JPS61100570A - ピラゾ−ル誘導体の製法 - Google Patents
ピラゾ−ル誘導体の製法Info
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- JPS61100570A JPS61100570A JP22109384A JP22109384A JPS61100570A JP S61100570 A JPS61100570 A JP S61100570A JP 22109384 A JP22109384 A JP 22109384A JP 22109384 A JP22109384 A JP 22109384A JP S61100570 A JPS61100570 A JP S61100570A
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- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
皮呈上生肌里立互
本発明は4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導
体の製法に関する。
体の製法に関する。
4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導体は医薬
、農薬等の中間体として有用である。例えば、特開昭5
9−122488号公報、ヨーロッパ特許公開8778
0号公報等に4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール
誘導体の中間体としての使用例が記載されている。
、農薬等の中間体として有用である。例えば、特開昭5
9−122488号公報、ヨーロッパ特許公開8778
0号公報等に4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール
誘導体の中間体としての使用例が記載されている。
葺】すυえ逝
4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導体を得る
には従来以下のような方法が知られている。
には従来以下のような方法が知られている。
即ち4−カルボキシ−5−ヒドロキシピラソール誘導体
をオキシ塩化燐等と加熱反応させることによりハロゲン
化して4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導体
を得る。
をオキシ塩化燐等と加熱反応させることによりハロゲン
化して4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導体
を得る。
A A A(
II[) (n)
(IV)〔式中AおよびBはそれぞれ独立して水素原子
または低級アルキル基を示す。Rは低級アルキル基を示
す。Xは塩素原子または臭素原子を示す。〕 特開昭59−122488号公報記載 日が解決しようとする問題点 本方法の問題点として以下のような点があげられる。
II[) (n)
(IV)〔式中AおよびBはそれぞれ独立して水素原子
または低級アルキル基を示す。Rは低級アルキル基を示
す。Xは塩素原子または臭素原子を示す。〕 特開昭59−122488号公報記載 日が解決しようとする問題点 本方法の問題点として以下のような点があげられる。
(1)エステルの加水分解に由来する4−カルボン酸ピ
ラゾールが多量に副生ずるためさらにエステル化工程を
必要とする。
ラゾールが多量に副生ずるためさらにエステル化工程を
必要とする。
(2)反応試剤として多量のオキシ塩化燐またはオキシ
臭化燐を使用するため、反応終了後過剰のオキシ塩化燐
またばオキシ臭化燐を除去処理する必要がある。経済的
に不利なだけでなく、廃液中の燐分処理が必要となり必
ずしも工業的には有利とはいえない。
臭化燐を使用するため、反応終了後過剰のオキシ塩化燐
またばオキシ臭化燐を除去処理する必要がある。経済的
に不利なだけでなく、廃液中の燐分処理が必要となり必
ずしも工業的には有利とはいえない。
(3)長時間、高温の反応条件を必要とする。
シ 占を”決するための手 び ■のヒ羨本発明者ら
は、原料に5−アミノ−4−カルボキシピラゾールを用
い、塩酸または臭化水素酸の存在下、亜硝酸塩、無機ニ
トロソ化合物、三二酸化窒素、或いは一酸化窒素から選
ばれた亜硝酸供給源を用いてジアゾ化し、次いで二酸化
イオウまたは亜硫酸塩の存在下分解させることにより目
的とする4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導
体を得る方法を見出した。本発明の方法は5−アミノ−
4−カルボキシピラゾール誘導体を亜硝酸供給源を用い
てジアゾ化するジアゾ化工程、生成したジアゾニウム塩
を二酸化イオウまたは亜硫酸塩の存在下分解し4−カル
ボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導体を得る分解工程
からなる。
は、原料に5−アミノ−4−カルボキシピラゾールを用
い、塩酸または臭化水素酸の存在下、亜硝酸塩、無機ニ
トロソ化合物、三二酸化窒素、或いは一酸化窒素から選
ばれた亜硝酸供給源を用いてジアゾ化し、次いで二酸化
イオウまたは亜硫酸塩の存在下分解させることにより目
的とする4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導
体を得る方法を見出した。本発明の方法は5−アミノ−
4−カルボキシピラゾール誘導体を亜硝酸供給源を用い
てジアゾ化するジアゾ化工程、生成したジアゾニウム塩
を二酸化イオウまたは亜硫酸塩の存在下分解し4−カル
ボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導体を得る分解工程
からなる。
ジアゾ化工程で用いられる塩酸または臭化水素酸は原料
のアミノピラゾール(I)に対して2〜20モル当量、
好ましくは3〜8モル当量用いる。
のアミノピラゾール(I)に対して2〜20モル当量、
好ましくは3〜8モル当量用いる。
ジアゾ化工程で用いられる亜硝酸供給源として、亜硝酸
塩としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝
酸カルシウムなど、無機ニトロソ化合物としてはニトロ
シル硫酸、塩化ニトロシルなどを用いることができる。
塩としては、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝
酸カルシウムなど、無機ニトロソ化合物としてはニトロ
シル硫酸、塩化ニトロシルなどを用いることができる。
亜硝酸供給源としては、原料のアミノピラゾール(I)
に対して1〜2モル当量、好ましくは1〜1.3当量用
いる。
に対して1〜2モル当量、好ましくは1〜1.3当量用
いる。
ジアゾ化工程の反応は−50〜50”C1好ましくは一
5〜20℃の温度範囲で行う。
5〜20℃の温度範囲で行う。
また、反応終了後過剰の亜硝酸が残っている場合には尿
素等により分解して取り除くことができる。
素等により分解して取り除くことができる。
分解工程では、触媒として二酸化イオウまたは亜硫酸塩
の存在下ジアゾニウム塩の分解を行う。
の存在下ジアゾニウム塩の分解を行う。
通常ジアゾニウム塩の分解の触媒としては塩化銅等銅系
触媒を用いるのが一般的であり比較的牧率もよい。また
稀に鉄、ニッケル、マンガン、コバルト系の触媒を用い
る例も報告されている。
触媒を用いるのが一般的であり比較的牧率もよい。また
稀に鉄、ニッケル、マンガン、コバルト系の触媒を用い
る例も報告されている。
本発明の方法においては、このジアゾニウム塩の分解の
触媒として二酸化イオウまたは亜硫酸塩を用いる点に特
徴があるが、ジアゾニウム塩の分解の触媒に二酸化イオ
ウまたは亜硫酸塩を用いた例は、本発明者らの知る限る
では今までに知られていない。
触媒として二酸化イオウまたは亜硫酸塩を用いる点に特
徴があるが、ジアゾニウム塩の分解の触媒に二酸化イオ
ウまたは亜硫酸塩を用いた例は、本発明者らの知る限る
では今までに知られていない。
この二酸化イオウまたは亜硫酸塩を触媒に用いた場合、
通常用いられる銅系触媒等に比べても高い枚重で目的と
する4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導体が
得られることを見出し本発明を完成させた。
通常用いられる銅系触媒等に比べても高い枚重で目的と
する4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘導体が
得られることを見出し本発明を完成させた。
この分解工程の触媒として用いられる二酸化イオウまた
は亜硫酸塩は原料アミノピラゾール誘導体(1)に対し
て0.1〜100w tχ、好ましくは10〜40wt
%用いる。
は亜硫酸塩は原料アミノピラゾール誘導体(1)に対し
て0.1〜100w tχ、好ましくは10〜40wt
%用いる。
分解化工程の反応は一50〜50℃、好ましくは一5〜
30℃の温度範囲で行う。
30℃の温度範囲で行う。
分解反応では、不活性溶媒として、四塩化炭素、ジクロ
ルエタン等のハロゲン化アルキル誘導体、ベンゼン、ト
ルエン、クロルベンゼン等のベンゼン誘導体、ヘキサン
、ヘプタン等の脂肪族炭化水素等を用いることもできる
。
ルエタン等のハロゲン化アルキル誘導体、ベンゼン、ト
ルエン、クロルベンゼン等のベンゼン誘導体、ヘキサン
、ヘプタン等の脂肪族炭化水素等を用いることもできる
。
反応操作順序は一般のジアゾ化反応およびジアゾニウム
塩の分解反応で知られている種々の方法で行うことがで
きる。例えば二酸化イオウまたは亜硫酸塩、有機溶媒を
いれた反応器中に調整したジアゾニウム塩の溶液を滴下
していく方法、調整したジアゾニウム塩の溶液中に二酸
化イオウまたは亜硫酸塩を添加し分解する方法或いはア
ミノピラゾール誘導体(■)、塩酸または臭化水素酸、
二酸化イオウまたは亜硫酸塩、有機溶媒をいれた反応器
中に亜硝酸す) IJウム等の亜硝酸供給源を添加しジ
アゾ化工程と分解工程を同時に行う方法等種々の順序の
組合せがありうる。
塩の分解反応で知られている種々の方法で行うことがで
きる。例えば二酸化イオウまたは亜硫酸塩、有機溶媒を
いれた反応器中に調整したジアゾニウム塩の溶液を滴下
していく方法、調整したジアゾニウム塩の溶液中に二酸
化イオウまたは亜硫酸塩を添加し分解する方法或いはア
ミノピラゾール誘導体(■)、塩酸または臭化水素酸、
二酸化イオウまたは亜硫酸塩、有機溶媒をいれた反応器
中に亜硝酸す) IJウム等の亜硝酸供給源を添加しジ
アゾ化工程と分解工程を同時に行う方法等種々の順序の
組合せがありうる。
反応後有機層を分離し、溶媒を留去した後常圧または減
圧蒸溜することにより目的物の4−カルボキシ−5−ハ
ロゲノピラゾール誘導体(II)を得ることができる。
圧蒸溜することにより目的物の4−カルボキシ−5−ハ
ロゲノピラゾール誘導体(II)を得ることができる。
3IIわ1呆
本発明の利点として以下のような点が列挙できる。
(1)2−ヒドロキシル体(I[[)をオキシハロゲン
他項と処理させる方法に比して、穏和な条件で短時間に
高収率で、目的とする4−カルボキシ−5−ハロゲノピ
ラゾール誘導体(n)が得られる。
他項と処理させる方法に比して、穏和な条件で短時間に
高収率で、目的とする4−カルボキシ−5−ハロゲノピ
ラゾール誘導体(n)が得られる。
(2)通常ジアゾニウム塩の分解に用いる銅塩を用いず
に二酸化イオウまたは亜硫酸塩で高収率で分解゛できる
ので、廃水中に環境上好ましくない銅等の重金属の混入
の恐れがない。また、オキシハロゲン他項に由来する燐
分の廃水中への混入の恐れもなく、環境上好ましい。
に二酸化イオウまたは亜硫酸塩で高収率で分解゛できる
ので、廃水中に環境上好ましくない銅等の重金属の混入
の恐れがない。また、オキシハロゲン他項に由来する燐
分の廃水中への混入の恐れもなく、環境上好ましい。
大施炭
以下に本発明の具体的実施例を示すが、本発明の要旨を
越えない限り本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。
越えない限り本発明は以下の実施例に限定されるもので
はない。
叉施■1
5−クロル−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チルの製造 5−アミノ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チル200gを35χ塩酸10100Oに溶かし、13
℃に冷却した。次ぎに純度97χの亜硝酸ナトリウム1
06、.3gを水220m1に溶かし、温度を15℃以
下に保ちながら加えた。10分間10℃にて攪拌後尿素
20gを加え、更に10分間攪拌した。この溶液を四塩
化炭素10100Oに亜硫酸56gを吸収させた溶液に
5℃にて滴下した。窒素ガスの発生がなくなるまで室温
で攪拌した汲水10100Oを加え有機層を分離した。
チルの製造 5−アミノ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チル200gを35χ塩酸10100Oに溶かし、13
℃に冷却した。次ぎに純度97χの亜硝酸ナトリウム1
06、.3gを水220m1に溶かし、温度を15℃以
下に保ちながら加えた。10分間10℃にて攪拌後尿素
20gを加え、更に10分間攪拌した。この溶液を四塩
化炭素10100Oに亜硫酸56gを吸収させた溶液に
5℃にて滴下した。窒素ガスの発生がなくなるまで室温
で攪拌した汲水10100Oを加え有機層を分離した。
水層に四塩化炭素500m lを加え抽出操作を行った
後有機層を前の有機層と合わせ、水洗後無水硫酸ナトリ
ウムで脱水し、溶媒留去して粗製の5−クロル−1−メ
チルピラゾール−4−カルボン酸エチル213.8gを
得た。この粗物を蒸溜して純粋な目的物207.9gを
得た。
後有機層を前の有機層と合わせ、水洗後無水硫酸ナトリ
ウムで脱水し、溶媒留去して粗製の5−クロル−1−メ
チルピラゾール−4−カルボン酸エチル213.8gを
得た。この粗物を蒸溜して純粋な目的物207.9gを
得た。
沸点104〜10℃/ 3 mmHg 枚重93
%叉施叢1 5−クロル−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸メ
チルの製造 上記実施例1に準じて合成した。融点70〜71℃真庭
嵐ユ 5−クロル−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボ
ン酸エチルの製造 上記実施例1に準じて合成した。
%叉施叢1 5−クロル−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸メ
チルの製造 上記実施例1に準じて合成した。融点70〜71℃真庭
嵐ユ 5−クロル−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボ
ン酸エチルの製造 上記実施例1に準じて合成した。
沸点129℃/ 5 mmHz 融点 40〜42
℃叉施■土 5−ブロム−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チルの製造 5−アミノ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チル10gを35χ塩酸50m1に溶がし、13℃に冷
却した。次ぎに純度97χの亜硝酸ナトリウム5.5g
を水11011に溶かし、温度を15℃以下に保ちなが
ら加えた。10分間10℃にて攪拌後尿素1gを加え、
更に10分間攪拌した。この接液を47%臭化水素酸1
10m1、四塩化炭素50m1、亜硫酸2gを加えた溶
液に5℃にて滴下した。窒素ガスの発生がな(なる求で
室温で攪拌した汲水500m1を加え、有機層を分離し
た。水洗後無水硫酸す) IJウムで脱水し、溶媒留去
して粗製の5−ブロム−1−メチルピラゾール−4−カ
ルボン酸エチル11.0gを得た。この粒物を蒸溜して
目的物7.0gを得た。
℃叉施■土 5−ブロム−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チルの製造 5−アミノ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チル10gを35χ塩酸50m1に溶がし、13℃に冷
却した。次ぎに純度97χの亜硝酸ナトリウム5.5g
を水11011に溶かし、温度を15℃以下に保ちなが
ら加えた。10分間10℃にて攪拌後尿素1gを加え、
更に10分間攪拌した。この接液を47%臭化水素酸1
10m1、四塩化炭素50m1、亜硫酸2gを加えた溶
液に5℃にて滴下した。窒素ガスの発生がな(なる求で
室温で攪拌した汲水500m1を加え、有機層を分離し
た。水洗後無水硫酸す) IJウムで脱水し、溶媒留去
して粗製の5−ブロム−1−メチルピラゾール−4−カ
ルボン酸エチル11.0gを得た。この粒物を蒸溜して
目的物7.0gを得た。
沸点120℃73ma+Hg 融点39〜42℃ 枚
重50.7%ス1■工 5−クロル−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チルの製造(別法) 5−アミノ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チル10gを用い実施例1に準じてジアゾニウム塩溶液
を調製し、5℃にて亜硫酸4gを吹き込んだ。窒素ガス
の発生がなくなった後、室温で1時間攪拌し、水200
+w 1及びクロロホルム100m1を加えて抽出操作
を行った。有機層を分離し水洗後無水硫酸ナトリウムで
脱水し、溶媒留去して粗製の5−クロル−1−メチルピ
ラゾール−4−カルボン酸エチル11.6gを得た。こ
の粒物を蒸溜して目的物9.9gを得た。
重50.7%ス1■工 5−クロル−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チルの製造(別法) 5−アミノ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チル10gを用い実施例1に準じてジアゾニウム塩溶液
を調製し、5℃にて亜硫酸4gを吹き込んだ。窒素ガス
の発生がなくなった後、室温で1時間攪拌し、水200
+w 1及びクロロホルム100m1を加えて抽出操作
を行った。有機層を分離し水洗後無水硫酸ナトリウムで
脱水し、溶媒留去して粗製の5−クロル−1−メチルピ
ラゾール−4−カルボン酸エチル11.6gを得た。こ
の粒物を蒸溜して目的物9.9gを得た。
沸点104〜110℃/ 3 mlllHg 収率
88%去鳳斑工 5−クロル−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チルの製造(別法) 実施例1の亜硝酸ナトリウムの代わりに塩化ニトロシル
6.3gを用い、5−アミノ−1−メチルピラゾール−
4−カルボン酸エチル10gから実施例1に準じてジア
ゾニウム塩溶液を調製した。このジアゾニウム塩溶液を
実施例5に準じて分解し、目的物9.6gを得た。
88%去鳳斑工 5−クロル−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸エ
チルの製造(別法) 実施例1の亜硝酸ナトリウムの代わりに塩化ニトロシル
6.3gを用い、5−アミノ−1−メチルピラゾール−
4−カルボン酸エチル10gから実施例1に準じてジア
ゾニウム塩溶液を調製した。このジアゾニウム塩溶液を
実施例5に準じて分解し、目的物9.6gを得た。
沸点104〜110℃/ 3 mmHg 枚重86
.1%次ぎに実施例1に準じて原料に5−アミノ−1−
メチルピラゾール−4−カルボン酸エチル10gを用い
、各種条件を変更して行い、5−クロル−1−メチルピ
ラゾール−4−カルボン酸エチルを得た結果を以下実施
例7〜13として参考例とともに示す。
.1%次ぎに実施例1に準じて原料に5−アミノ−1−
メチルピラゾール−4−カルボン酸エチル10gを用い
、各種条件を変更して行い、5−クロル−1−メチルピ
ラゾール−4−カルボン酸エチルを得た結果を以下実施
例7〜13として参考例とともに示す。
副生物は下記の構造式を有する。
醗
CH。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中AおよびBはそれぞれ独立して水素原子または低
級アルキル基を示す。Rは低級アルキル基を示す。〕 で表されるアミノピラゾール誘導体を塩酸または臭化水
素酸の存在下、亜硝酸塩、無機ニトロソ化合物、三二酸
化窒素、或いは一酸化窒素から選ばれた亜硝酸供給源を
用いてジアゾ化し、次いで二酸化イオウまたは亜硫酸塩
の存在下分解させることを特徴とする次式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中AおよびBはそれぞれ独立して水素原子または低
級アルキル基を示す。Rは低級アルキル基を示す。Xは
塩素原子または臭素原子を示す。〕 で表される4−カルボキシ−5−ハロゲノピラゾール誘
導体の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22109384A JPS61100570A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ピラゾ−ル誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22109384A JPS61100570A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ピラゾ−ル誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61100570A true JPS61100570A (ja) | 1986-05-19 |
| JPH0586387B2 JPH0586387B2 (ja) | 1993-12-10 |
Family
ID=16761378
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22109384A Granted JPS61100570A (ja) | 1984-10-19 | 1984-10-19 | ピラゾ−ル誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61100570A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5889670A (en) | 1991-10-24 | 1999-03-30 | Immersion Corporation | Method and apparatus for tactilely responsive user interface |
| US7345672B2 (en) | 1992-12-02 | 2008-03-18 | Immersion Corporation | Force feedback system and actuator power management |
| US5734373A (en) | 1993-07-16 | 1998-03-31 | Immersion Human Interface Corporation | Method and apparatus for controlling force feedback interface systems utilizing a host computer |
| US6697043B1 (en) | 1999-12-21 | 2004-02-24 | Immersion Corporation | Haptic interface device and actuator assembly providing linear haptic sensations |
-
1984
- 1984-10-19 JP JP22109384A patent/JPS61100570A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0586387B2 (ja) | 1993-12-10 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |