JPS61104087A - 塗装性能、耐食性能にすぐれた電気抵抗シ−ム溶接缶 - Google Patents

塗装性能、耐食性能にすぐれた電気抵抗シ−ム溶接缶

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JPS61104087A
JPS61104087A JP22517984A JP22517984A JPS61104087A JP S61104087 A JPS61104087 A JP S61104087A JP 22517984 A JP22517984 A JP 22517984A JP 22517984 A JP22517984 A JP 22517984A JP S61104087 A JPS61104087 A JP S61104087A
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JP
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layer
coating
welded
corrosion resistance
paint
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JP22517984A
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English (en)
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Yukinobu Higuchi
樋口 征順
Masao Ikeda
昌男 池田
Tomoya Oga
大賀 智也
Hirobumi Nakano
寛文 中野
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/38Chromatising

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、電気抵抗シーム溶接部を有し、塗装を施され
て製造されるSnメッキ被覆層を有する溶接缶に関し、
特にSnメッキ被覆層が低付着量の場合にすぐれた溶接
性、耐食性能及び塗装性能を発揮する溶接缶に関するも
のである。
(従来の技術) 近年、飲料缶、食品臼等における製缶方式、缶デザイン
は著しく進歩かつ多様化し、これらに適これらの要求に
対処するための一つとして、電気抵抗溶接法による溶接
缶の進歩は著しいものがある。
溶接缶は、接合部の強度が高く、缶詰時の接合不良に基
づく漏洩缶発生率が非常に低く、また接合部のラップ代
が小さく外観が美麗であり、缶蓋のまき締め加工による
取り付は時の不良率が極めて少なく、ま711:接合部
の強度が高い事からネックドイン缶或いはビード缶等の
変形ファッション缶に適している事などから急速に発展
している。
このような溶接缶の素材は、従来溶接性にすぐれている
事及び缶内容物に対する耐食性などの点から、主として
す25以上(メッキ量が片面約2500 ra9/m”
以上)のブリキが使用されてきた。
ところがブリキはSn価格の上昇によってそのコストが
高くなることから、低Sn付着量で耐食性能、耐食寿命
等にすぐれた溶接缶が要求されるに至っ之。
(発明が解決しようとする問題点) 本発明はこれらの要求に対処してなされたものであり、
缶内面の耐食寿命を、溶接缶全構成するSn被覆層、ク
ロメート被膜層及び塗膜の総合効果によって、これらの
適性な被膜構成を選定する事により極めて優れた塗装性
能の確保により、低Sn付着量の素材全使用するにもか
かわらず、むしろすぐれた缶内面の耐食性を有する溶接
缶を提供する事にある。
(問題点全解決するための手段) 本発明の要旨は、電気抵抗シーム溶接缶の内面はフリー
Sn被覆層が100〜1000Ln9/m!、その上層
だ金属Cr層とオキサイドクロム層からなる二層型クロ
メート被覆層が全クロム被覆層として5〜20 m97
〜2 で、かつ金属クロム層が3〜10Tn97m” 
で構成されており、その最上膚に30〜100m9/d
m2の塗膜層が設けられている溶接缶である。
以下に、本発明の詳細な説明する。
本発明においては、Sn系メッキ被覆層を有する鋼板が
、先ず缶サイズに対応してブランクサイズに剪断する。
次いで、ブランクサイズ両端の溶接部のラップ代の部分
及び溶接熱影響に相当する部分(通常は3〜15wcm
巾)を除いて、各々塗装、焼付処理が施される。すなわ
ち缶外面側には外面塗装又は外面印刷が施芒れ、又缶内
面側には缶内容物に対応して防食塗装が施される。缶(
容器も含め)の性能から、缶内面の塗装が特に重要であ
り、多くは塗膜量30〜100 m9/ dm” 、好
ましくは40〜60〜/ dm”のエポキシ−フェノー
ル系樹脂を主成分とする塗装が施される。
上記塗装、焼付処理が施されたSnメッキ銅板は、その
後電気抵抗シーム溶接機(例えば、スードロ 。
ニック溶接機)を用いて、0.3〜1. Orrm、好
ましくは0.4〜0.6間中の溶接ラップ代部が溶接さ
れ、溶接部分は100〜1000 m9/dm”の塗膜
厚の補修塗料が施され、その後缶蓋が巻き締め加工によ
り取り付けられ溶接缶に製造される。
而して、この溶接缶において、内容物全光填された後の
優れた耐食性能、耐食寿命を確保するためには、以下の
点が重要であり、特に本発明の目的とするSnメッキ付
着量が1500mg/m2以下のSnメッキ鋼板を用い
て優れた性能の溶接缶を得るためには次に規制する被膜
構成で溶接缶を製造する事が必要である。
即ち、本発明では低Sn付着量の素材全使用するにもか
かわらず、従来から使用されているSn付着量の多い素
材全使用した場合と同等以上の缶性能を得るためには、
特に溶接缶内面で極めてすぐれた塗装性能、即ち塗料密
着性、塗膜W!度、缶内容物に長期間曝された場合の二
次塗料密着性、塗膜下腐食等にすぐれた性能が得られる
被膜構成である事が必要である。又、同時に電気抵抗シ
ーム溶接において、一般に1散り”と称されるスプラッ
シーの溶接欠陥部を発生せしめない、被膜である事が必
要である。
すなわち、溶接工程において、浴接部から溶融金属のス
プラッシユが生成されると、溶接部に空洞部分を生じこ
れが溶接缶の変形加工時に、クラック発生源となり、溶
接部分の剥離を生じる原因となる。
一方、スプラッシユは主として溶融された鉄で構成され
ている念め、スデラッシSを付着した部分は溶接部分の
補修塗料による被覆によってその腐食を防止する事は可
能であるが必ずしも完全ではなく、その発生量はできる
だけ少ない方が耐食性の点から好ましい。
以上の如く、本発明の方法による溶接缶は、低Sn付着
量ですぐれた耐食性能、耐食寿命全得るために、極めて
すぐれた塗装性能と溶接欠陥の生成が少ない被膜構成で
ある事が必要である。
而して、上記のすぐれた塗装性能を得るための被膜構成
について心々検討した結果、以下の被膜構成であればす
ぐれた効果が得られる事が判った。
すなわち、缶内面の防食は、塗膜量30〜100IIL
9/dm2、好1しくは40〜60〜/ dm”の例え
ばエポキシ−フェノール系樹脂を主成分とする缶内用塗
料が溶接にさきだって塗装される。又、缶外面に対して
も、防食及び装飾の塗装或いは印刷が溶接にさきだって
行なわれる。
通常、この塗装において施される焼付は処理は、通常1
70〜220℃で10〜60分程度の加熱処理を行なう
が加熱によって、Snメッキ層と銅板の拡散によってS
nメッキ層の一部又は全部が合金化される。
この加熱処理金堂けた塗装焼付は後にお込て、溶接缶は
、合金化されていないSnメッキ層、所謂フリーSn層
が均一に片面当り100〜1000’97m” 、好ま
しくは250〜750m?’/m”残存シテいるととも
に、その上層の表面側から金属クロム層がCr換算量で
片面当り3〜10〜/m2、好ましくは4〜7.5〜/
m!生成され、その上層に水和酸化クロムを主体とする
オキサイドクロム層がCr換算量で下層の金属クロム層
との総和で片面当り5〜20 m9/2ys” 、好ま
しくは7.5〜15 m97m”の二層型クロメート被
膜、さらに前記し几塗膜量の塗装が施されて構成されて
いる事が必要である。
而して、フリーなSnの被覆層が100〜/mR未満で
は、塗膜欠陥部におけるSn金属自体の防食能が耐食寿
命の点で不光分であり、またSn被覆層の上層に設けら
れたクロメート被膜層が、加熱拡散時にフリーなSn被
覆層が100mg/m2未満しか残存しないような状態
では、Sn被覆層の合金化された部分が生成されるため
、クロメート被膜層とSn表面層との密着性が劣化され
る傾向にあり、塗装性能を劣化する。
また、溶接作業において、溶接欠陥のスプラッシュ等を
生成させないためにもフリー5nI7)残存量が100
〜/m1以上が必要である。これは、フリーSnの外存
量が100 TV//m”未満では、塗装性能向上のた
めのりaメート被膜の影響もあり、接触抵抗が大きくな
り、光分な溶接強度を確保するためには溶接電流を増加
する必要があり、そのため式 溶接欠陥であるスプラッシュが生成され易くなる。
従って、溶接缶として、すぐれた耐食性能、耐食寿命が
確保されるために、7!J−8n量が100mg/m2
以上、好ましくは2501n9/m!以上残存されて溶
接缶体が形成されている事が塗装性能、溶接部の性能の
点から必要である。
次に、このようなフリーSnの残存量は1000mg/
m2y下、好首しくは750 m9/m”以下に限定さ
れる。これは、フ!J−Snの残存量が1000rlK
l/m”をこえると塗装後の塗膜硬度がフ’) −Sn
の影響により低くなり、製缶工程においてすり疵が発生
し易くなり、塗膜に生じたスクラッチ傷がSn被覆層面
或いは鋼素地に達する事があり、耐食性劣化の大きな原
因となる。
本発明において、Sn被覆層の上面に生成されるクロメ
ート被膜は、溶接缶の耐食性、耐食寿命等の缶性能をそ
のすぐれた塗装性能と残存フリーSnとの複合効果で確
保する事にあるため、極めて重要である。
而して、前記に説明した7 リ−Snの範囲において、
クロム換算量で金属クロムの付着量が3mg/m2未満
では、オキサイドクロム層の付着量が本発明の範囲を満
足する付着量で構成されていても、腐食環境に曝された
場合に、塗膜下腐食を生じるので好ましくない。また、
金属クロム層の付N量が10 rIT9/m” fこえ
る場合は、同様にオキサイドクロム層の付着量が本発明
の範囲を満足する付着量の範囲であっても、その溶融点
が高く、ま次硬質の金属であるため、溶接工程において
スプラッシュの溶接欠陥が生成され易いために好ましく
ない。
さらに、溶接缶が加工を受ける場合、硬質なためクラッ
ク全発生する事があり、そのクラックは塗fit層表面
に迄達し、耐食性能全劣化せしめる要因となるので好ま
しくない。
従って、sn被覆層表面上に生成されている金属クロム
の付着量は、すぐれた塗装性能、耐食性能が確保される
ためには3〜10 ml/m” 、好ましくは4〜7.
5mg/m2である事が必要である。
次いで、上記付着量の金属クロム層全必須構成要件とし
て、その上層に水和酸化クロムを主体とするオキサイド
クロム層が設けられているとともに、金属クロム層と該
オキサイドクロム層との総和で5〜20mg/m2のク
ロム付着量で溶接缶は構成されるが、クロメート被膜量
5 ’Q1m”未満の付着量では良好な塗装性能、特に
良好な塗装耐食性、S化合物が含有される腐食環境にお
ける硫化黒変に対するすぐれた抵抗力などが得られない
一方、全クロム付着量が20mg/m2 tこえる場合
は、溶接部においてスプラッシユの生成による溶接欠陥
が多く生成され、補修塗装が施されても溶接缶の耐食性
を充分に確保することができない。
以上の結果から、本発明は、第1図忙示すように金属ク
ロム層とオキサイドクロム層との総和で、クロム付着量
5〜20〜/m2、好ましくは7.5〜15〜/m!で
クロメート被膜層が構成される事がM要である。
第1図の例は塗装焼付は後フ!J  Sn残存量が45
0 m9/m” 、エポキシ−フェノール系塗料50〜
/dm2  が塗装ぢれた試料について、各々溶接性、
アンダーカッティングコロジョンKM (U、c、c 
B験)を行なった。
評価基準は次の通りである。
◎・・・溶接性、U、C,Cテスト結果とも良好○・・
・溶接性は良好、U、C,Cテスト結果は比較的良好Δ
・・・溶接性は比較的良好、U、C,Cテスト結果は良
好×・・・溶接性、U、C,Cテスト結果のいずれかが
劣る××・・・溶接性、U、C,Cテスト結果とも劣る
さらに本発明においては、前記の如く、溶接缶に製缶さ
れた場合、フ’)−8n被覆層と二層型クロメート被膜
層で構成された被覆層に施されている塗膜層の硬度が硬
いことが好ましい 特に、缶寿命の観点から、缶内面の塗膜硬度がM髪であ
り、製缶工程においてロール等との擦過によって生成さ
れるスクラッチ傷或いは製缶後の内容物充填時や缶の輸
送時に衝撃によって塗膜面が傷つけられるのを防止する
ために、塗膜硬度が高い方が好ましい。
而して、上記観点より種々検討し九結果、16面への傷
つき防止が可能なためには、塗膜面の硬度が鉛藉硬度で
4H以上好ましくは5H以上の硬い硬度が好ましい事も
判った。
而して、この場合塗膜硬度の4H以上は、塗料或いは塗
装焼付は条件のみで確保する事も可能であるが、その反
面では塗料の密着性を劣化する事がある。
従って、塗料の密着性、塗膜自体の加工性を確保して、
前記の如き塗膜面に対する傷つきを防止する友めには、
本発明を構成しているSn被覆層、クロメート被覆層と
の総合効果が重要である。
本発明は、これらの観点からも、その被膜構成が検討さ
れたものであり、前記した範囲のフリーSHの残存量、
クロメート被膜量及びその被膜構成を確保する事によっ
て、缶内面塗料全塗膜量30〜100 ’y/ dml
 、好ましくは40〜601119t/ dm”塗装す
る事によって、充分な塗料の密着性、塗膜自体の加工性
、塗膜硬度が得られる。
すなわち、塗膜量が30mg/dm2未満でFi塗膜の
均一性が充分でなく、塗装後例食性の点で不充分である
。一方、塗膜量が100ダ/ dm”をこえると、充分
な硬度の塗膜硬度が得られず、また塗料の衝撃時の密着
性等の点で問題であるとともに、塗膜に含有される不揮
発分等が多くなり、缶内容物のフレーバーに影響を及ぼ
す事があり好ましくない。
而して、本発明においては、その溶接缶が製缶された場
合の被膜構成を規定するものであり、溶接缶製造に使用
される素材は何ら規定するものではない。
このような観点から、例えばSn付着量550〜150
0即/mRの低Sn付着量のsnメッキ鋼板、或いは鋼
板とSnメッキ層の間にSnメッキ層の下地被覆層とし
て、Ni 、 N1−F’e合金層、Ni拡散層、N1
−P合金層、F’e−P合金層等金施したsn付着it
550〜1500m97m2に有するanメッキ鋼板に
、金属クロム層3〜10 m97m” 、全クロム付着
量5〜20mg/m2の二層型クロメート被膜層を設け
たyモ材全使用する事ができる。
而して、これらの素材を適性な塗装条件の基に、前記し
た被膜構成の溶接缶を得る事によって、低Sn付着量で
あっても、そのすぐれた塗装性能とあいまって、耐食性
、耐食寿命の極めてすぐれた溶接缶を得る事ができる。
特に、溶接缶に製缶される場合忙おいて、フリーSn確
保の容易な点と生成されて−るSn合金層の緻密化によ
る耐食性の点からは、銅板とSn被覆層の間に、Ni 
、 N1−F@、Ni拡散層、N1−P、 Fe−P等
の下地被覆層が設けられたSnメッキ鋼板を素材として
使用するのが好ましい。
尚、溶接部の補修方法、補修被膜の構成等については、
本発明においては何ら規定するものではなく、従来のブ
リキ葉材等を使用した溶接缶製造方法において使用され
ている方法が使われる。又、溶接は大気中で行なっても
よく、外観向上の点から、N2がス雰囲気等でシールさ
れた非酸化性雰囲気で行なってもよい。
以下に、本発明の実施例について説明する。
Snメッキ層金有する素材を用いて、ブランクサイズo
、22X175X140に剪断後、板巾の両端から各々
3.5づつ除いた部分の片面に先ず内面防食用のエポキ
シフェノール系mRt−so〜/ dm ”ロールコー
タ−で塗装後、205℃で10分間焼付は処理を行なっ
た。次いで、他の片面に約20119/ dm 2のホ
ワイト系のベースコート塗装を行ない。
180℃で10分間焼付は処理を行い、その後、スード
ロニツク溶接機金用いて、溶接ラップ巾0.81、溶接
圧力30kg、平均溶接負荷電流60A%段缶スピード
350缶/minで溶接を行ない、溶接部及びその熱影
響部を含めて、内外面に81巾でビニールゾル系の補修
塗料を4001ψ/ dm”塗装、200℃で5分間焼
付は処理を行なった。その後、缶底を巻き締め加工によ
り取り付け、ま友缶内腐食を対象としたモデル液を用い
た下記の評価試験及び笑缶試験によりその性能を評価し
た。
■ 缶内面の塗膜硬度の評価 空缶全期り開いて、缶内面部の塗膜層の硬度を鉛筆硬度
により測定した。尚評価は以下の基準で行なった。
◎・・・5H以上の硬度 ○・・・4H以上の硬度Δ・
・・3H以下の硬度 ■ 溶接性の評価 前記条件で溶接手ストを行ない、溶接部のスデラッシェ
(散り)の発生頻度及びその大きさの総合評価により、
その溶接性を評価した。尚、散りの発生割合は500缶
評漬して、散りが発生し之缶数の割合で評価 ◎・・・散りの発生割合59!i未満で、散りの大きさ
は極小 ○・・・散りの発生割合5〜10%未満で、散りの大き
さは極小〜小 Δ・・・散りの発生割合10%以上で、中〜/JXのサ
イズの散り発生 ×・・・散りの発生割合20係以上で、中〜大のサイズ
の散り発生 ■ 缶内面全対象とした塗装性能の評価塗装後に缶内面
に相当する塗膜面の一部に、地鉄に達するスクラッチ傷
を入れ、溶接缶に製缶後促進試験として、酸素を含有す
る状態で1、54 NaC1と1.5係クエン酸を含有
する水溶液を充填して、120℃で30分間のレトルト
処理を行なった後、温度55℃で120時間の装置テス
トに行なった。その後に:缶全切り開いて、乾燥後セロ
テープによる塗膜の剥離テストを行ない、その剥離状況
によって塗膜性能の評価を行なりfc。
◎・・・スクラッチ部の塗膜剥離中0.3 rtrra
以下で、その他の健全部の塗膜剥離がないもの ○・・・スクラッチ部の塗膜剥離中0.8 w以下で、
その他の健全部の塗膜剥離がないもの Δ・・・スクラッチ部の塗膜剥離中が0.8〜2間程度
又はその他の健全部に塗膜剥離が認められるもの ×・・・スクラッチ部の塗膜剥離中が2 rrm kこ
えるか又はその他の健全部に塗膜剥離が可成り著しく認
められるもの ■ 缶内面全対象とした侑撃加工部の塗膜性能溶接缶を
製缶後に、ポンチ径10咽の球形ポンチ全周い、荷重5
005’t20Crr1高さから落下させ1缶内面に凸
型の衝撃加工部全付与した。
その後、オレンジジニースをリノザツクして、温度55
℃で3ケ月間の災缶試験?実施した。その後、衝撃加工
部に対して、テープ剥離を行ない、塗膜の剥離状況及び
これらの部分のメッキ層の腐食状況より評価を行なった
◎・・・塗膜剥離のほとんど認められない状態○・・・
塗膜剥離が僅かに認められる状態Δ・・・塗膜剥離が可
成り認められ、メッキ層の腐食が認められる状態 X・・・塗膜剥離か著しく、メッキ層の腐食が可成り認
められる状態 ■ 缶内面の硫化黒変性評価 溶接缶′ft製缶後、缶体にビード加工音節し、端内を
ソノ4ツク後、120℃で30分間のレトルト処理を行
ない、55℃で3ケ月間の英缶試験全行ない、硫化黒変
の程度全評価し念。
◎・・・硫化黒変の発生なし ○・・・ビード加工部に僅かに硫化黒変発生、他の部分
は発生なし Δ・・・ビード加工部の硫化黒変が著しく発生、他の部
分の発生は僅少 ×・・・We化黒変が著しく発生 ■ 曲げ加工による塗膜欠陥発生状況の評価缶胴と缶蓋
の巻き絞め加工を想定し、テストピースに1を曲げ加工
(1=板厚)を施し、加工による塗膜欠陥発生状況を評
価するためERV(Enamel Rate Valu
@)テストを実施した。
ERV 00〜5 mA/cm2 Q  6〜20 mA/crl Δ 21〜50 mAA−rr? X   50 mA/c’&以上 ERV測定条件 試験液  1′%NaCt+ 0.02 %ラピゾール
測定条件 対極ptで6vの電流をかけ6秒後の電流値
全測定する。つまり塗膜欠陥 が多い程電流値は高い値を示す。
評価試験法 (、)  溶接性;溶接ラップ代o、 s 鵡で、溶接
圧力30Jf1溶接負荷平均電流60Aで、200缶溶
接を行ない、溶接部のスゲラッシュ(散り)発生缶数の
割合から、以下の評価基準を設定した。
溶接性良好;スジラッシュ発生缶の割合5幅未満で発生
したスプラッシュも極小、 溶接性比較的良好;スジラッシュ発生缶の割合10チ未
満で、スゲラッシュが小以下、溶接性劣る:上記以外の
溶接部欠陥が発生した場合 (b)  7ンダ一カツテイングコロジヨン試験塗膜面
に地鉄に達するスクラッチ傷を入れ、(1,54NaC
1+ 1.5%クエン酸)水溶液中に、炭酸ガス雰囲気
で55℃、96時間浸漬試験ヲ実施、その後、セロテー
プによる塗膜鄭I離テスト全行ない、クロスカット部の
フクレ巾より、以下の評価基準を設定し之。
U、C,Cテスト結果良好・・・フクレ巾0,3g以下
〃  比較的良好・・・フクレ巾0.5閣以下〃   
劣る・・・フクレ巾0.5+++mこえる場合
【図面の簡単な説明】
図面はフリーSnメッキ層表面に生成されるクロメート
被膜組成が溶接性、耐食性に及ぼす影響全示す図である
。 新部興治 ; 一一鴎参一

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 塗装を施して使用する電気抵抗シーム溶接缶の内面がフ
    リーSn被覆層が100〜1000mg/m^2、その
    上層に金属Cr層とオキサイドクロム層からなる二層型
    クロメート被覆層が全クロム被覆層として5〜20mg
    /m^2で、かつ金属クロム層が3〜10mg/m^2
    で構成されており、その最上層に30〜100mg/d
    m^2の塗膜層が設けられている事を特徴とする塗装性
    能、耐食性能にすぐれた電気抵抗シーム溶接缶。
JP22517984A 1984-10-26 1984-10-26 塗装性能、耐食性能にすぐれた電気抵抗シ−ム溶接缶 Pending JPS61104087A (ja)

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