JPS61101321A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば縦型気相エピタキシャル装置のサセプ
タのように水平に配置され九平盤状の支持体ニ対するウ
ェハの搬送装置に関するものである。

〔従来技術〕

近時、半導体の製造に際し、半導体製造装置の処理能力
増大の要請に伴って装置の大型化とともに自動化が急務
となっている。

ところで、この装置の自動化に際し、ウェハのハンドリ
ングが重要であるが、従来におけるウェハ搬出入装置は
ウェハを真空吸着して保持するものが多く、平盤状のサ
セプタへの脱着の場合には、ウェハの表側の面に接触せ
ざるを得ながった。このｔめ、サセプタのウェハ載置部
にウェハの周辺や裏面を保持する部材を差し込むための
凹部を形成することも提案され念が、これはウェハの均
一加熱全阻害する。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、気相エピタキシャル装置の場合ではウェハを
サセプタ上に搬送したのちにエピタキシャル成長が始ま
る几め、ウェハの保持の際ウェハの表側面の真空吸着部
分に応力、傷などによる結晶欠陥が発生すると、それが
その上に成長するエビ層に対し増幅されて現われてくる
など、歩溜りを低下させる原因となるが、エピタキシャ
ル成長後のウェハを取出す際には、すでにエピタキシャ
ル層が形成されているため、多少の接触があっても問題
は少ない。

シ 〔問題点全解決する丸め手段〕 本発明は、上記の事情に着目してなされ几もので、搬送
用アームの先端に揺動可能に取付けられ薄片の上面に真
空吸引口を有するウエノ・裏面吸着用の第１吸引部と、
同第１吸引部と隣接して前記搬送用アームの先端に取付
けられ下面が前記第１吸引部より下方に突出して該下面
に真空吸引口を有するウェハ表面吸着用の第２吸引部と
を設けたものである。

〔作用〕 前記第１吸引部はウニ・・より小径の受台またはベルト
などのようにウェハの裏面の一部全露出して置かれてい
る該ウエノ・の裏面を吸着してサセプタなどの支持体上
に該ウェハを搬送し、第１吸引部の揺動によって該ウェ
ハを支持体上にすべりおろすことにエリ支持体上へのウ
ェハの搬入を行なう。支持体上で所定の処理が行なわれ
たウェハの出 搬には第１吸引部より下方に突出している第２吸引部に
よりウェハの表面を吸着して行なう。これにより少なく
とも搬入時には、ウェハの表面に接触することはなく、
また搬出のために支持体に凹部全役けるなどの特別な措
置を施こす必要もない。

〔実施例〕

以下本発明の一実施例を示す第１図ないし第す図につい
て説明する。第１図において、１は円盤状の支持体とし
てのサセプタで、上面にウェハ載置用のザグリ２が多数
設けられている。サセプタ１は回転軸３に取付けられ、
図示しない割出手段により前記ザグリ２の位置に対応し
て順次所定の角度位置に停止されるよ°うになっている
。４は搬送装置本体で、矢印Ｚおよびθで示す工うに昇
降および旋回する昇降旋回体５が設けられ、この昇降旋
回体５に矢印Ｒで示すように進退可能な搬送用アーム（
以下アームという）６が設けられ、このアームらの先端
に吸着へノド７が取付けられている。８．９は処理前ウ
ェハＷ１および処理後ウェハＷ、Ｃり小径の受台で昇降
可能に設けられている。

ｔｏ、＋１は搬送ベルトで、搬送ベルト１０は図示しな
いカセット円から処理前ウェハＷ１全受台ｇ上に搬送し
、搬送ベルト１１は受台９上にある処理後ウニ・・Ｗ２
２図示しないカセットへ搬送するためのものである。

前記吸着ヘッド７のヘッド本体２０ば、第４図に示すよ
うに、軸２１を介してアームらの先端に揺動可能に取付
けられ、第１図に示すようにアームらに取付けられ禽モ
ータ２２によりプーリ２３、タイミングベルト２４、プ
ーリ２５を介して矢印αで示すように制御され友所定角
度揺動されるようになっている。

ヘッド本体２０の下端たは前側（第２ないし４図におい
て左側）に突出し友薄片の第１吸引部２６／；二形成さ
れている。この第１吸引部２６の上面２６ａ　Ｖｃは真
空吸引口２７が開口されている。この真空吸引口２７は
、第３および４図に示すように。

ヘッド本体２０の下面に密着して取付けられ九フタ２８
とによって形成された流路２９およびこれニ続りヘッド
本体２０中の穴３０．ホース３１、さらに図示しない切
替弁を介して同じく図示しない真空源に接続されている
。

前記ヘッド本体２０には、第４図に示すように、第１吸
引部２６の後方（第４図において右方）に隣接して位置
すべく第２吸引部３２が取付けられている。第２吸引部
３２ばその元部がヘッド本体２０の穴３３にＯリング３
４を介して嵌入されると共に、ガイド３５，３５にエリ
上下に移動可能に支持され、バネ３６により比較的小さ
な下向きの弾発力を付与され、ガイド３５の頭部３５ａ
にて下降限位置を規制され、この下降限位置にあるとき
、下面３２ａがフタ２８を含む第１吸引部２６などのヘ
ッド本体２０側の部材の下面よりさらに下方に位置する
ようになっている。この第２吸引部３２の下面３２ａに
は真空吸引口３７が開口され、同真空吸引口３７は、第
２吸引部３２中に設けた穴３８、ヘッド本体２０に設け
た前記穴３３およびこれに続く流路３９、さらに図示し
ないホースおよび切替弁を介して同じく図示しない真空
源に接続されている。

次いで本装置の作用全説明する。第１図に示すように、
搬送ベルト１０により搬送され、受台８の上昇によって
該受台８上に載置されている処理前ウェハｗ、１サセグ
タＩのザグリ２内−搬入する場合は、まず、昇降旋回体
５ｊｔ旋回させて吸着へ、／ドア全第５図（ａ）に示す
ように前記受台８上の処理前ウェハＷ１の近傍の原点Ａ
に位置決めする。次いでアーム６の繰出しにより第５図
（ｂｌに示す：うに吸着ヘッド７を処理前ウニ・・Ｗ１
側へ所定距離移動させて接近させ、昇降旋回体５の下降
により第５図（Ｃ１に示すように吸着ヘッド７金矢印Ｚ
方向へ下降させ、第１吸引部２６の上面２６ａ’ｉ処理
前つエバ・Ｗ、の裏面より下方に位置させる。次いで、
第５図（ｄ）に示すように、前記上面２６ａが処理前ウ
ェハＷ１の裏面に対向するように吸着ヘッド７をアーム
６の繰出しにより矢印Ｒ方向−移動させる。そして、第
５図（ｅｌに示すように吸着ヘッド７を上昇させると共
に、前記第１吸引部２６の上面２６ａに開口されている
真空吸引口２７に接続されている図示しない切替弁全開
いて真空吸引口２７に負圧を生じさせる。そこで、吸着
ヘンドアの上昇によって第１吸引部２６の上面２６ａが
処理前ウェハＷ１の裏面に接触すると、前記負圧によっ
て処理前ウニ・・ｗ、２上面２６ａに吸着し、吸着ヘッ
ド７の上昇およびアーム６の繰出量の制御により吸着ヘ
ッド７を第１図に示すサセプタ１の上方の所定位置に位
置決めする。このとき、サセプタ１は回転軸３０回転に
より多数のザグリ２の中の処理前ウニ／・ｗ、６受入れ
る所定のザグリ２が、第５図（ｇ）に示すように、前記
のように吸着されてサセプタ１の上方に位置されている
処理前ウニ・・Ｗｌの下方に位置するように割出される
。次いで、第１図に示されているモータ２２を作動させ
、番５図（ｈｌに示すように、軸２１全中心にして吸着
−・ソド７を所定量傾斜させる。この傾斜量は、第５図
（ｉ）に示すように、吸着ヘンドアを下降させて処理前
ウエノ・Ｗｌがザグリ２の底部に接触したとき、吸着ヘ
ッド７がサセプタ１に接触しない程度に定められている
。

しかして、第５図１．）に示すように処理前ウエノ・Ｗ
。

の−側がザグリ１の底部に接触する若干手前まで吸着ヘ
ッド７全下降させ５次いで、第１吸引部２６の真空吸引
口２７の負圧全解除し、第５図（ｊ）に示すようにさら
に吸着ヘッド７を傾斜させると共に矢印Ｒ方向へ移動さ
せれば、処理前ウニ・・ｗ、（４第１吸引部２６の上面
２６ａから外れて、ザグリ２内に置かれる。そこで、吸
着ヘッド７の傾斜を第５図（ｋ）に示すように元に戻し
て１つの処理前ウニ／・Ｗｌの搬入を終了する。以下、
搬送べｐしｌ−Ｉ　Ｑによって受台８上に順次置かれる
処理前ウニｚｚＷ１’ｌ：同様にサセプタ１に対して搬
送すると共に、サセプタ１を各々のザグリ２の位置に合
せて順次割出すことにより、すべてのザグリ２に対する
処理前ウェハＷ１の搬入が完了する。

サセプタ１」二において所定の処理を施こされた処理後
ウニ・・Ｗ２の搬出は、第６図に示すように行なわれる
。すなわち、吸着ヘッド７をサセプタ１の上方の所定位
置に位置決めすると共に、サセプタ１をザグリ２の位置
に応じて割出し、第２吸引部３２を搬出すべき処理後ウ
エノ・Ｗ２の表面の好ましくは端部寄り位置に対向させ
る。次いで、昇降旋回体５の下降にエリ第６図（ｂ）に
示すように吸着ヘッド７を下降させ、第２吸引部３２の
下面３２ａ前記下面３２ａに開口されている真空吸引ロ
Ａヲ前もって負圧にし、処理後ウニ・・Ｗｚｔ？吸い上
げる状態で第２吸引部３２に吸引するようにしてもよい
が、本実施例では、第４図に示したように、第２吸引部
３２をヘッド本体２０に対して比較的小さな力で上下動
できるようになっているため、この第２吸引部３２のク
ッション作用を利用して、まず、第２吸引部３２の下面
３２ａ　ｆ処理後ウニ・・Ｗ２の表面に軽く接触させ、
次いで真空吸引口３７に負圧音生じさせる。このように
すると１．処理後ウエノ・Ｗ２の吸着に際し、第２吸引
部３２すなわち吸着へノド７に対する処理後ウニ・・Ｗ
ｌの位置ずれがなく、両者の相対位置関係金玉しく保っ
て吸着することができる。次いで、第６図（ｃ）に示す
ように吸着ヘッド７を上昇させ、処理後ウェハＷ２ｆｉ
ｒサセプタ１のザグリ２内から持上げ、昇降旋回体５の
旋回により第６図（ｄ）に示すように吸着ヘッド７を移
動させ、第６図（θ）に示すように処理後ウェハＷｚｔ
”受台９（第１図参照）の上方に位置させる。次いで、
吸着ヘッド７を下降させ、処理後ウェハＷｚｋ受台９上
に載置し、第２吸引部３２による吸着を解除し、第６図
（ｇ）に示すように吸着ヘッド７を上昇させて該吸着ヘ
ッド７による処理後ウェハＷ２の搬出を終了する。なお
受台９上に載置された処理後ウェハＷｚｌｄ、受台９の
下降により搬送ベルト１１上に移され、該搬送ベルト１
１により図示しないカセットへ収納される。

前記吸着ヘッド７による処理前ウェハＷ１の搬入と、処
理後ウェハＷ２の搬出は、サセプタ１による初回と最終
回の処理の間においては、あるザグリ２から１枚の処理
後ウニ・・Ｗｚｋ搬出した後、同ザグリ２へ処理前ウニ
・・Ｗ＋”ｋ搬入し、次いでサセプタ１を次のザグリ２
の位置に割出して同様にそのザグリ２内の処理後ウニ・
・Ｗｌに搬出し、そこへ処理前ウエノ・Ｗ１ヲ搬入する
というように、搬出と搬入を１枚ずつ交互に行なう。

第７図ないし第１０図は、本発明の他の実施例を示すも
ので、アーム４０の先端に取付けられたヘッド本体４１
が軸４２全中心として図示しな（ハシリンダま７ＣはＤ
Ｃモータなどのアクチュエータにより出入されるロッド
４３にエリ傾動するようになっていると共に、前述しｆ
ｃ実施例の第１吸引部２６と同様の第１吸引部４４の両
側に前述した実施例の第２吸引部３２と同様の第２吸引
部４５゜４５ｆ設けたものである。第２吸引部４５．４
５は、第９図に示すように、第１吸引部４４にて処理前
つ１）・Ｗ＋ｆ吸着したとき、この処理前ウニ・・Ｗｌ
と干渉しないように第１吸引部４４工り後方すなわちア
ーム４００元端側へ所定量ずらせて配置されている。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明によれば、処理前のウェハの表
面に触れることなく該ウエノ・をサセプタのようなウニ
・・の裏面全体に接触する平盤状の支持体に搬入するこ
とができζまた搬出は支持体にウニ・・把持用の特別な
溝などを設けることなく表面全吸着することにより可能
であるため、気相成長などのように特に搬入時にウニ・
・表面に接触すること金きらう場合のウニ・・搬送装置
に適し、このような場合、ウニ・・およびそれに対する
処理への悪影響を最小限に押えて合理的な搬出入が行な
える。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるウニ／・搬送装置を気相成長装置
に適用した一実施例を示す概要斜視図、第２図は本発明
によるウエノ・搬送装置の吸着ヘッド部分を示す部分拡
大側面図、第３図は第２図の平面図、第４図は第３図の
ＩＶ−ＩＶ線による拡大断面図、第５図（ａ）ないしく
ｋ）は本発明のウニ・・搬送装置による処理前ウニ・・
の搬入動作を示す説明図、第６図（ａｔないしくｇｌは
同装置の処理後ウニ・・の搬出動作を示す説明図、第７
図は本発明の他の実施例金示す吸着ヘッド部分の一部破
断正面図、第８図は第７図の■−■線による断面図、第
９図は第７図の一部破断乎面図、第１０図に第９図のＸ
−Ｘ線による部分断面図である。 １・・・・・・支持体（サセプタ）、　　２・・・ザグ
リ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、搬送用アームの先端に揺動可能に取付けられ薄片の
   上面に真空吸引口を有するウェハ裏面吸着用の第１吸引
   部と、同第１吸引部と隣接して前記搬送用アームの先端
   に取付けられ下面が前記第１吸引部より下方に突出して
   該下面に真空吸引口を有するウェハ表面吸着用の第２吸
   引部とを具備することを特徴とするウェハ搬送装置。 ２、第２吸引部が搬送用アームに対し上下方向へ所定量
   移動可能に取付けられていることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載のウェハ搬送装置。 ３、第２吸引部が第１吸引部の両側にそれぞれ設けられ
   ていることを特徴とする特許請求の範囲第１または２項
   記載のウェハ搬送装置。