部(ボン型の場合は露光部)を溶解
しうる現像液を用いることが必要である。この現像液は
、たわみ性感光性材料層及び液状感光性組成物層を形成
する感光性組成物の種類により適宜選択されるが、通常
は、アルカリ水溶液、アルコール類、ケトン類、炭化水
素類、ハロゲン化炭化水素類又はこれらの混合物が用い
られる。
本発明方法に従うと、液状感光性組成物層を形成する感
光性組成物を適当に選ぶことにより、現在市販されてい
るドライフィルムはもちろん、熱圧着による直接接着性
の乏しいドライフィルムでも十分な強度で基板表面上に
積層することが可能であり、固体表面上の傷や打痕を覆
いかくすことができる上に従来のドライフィルム単独に
よる積層では、スルーホール加工の際の開口部に蓋をす
る作業(通常テンティングと称す)において、フィルム
保持部分としてかなりの表面積を必要とし、開口部直径
より必要以上に大きないわゆるランドを設けることを余
儀なくされていたのをその径の大幅な縮少が可能となる
だめに、グリ/ト配線基板の配線密度を一段と向上させ
ることができるという利点がある。さらに、本発明方法
においては、液状感光性組成物層が接着層の役割も果し
、ドライフィルムとプリント基板との接着性を向上させ
るので、従来のドライフィルムを直接プリント基板に接
着させる場合にしばしばみられた操作中での両者の剥離
を著しく減少することができ、しかも現像処理に際し液
状感光性組成物層も同時に除去されるので、アンダーカ
ット現象のような解像度をそこなう現象を生じるtとも
ない。したがって、従来の方法に比べて、製品の歩留り
を著しく高めることができる。
光性組成物を適当に選ぶことにより、現在市販されてい
るドライフィルムはもちろん、熱圧着による直接接着性
の乏しいドライフィルムでも十分な強度で基板表面上に
積層することが可能であり、固体表面上の傷や打痕を覆
いかくすことができる上に従来のドライフィルム単独に
よる積層では、スルーホール加工の際の開口部に蓋をす
る作業(通常テンティングと称す)において、フィルム
保持部分としてかなりの表面積を必要とし、開口部直径
より必要以上に大きないわゆるランドを設けることを余
儀なくされていたのをその径の大幅な縮少が可能となる
だめに、グリ/ト配線基板の配線密度を一段と向上させ
ることができるという利点がある。さらに、本発明方法
においては、液状感光性組成物層が接着層の役割も果し
、ドライフィルムとプリント基板との接着性を向上させ
るので、従来のドライフィルムを直接プリント基板に接
着させる場合にしばしばみられた操作中での両者の剥離
を著しく減少することができ、しかも現像処理に際し液
状感光性組成物層も同時に除去されるので、アンダーカ
ット現象のような解像度をそこなう現象を生じるtとも
ない。したがって、従来の方法に比べて、製品の歩留り
を著しく高めることができる。
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例1
感光性ドライフィルム[オーディル5010J(商品名
、東京応化工業社製)の感光層の部分20(lf:r−
チレンクリコールモノエチルエーテルアセテート800
2に溶解し、これにハレーション防止剤としてエチルバ
イオレット1fを添加、溶解して液状感光性組成物とし
た。
、東京応化工業社製)の感光層の部分20(lf:r−
チレンクリコールモノエチルエーテルアセテート800
2に溶解し、これにハレーション防止剤としてエチルバ
イオレット1fを添加、溶解して液状感光性組成物とし
た。
この液状感光性組成物を両面コーターを用いて銅張積層
板の両面に塗布し、80℃で1分間乾燥し、膜厚4μm
、残存溶剤約25重量%の塗布膜を形成させ、その上
に感光性ドライフィルム「オーディル5010Jを温度
60℃、速度1.0 m/分で加圧しなからラミネート
した。10分放置後、8kWの超高圧水銀灯を光源とし
て、細線パターンのマスクを介して80mJ/dの露光
量を照射し、液温35℃、圧力1 、4 Ky /ct
rlの2%炭酸ナトリウム水溶液を80秒間スプレーし
て現像した。感光性ドライフィルム及びその下面の液状
感光性組成物の塗布膜の未露光部分は同時に現像除去さ
れており、マスクに対して忠実な画像が形成されていた
。
板の両面に塗布し、80℃で1分間乾燥し、膜厚4μm
、残存溶剤約25重量%の塗布膜を形成させ、その上
に感光性ドライフィルム「オーディル5010Jを温度
60℃、速度1.0 m/分で加圧しなからラミネート
した。10分放置後、8kWの超高圧水銀灯を光源とし
て、細線パターンのマスクを介して80mJ/dの露光
量を照射し、液温35℃、圧力1 、4 Ky /ct
rlの2%炭酸ナトリウム水溶液を80秒間スプレーし
て現像した。感光性ドライフィルム及びその下面の液状
感光性組成物の塗布膜の未露光部分は同時に現像除去さ
れており、マスクに対して忠実な画像が形成されていた
。
実施例2
感光性ドライフィルム[オーディル5020 ](商品
名、東京応化工業に、 K、製)の感光層の部分200
fエチレングリコールモノエチルアセテート8002
に溶解し、これにハレーション防止剤としてメチレンブ
ルー0.52を添加し、液状感光性組成物を調製した。
名、東京応化工業に、 K、製)の感光層の部分200
fエチレングリコールモノエチルアセテート8002
に溶解し、これにハレーション防止剤としてメチレンブ
ルー0.52を添加し、液状感光性組成物を調製した。
次にこの液状感光性組成物を両面コーターを用いて銅張
積層板の両面に塗布し、80℃で1分間乾燥し、残存溶
剤約20重量%、膜厚2μmの塗布膜を形成させ、さら
にその上に感光性ドライフィルム「オーディル5020
Jを温度70℃、速度1.5m/分で加圧しなからラ
ミネートした。
積層板の両面に塗布し、80℃で1分間乾燥し、残存溶
剤約20重量%、膜厚2μmの塗布膜を形成させ、さら
にその上に感光性ドライフィルム「オーディル5020
Jを温度70℃、速度1.5m/分で加圧しなからラ
ミネートした。
このようにして得たフォトレジスト形成用積層板に、3
kW超高圧水銀を光源とし、プリント配線のパターン
マスクを通して80mJ/c′IIlの露光量で照射し
たのち、1,1.1−1−IJジクロロタンを用いて現
像した。この際、下面の液状感光性組成物の塗布膜は、
ドライフィルムの未露光部分と同時に除去された。
kW超高圧水銀を光源とし、プリント配線のパターン
マスクを通して80mJ/c′IIlの露光量で照射し
たのち、1,1.1−1−IJジクロロタンを用いて現
像した。この際、下面の液状感光性組成物の塗布膜は、
ドライフィルムの未露光部分と同時に除去された。
また、このようにして得たパターンについてエツチング
を施したところ、忠実な回路が得られた。そして、第1
図(A)は銅表面に幅約1100p、深度15〜20μ
mのきすがある場合にその上にまたがって形成された画
線をもつパターンの例であるが、これをエツチングする
と第1図(B)に示されるように明らかに完全な配線部
が形成されている。
を施したところ、忠実な回路が得られた。そして、第1
図(A)は銅表面に幅約1100p、深度15〜20μ
mのきすがある場合にその上にまたがって形成された画
線をもつパターンの例であるが、これをエツチングする
と第1図(B)に示されるように明らかに完全な配線部
が形成されている。
これに対して、液状感光性組成物を被着しないで、感光
性ドライフィルム「オーディル5020」全銅張積層板
の両面に直接ラミネートしたものを用いて同様の処理を
施した場合は、第2図に示すように、エツチング前(A
)のものはエツチング後に配線部が侵食されて断線とな
っている。
性ドライフィルム「オーディル5020」全銅張積層板
の両面に直接ラミネートしたものを用いて同様の処理を
施した場合は、第2図に示すように、エツチング前(A
)のものはエツチング後に配線部が侵食されて断線とな
っている。
第1図は本発明方法で得たフォトレジスト形成用積層板
によるプリント配線のエツチング処理前(A)及びエツ
チング処理後(B)の状態を示す顕微鏡拡大写真図、第
2図は従来方法で得たものによる対応する顕微鏡拡大写
真図である。 特許出願人 フォトポリ応化株式会社 代理人 阿 形 明 (A) (B) 第2図 (A) 手続補正器(方式) %式% 1、事件の表示 昭和58年特許願第205977号 2、発明の名称 フォトレジスト形成用積層板の製造方法3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 神奈川県高座郡寒用町田端159’0番地7オトボリ応
化株式会社 代表者伊藤毅雄 4、代理人 東京都港区新橋2丁目2番2号川志)−4・邦信ビル8
階「m 育 5、補正命令の日付 昭和59年1月11日(発送日:
昭和59年1月31日) 6、補正により増加する発明の数 0 7、補正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄及び図
面8、補正の内容 (1) 明#ll書第18ページ@14〜15行及び第
16行の「顕微鏡拡大写真図Jをそれぞれ「拡大斜視図
1に訂正します。
によるプリント配線のエツチング処理前(A)及びエツ
チング処理後(B)の状態を示す顕微鏡拡大写真図、第
2図は従来方法で得たものによる対応する顕微鏡拡大写
真図である。 特許出願人 フォトポリ応化株式会社 代理人 阿 形 明 (A) (B) 第2図 (A) 手続補正器(方式) %式% 1、事件の表示 昭和58年特許願第205977号 2、発明の名称 フォトレジスト形成用積層板の製造方法3、補正をする
者 事件との関係 特許出願人 神奈川県高座郡寒用町田端159’0番地7オトボリ応
化株式会社 代表者伊藤毅雄 4、代理人 東京都港区新橋2丁目2番2号川志)−4・邦信ビル8
階「m 育 5、補正命令の日付 昭和59年1月11日(発送日:
昭和59年1月31日) 6、補正により増加する発明の数 0 7、補正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄及び図
面8、補正の内容 (1) 明#ll書第18ページ@14〜15行及び第
16行の「顕微鏡拡大写真図Jをそれぞれ「拡大斜視図
1に訂正します。
Claims (1)
- 1 プリント基板上に、ハレーション防市剤含有液状感
光性組成物を固化しない程度で被着(1、その上にたわ
み性感光性材料層を積層し、温度70℃以下において加
圧しながら接着させることを特徴とするフォトレジスト
形成用積層板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20597783A JPS6098432A (ja) | 1983-11-04 | 1983-11-04 | フオトレジスト形成用積層板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20597783A JPS6098432A (ja) | 1983-11-04 | 1983-11-04 | フオトレジスト形成用積層板の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6098432A true JPS6098432A (ja) | 1985-06-01 |
| JPH045182B2 JPH045182B2 (ja) | 1992-01-30 |
Family
ID=16515846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20597783A Granted JPS6098432A (ja) | 1983-11-04 | 1983-11-04 | フオトレジスト形成用積層板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6098432A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63161443A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | フオトレジスト組成物 |
| US4786569A (en) * | 1985-09-04 | 1988-11-22 | Ciba-Geigy Corporation | Adhesively bonded photostructurable polyimide film |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52128701A (en) * | 1976-04-21 | 1977-10-28 | Kuraray Co | Method of producing typographic photoopolymer |
| JPS55121446A (en) * | 1979-03-12 | 1980-09-18 | Uk Porigurafuichiesukii I Im I | Adhesive* halation preventive composition for producing photoopolymerized print plate with metal back |
-
1983
- 1983-11-04 JP JP20597783A patent/JPS6098432A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52128701A (en) * | 1976-04-21 | 1977-10-28 | Kuraray Co | Method of producing typographic photoopolymer |
| JPS55121446A (en) * | 1979-03-12 | 1980-09-18 | Uk Porigurafuichiesukii I Im I | Adhesive* halation preventive composition for producing photoopolymerized print plate with metal back |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4786569A (en) * | 1985-09-04 | 1988-11-22 | Ciba-Geigy Corporation | Adhesively bonded photostructurable polyimide film |
| US4935320A (en) * | 1985-09-04 | 1990-06-19 | Ciba-Geigy Corporation | Adhesively bonded photostructurable polyimide film |
| JPS63161443A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | フオトレジスト組成物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH045182B2 (ja) | 1992-01-30 |
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