JPS6110551A - プロスタグランジン類の製造方法 - Google Patents
プロスタグランジン類の製造方法Info
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- JPS6110551A JPS6110551A JP59129993A JP12999384A JPS6110551A JP S6110551 A JPS6110551 A JP S6110551A JP 59129993 A JP59129993 A JP 59129993A JP 12999384 A JP12999384 A JP 12999384A JP S6110551 A JPS6110551 A JP S6110551A
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- JP
- Japan
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- group
- protecting
- formula
- trimethylsilyl
- prostaglandin
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はグロスタグランジン類の新規な製造方法に関す
るものであシ、特に特定の保護基で保護されたヒドロキ
シ基を有するプロスタグランジン類の製造方法に関する
ものである。
るものであシ、特に特定の保護基で保護されたヒドロキ
シ基を有するプロスタグランジン類の製造方法に関する
ものである。
７−フルオロブロスタゲランジンエ２ 類（別名 ７
−フルオロプロフタサイクリン類）は公知であり、たと
えば特開昭５７−９９５８０号公報、特開昭５７−１６
５３８２号公報、特開昭５７−１７１９８８号公報、特
開昭５８−１５０５８３号公報などに記載されている。
−フルオロプロフタサイクリン類）は公知であり、たと
えば特開昭５７−９９５８０号公報、特開昭５７−１６
５３８２号公報、特開昭５７−１７１９８８号公報、特
開昭５８−１５０５８３号公報などに記載されている。
天然のプロスタグランジンｘ鵞 類（以下合成物を含
めてＰＧＩ、 という）は化学的に不安定で中性また
は弱酸性の条件下では取シ扱うことが困難であるが、こ
の７−フルオロブロスタゲランジンエ２ 類（以下７−
Ｆ ＰＧＩ２ という）は上記条件下でも極めて安定
であシ、また薬理作用の選択性向上の面でも有用である
と考えられている。
めてＰＧＩ、 という）は化学的に不安定で中性また
は弱酸性の条件下では取シ扱うことが困難であるが、こ
の７−フルオロブロスタゲランジンエ２ 類（以下７−
Ｆ ＰＧＩ２ という）は上記条件下でも極めて安定
であシ、また薬理作用の選択性向上の面でも有用である
と考えられている。
この７−ＦＰＧＩ２は７−ヒドロキシＰＧＩ鵞ヲフッ素
化する方法、その他の上記公報記載の方法で製造される
。しかしながら、これら公知の方法は選択性や収率が低
いこと、反応工程が複雑すぎることなど種々の問題点が
あり、これらの問題の解決が望まれていた。
化する方法、その他の上記公報記載の方法で製造される
。しかしながら、これら公知の方法は選択性や収率が低
いこと、反応工程が複雑すぎることなど種々の問題点が
あり、これらの問題の解決が望まれていた。
本発明者は以前７−ＦＰＧＩ、の製造方法として下記式
〔■〕で表わされる５、６−ジヒドロ−ツーフルオロ−
ＰＧＦｚａ 類を基本的に公知である環化反応を経て７
−７ＰＧ工２に変換する方法を見い出し特許出願を行っ
た（特願昭５８−２１９９５号参照）。以下、下記式［
１１１３で表わされる化合物を７− ＦＰＧＩＦという
。
〔■〕で表わされる５、６−ジヒドロ−ツーフルオロ−
ＰＧＦｚａ 類を基本的に公知である環化反応を経て７
−７ＰＧ工２に変換する方法を見い出し特許出願を行っ
た（特願昭５８−２１９９５号参照）。以下、下記式［
１１１３で表わされる化合物を７− ＦＰＧＩＦという
。
７− ＦＰＧＦは対応する７−ヒドロキシ化合物あるい
は７−ドリメチルシリロキシ化合物のヒドロキシ基ある
いはトリメチルシロキシ基をフッ素原子で置換して製造
される（特願昭５８−２１９９５号および特願昭５８−
１０２８８号参照）。このフッ素化反応においては１１
位および１５位のヒドロキシ基は勿論９位のヒドロキシ
基も保護されている必要があシ、しかもそれらの保護基
はトリメチルシリル基以外の保護基であることが好まし
い。もしこれら保護基がトリメチルシリル基であるとフ
ッ素化を受ける可能性があるからである。従って、７−
ＦＰＧＦの前駆体は下記式〔ＩＩ〕で表わされる化合
物が使用されることが好ましく、以下この式〔ＩＩ〕で
表モされる化合物を７− ＸＰＧＦという。
は７−ドリメチルシリロキシ化合物のヒドロキシ基ある
いはトリメチルシロキシ基をフッ素原子で置換して製造
される（特願昭５８−２１９９５号および特願昭５８−
１０２８８号参照）。このフッ素化反応においては１１
位および１５位のヒドロキシ基は勿論９位のヒドロキシ
基も保護されている必要があシ、しかもそれらの保護基
はトリメチルシリル基以外の保護基であることが好まし
い。もしこれら保護基がトリメチルシリル基であるとフ
ッ素化を受ける可能性があるからである。従って、７−
ＦＰＧＦの前駆体は下記式〔ＩＩ〕で表わされる化合
物が使用されることが好ましく、以下この式〔ＩＩ〕で
表モされる化合物を７− ＸＰＧＦという。
０只４
なお、７−ヒドロキシ化合物は上記７− Ｘ１２ＯＦの
トリメチルシリル基を脱保護して得られる。
トリメチルシリル基を脱保護して得られる。
上記７− ＸＰＧＦは前記出願の発明では上記式［１１
１においてＸが水素原子でかつＲ５が水素原子であるジ
オールを出発原料としまず７位のヒドロキシ基をトリメ
チルシリル基で保護し、次いで９位のヒドロキシ基をト
リメチルシリル基以外の保護基（特にトリエチルシリル
基）で保護して製造されてい友。逆に９位のヒドロキシ
基をまず保護することは両ヒドロキシ基の反応性の相違
によシ極めて困難である。上記ジオールの７位のヒドロ
キシ基のみを選択的にトリノチルシリル基で保護するこ
とは両ヒドロキシ基の微妙な反応性の相違を利用するた
め反応条件等の制約が大きく、かつ収率も充分に高くな
いことが問題であった。
１においてＸが水素原子でかつＲ５が水素原子であるジ
オールを出発原料としまず７位のヒドロキシ基をトリメ
チルシリル基で保護し、次いで９位のヒドロキシ基をト
リメチルシリル基以外の保護基（特にトリエチルシリル
基）で保護して製造されてい友。逆に９位のヒドロキシ
基をまず保護することは両ヒドロキシ基の反応性の相違
によシ極めて困難である。上記ジオールの７位のヒドロ
キシ基のみを選択的にトリノチルシリル基で保護するこ
とは両ヒドロキシ基の微妙な反応性の相違を利用するた
め反応条件等の制約が大きく、かつ収率も充分に高くな
いことが問題であった。
本発明者は上記問題点を解決すべく鋭意研究検討した結
果、新たな７− ＸＰＧＦの製造方法を見い出すに至っ
た。本発明は下記式［１１で表わされるプロスタグラン
ジン類（以下７−０ＨＰＧＢという）の７位のとドロキ
シ基をトリメチルシリル基で保護した後９位のカルボニ
ル基の酸素原子をヒドロキシ基に変換し、次いで該ヒド
ロキシ基をトリメチルシリル基以外の保護基で保護する
ことを特徴とする前記式［１１で表わされるプロスタグ
ランシフ類の製造方法である。
果、新たな７− ＸＰＧＦの製造方法を見い出すに至っ
た。本発明は下記式［１１で表わされるプロスタグラン
ジン類（以下７−０ＨＰＧＢという）の７位のとドロキ
シ基をトリメチルシリル基で保護した後９位のカルボニ
ル基の酸素原子をヒドロキシ基に変換し、次いで該ヒド
ロキシ基をトリメチルシリル基以外の保護基で保護する
ことを特徴とする前記式［１１で表わされるプロスタグ
ランシフ類の製造方法である。
ＯＲ’
上記式［１１〜［１１１〕などの構造式において、先細
の線（−）はβ配向（分子の面の上方）にある置換基を
表わし、点線（Ｒ１１）はα配向（分子の面の下方）に
ある置換基を表わし、波線（−１はαあるいはβ配向ま
たはこれらの異性体の混合物である置換基を示す。また
、これらは光学異性体、ラセミ体、その他の型の化合物
を含むものである。
の線（−）はβ配向（分子の面の上方）にある置換基を
表わし、点線（Ｒ１１）はα配向（分子の面の下方）に
ある置換基を表わし、波線（−１はαあるいはβ配向ま
たはこれらの異性体の混合物である置換基を示す。また
、これらは光学異性体、ラセミ体、その他の型の化合物
を含むものである。
上記式〔Ｉ〕で表わされる７ −ＯＨＰＧＩ 、および
上記式〔鳳〕で表わされる７ −ＸＰＧＦ において、
Ｒ１は炭素数４以下のアルキル基、特にメチル基あるい
社エチル基が好ましい。Ｒ２は直鎖状アルキル基または
環状アルキル基（即ちシクロアルキル基）が好１しく、
特にｎ−アミル基またはシクロペンチル基が好ましい。
上記式〔鳳〕で表わされる７ −ＸＰＧＦ において、
Ｒ１は炭素数４以下のアルキル基、特にメチル基あるい
社エチル基が好ましい。Ｒ２は直鎖状アルキル基または
環状アルキル基（即ちシクロアルキル基）が好１しく、
特にｎ−アミル基またはシクロペンチル基が好ましい。
Ｒ３とＲ’ Ｆ！トリメチルシリル基以外のトリアルキ
ルシリル基（３個のアルキル基は同一でちっても異って
いてもよい）、アルカノイル基、テトラヒドロピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、ベンゾイル基、メトキシ
エトキシエチル基などが適当であり、特に炭素数３以上
のアルキル基を少くとも１個有するトリアルキルシリル
基が好ましく、ジメチル−１−ブチルシリル基が最も好
ｔしい。７− ＸＰＧＦにおけるＲ５ は上記Ｒ３と
Ｒ４と同様の保護基であってもよいがＲ３およびＲ４よ
りも脱保護し易い保護基が好ましい。なぜなら、７−
ＦＰＧＦより７− ＦＰＧ工２に変換する場合、少くと
も対応する７ −ＦＰＧＦの９−ヒドロキシ基の保護基
は脱保護される必要があり、対応するＲ３とＲ４は必ず
しも脱保護される必要はなくまた脱保護さねていない方
が収率の面で好ましいことが少くないからである。従っ
て Ｒ３およびＲ４が炭素数３以上のアルキル基を少く
とも１個有するトリアルキルシリル基の場合、特にそれ
らがジメチル−ｔ−ブチルシリル基の場合 Ｒ５はトリ
エチルシリル基が好ましい。
ルシリル基（３個のアルキル基は同一でちっても異って
いてもよい）、アルカノイル基、テトラヒドロピラニル
基、テトラヒドロフラニル基、ベンゾイル基、メトキシ
エトキシエチル基などが適当であり、特に炭素数３以上
のアルキル基を少くとも１個有するトリアルキルシリル
基が好ましく、ジメチル−１−ブチルシリル基が最も好
ｔしい。７− ＸＰＧＦにおけるＲ５ は上記Ｒ３と
Ｒ４と同様の保護基であってもよいがＲ３およびＲ４よ
りも脱保護し易い保護基が好ましい。なぜなら、７−
ＦＰＧＦより７− ＦＰＧ工２に変換する場合、少くと
も対応する７ −ＦＰＧＦの９−ヒドロキシ基の保護基
は脱保護される必要があり、対応するＲ３とＲ４は必ず
しも脱保護される必要はなくまた脱保護さねていない方
が収率の面で好ましいことが少くないからである。従っ
て Ｒ３およびＲ４が炭素数３以上のアルキル基を少く
とも１個有するトリアルキルシリル基の場合、特にそれ
らがジメチル−ｔ−ブチルシリル基の場合 Ｒ５はトリ
エチルシリル基が好ましい。
７− ＯＨＰＧＭの７位のヒドロキシ基をトリメチルシ
リル基で保護する方法はヒドロキシ基をトリメチルシリ
ル基で保護するための通常の方法で行いうる。たとえば
、溶剤中でピペリジンなどの塩基の存在下でトリメチル
シリルクロライドを反応させることによって行うことが
できる。この反応はほぼ定量的に起る。９位のカルボニ
ル基の酸素原子をヒドロキシ基に変換する方法も通常の
還元反応で行いうる。たとえば、還元剤として水素化ホ
ウ素ナトリウム、水素化リチウムトリアルキルホウ素、
水素化カリウムトリアルキルホウ素、ジイソブチルアル
ミニウムハイドライドを使用し、炭化水素やアルコール
などの溶媒中で還元反応が行なわれる。この還元反応も
ほぼ定量的に進行し、高い収率で生成物を得ることがで
きる。次いで生成物の９位のヒドロキシ基がトリメチル
シリル基以外の保護基で保護される。この保護方法も公
知の方法で行うことができ、その反応もほぼ定量的に進
行する。た七えば、トリエチルシリル基で保護する場合
、溶剤中でピペリジンなどの塩基の存在下トリエチルシ
リルクロライドを反応させることによって行なわれる。
リル基で保護する方法はヒドロキシ基をトリメチルシリ
ル基で保護するための通常の方法で行いうる。たとえば
、溶剤中でピペリジンなどの塩基の存在下でトリメチル
シリルクロライドを反応させることによって行うことが
できる。この反応はほぼ定量的に起る。９位のカルボニ
ル基の酸素原子をヒドロキシ基に変換する方法も通常の
還元反応で行いうる。たとえば、還元剤として水素化ホ
ウ素ナトリウム、水素化リチウムトリアルキルホウ素、
水素化カリウムトリアルキルホウ素、ジイソブチルアル
ミニウムハイドライドを使用し、炭化水素やアルコール
などの溶媒中で還元反応が行なわれる。この還元反応も
ほぼ定量的に進行し、高い収率で生成物を得ることがで
きる。次いで生成物の９位のヒドロキシ基がトリメチル
シリル基以外の保護基で保護される。この保護方法も公
知の方法で行うことができ、その反応もほぼ定量的に進
行する。た七えば、トリエチルシリル基で保護する場合
、溶剤中でピペリジンなどの塩基の存在下トリエチルシ
リルクロライドを反応させることによって行なわれる。
上記のように、本発明における３段階の反応はすべてほ
ぼ定量的に進行し、従って出発物質（７−ＯＨＰＧＥ）
から最終生成物（７−ＸＰＧＦ）壕でのトータルの収率
は極めて高い。これに対し、前記本発明者らの前発明に
記載したジオールを出発物質とする方法は９位のとドロ
キシ基を保護することなく７位のヒドロキシ基のみをト
リメチルシリル基て保護すゐ反応の収率は低く、特にＲ
２が環状アルキル基の場合に充分な収率を達放し５難い
。本発明の方法はＲ２の種類にかかわらず極めて高い収
率を達成しうるものである。
ぼ定量的に進行し、従って出発物質（７−ＯＨＰＧＥ）
から最終生成物（７−ＸＰＧＦ）壕でのトータルの収率
は極めて高い。これに対し、前記本発明者らの前発明に
記載したジオールを出発物質とする方法は９位のとドロ
キシ基を保護することなく７位のヒドロキシ基のみをト
リメチルシリル基て保護すゐ反応の収率は低く、特にＲ
２が環状アルキル基の場合に充分な収率を達放し５難い
。本発明の方法はＲ２の種類にかかわらず極めて高い収
率を達成しうるものである。
本発明により得られ＊ ７− ＸＦＧＦはそのまま、ま
たは７位のトリメチルシリル基を脱保護した後、フッ素
化剤でフッ素化し、前記式［１１１１で表わされる７
−ＦＰＧ’Ｆに変換される。７− ＸＰＧＦの７位のト
リメチルシリル基の脱保護の収率はあまり高くないこと
（通常的６０〜８０％）、得られる７−ヒドロキシ化合
物のフッ素化による７ −ＦＰＧＦの収率が７− ＸＰ
ＧＦの直接フッ素化に比較して低いことなどの理由によ
り、７−ＸＰＧＦは脱保護を経ることなく直接フッ素化
されることが好ましい。フッ素化剤としてはピペリジノ
サルファートリフルオライドやジエチルアミノサルファ
ートリフルオライドなどのアミノサルファートリフルオ
ライド系のフッ素化剤が好ましいがこれに限られるもの
ではない。得られた７ −Ｉ’ＰＧ？は前記のように７
−ＦＰＧＰ２Ｏ３発原料として使用されることが好まし
いが、用途はこれに限られるものではなく、たとえば他
のフッ素含有プロスタグランジン類の原料として使用し
うるものである。７− ＦＰＧＦの環化反応による７−
’ＰＰＧＩｌｔの製造については、基本的に公知でおる
翫６−ゾヒドローＰＧＦ加類の環化によるｐａ工２の製
造方法を適用しうる。この環化反応については、たとえ
ば、” Ｊ、 Ａｍθｒ。
たは７位のトリメチルシリル基を脱保護した後、フッ素
化剤でフッ素化し、前記式［１１１１で表わされる７
−ＦＰＧ’Ｆに変換される。７− ＸＰＧＦの７位のト
リメチルシリル基の脱保護の収率はあまり高くないこと
（通常的６０〜８０％）、得られる７−ヒドロキシ化合
物のフッ素化による７ −ＦＰＧＦの収率が７− ＸＰ
ＧＦの直接フッ素化に比較して低いことなどの理由によ
り、７−ＸＰＧＦは脱保護を経ることなく直接フッ素化
されることが好ましい。フッ素化剤としてはピペリジノ
サルファートリフルオライドやジエチルアミノサルファ
ートリフルオライドなどのアミノサルファートリフルオ
ライド系のフッ素化剤が好ましいがこれに限られるもの
ではない。得られた７ −Ｉ’ＰＧ？は前記のように７
−ＦＰＧＰ２Ｏ３発原料として使用されることが好まし
いが、用途はこれに限られるものではなく、たとえば他
のフッ素含有プロスタグランジン類の原料として使用し
うるものである。７− ＦＰＧＦの環化反応による７−
’ＰＰＧＩｌｔの製造については、基本的に公知でおる
翫６−ゾヒドローＰＧＦ加類の環化によるｐａ工２の製
造方法を適用しうる。この環化反応については、たとえ
ば、” Ｊ、 Ａｍθｒ。
Ｏｈｅｍ、 Ｓｏｃ、 −５１０４巻、５８４２頁〜５
８４４（１９８２）、および−Ｔｅｔｒａｂｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔｅｒｓ −２４巻、１１８３頁〜１１８７頁
（１９８３）に記載されている。
８４４（１９８２）、および−Ｔｅｔｒａｂｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔｅｒｓ −２４巻、１１８３頁〜１１８７頁
（１９８３）に記載されている。
以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
なお、１５−シクロペンチルーＰＧＦ ２ ａ類とは前
記Ｒ５がシクロペンチル基のみからなっている化合物（
即ち、１６，１７．１Ｂ、１９．２０−ペンタノルー１
５−シクロペンチルＰＧＦ２（Ｅ ＷＡ’）をいう。
記Ｒ５がシクロペンチル基のみからなっている化合物（
即ち、１６，１７．１Ｂ、１９．２０−ペンタノルー１
５−シクロペンチルＰＧＦ２（Ｅ ＷＡ’）をいう。
実施例１
５．６− ｆヒドロ−７−ヒドロキシープロスタグラン
ジンＥ２ メチルエステル１１．１５−ビス（ジメチ
ル−ｔ −ブチル）シリルエーテルＣ式〔目において
Ｒ１がメチル基、Ｒ２がｎ−アミル基、Ｒ３およびＲ４
がジメチル−１−ブチルシリル基である化合物］ ７０
５．３■（１，１６ｍモル）を８−の塩化メチレンに溶
解し、０℃に冷却した後ピリジン９３８μｔ （１１，
３ｍモル）を加え、次いでトリメチルシリルクロリド２
９４μｆ（２，３２ｍモル）を滴下し、室温で２時間攪
拌した。常法によシ後処理をして８０６岬の未精製の５
６−ジヒドロ−ツートリメチルシロキシ−プロスタグラ
ンジンＥ２ メチルエステル１１．１５−ビス（ジメ
チル−１−ブチル）シリルエーテルを得た。
ジンＥ２ メチルエステル１１．１５−ビス（ジメチ
ル−ｔ −ブチル）シリルエーテルＣ式〔目において
Ｒ１がメチル基、Ｒ２がｎ−アミル基、Ｒ３およびＲ４
がジメチル−１−ブチルシリル基である化合物］ ７０
５．３■（１，１６ｍモル）を８−の塩化メチレンに溶
解し、０℃に冷却した後ピリジン９３８μｔ （１１，
３ｍモル）を加え、次いでトリメチルシリルクロリド２
９４μｆ（２，３２ｍモル）を滴下し、室温で２時間攪
拌した。常法によシ後処理をして８０６岬の未精製の５
６−ジヒドロ−ツートリメチルシロキシ−プロスタグラ
ンジンＥ２ メチルエステル１１．１５−ビス（ジメ
チル−１−ブチル）シリルエーテルを得た。
上記生成物を全量１１−のメタノールに溶解し、−３０
℃において水素化ホウ素ナトリウム１３２■（五４Ｂｍ
モル）のメタノール溶液（１４ｍｌ ）を加え、１０分
間攪拌した。反応液に５−の飽和塩化アンモニウム溶液
を加えて室温に戻し、メタノールを減圧除去した。残渣
に３０−の飽和食塩水を加えて３０−のエーテルで３回
抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧除去し、８０８ ｍ
９の未精製の５，６−ジヒドロ−７−ト’Ｊメチルシロ
キシープロスタクランジンＦ２ａメチルエステル１１．
１５−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリルエーテルを
得た。
℃において水素化ホウ素ナトリウム１３２■（五４Ｂｍ
モル）のメタノール溶液（１４ｍｌ ）を加え、１０分
間攪拌した。反応液に５−の飽和塩化アンモニウム溶液
を加えて室温に戻し、メタノールを減圧除去した。残渣
に３０−の飽和食塩水を加えて３０−のエーテルで３回
抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧除去し、８０８ ｍ
９の未精製の５，６−ジヒドロ−７−ト’Ｊメチルシロ
キシープロスタクランジンＦ２ａメチルエステル１１．
１５−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリルエーテルを
得た。
上記生成物の全量を８−のピリジンに溶解し、−１０℃
でトリエチルクロリド３９８μｔ（２，３２ｍモル）を
滴下し、室温で２時間攪拌した。常法により後処理を行
い、得られた残渣を０℃でフロリジルカラムクロマトグ
ラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝８０／１）により精
製し、７８４１〜（０，９８ｍモル、収率８４７％）の
５．６−ゾヒドロー７−トリメチルシロキシープロスク
グランジ７Ｆ２ａメチルエステル１１．１５−ヒス（ジ
メチル−１−ブチル）シリル−９−トリエチルシリルエ
ーテル〔式〔■］において、Ｒ１がメチル基、Ｒ２がｎ
−アミル基、Ｒ３およびＲ４がジメチル−ｔ−ブチルシ
リル基、Ｉ′ｔｉｔがトリエチルシリル基である化合物
〕を得た。
でトリエチルクロリド３９８μｔ（２，３２ｍモル）を
滴下し、室温で２時間攪拌した。常法により後処理を行
い、得られた残渣を０℃でフロリジルカラムクロマトグ
ラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝８０／１）により精
製し、７８４１〜（０，９８ｍモル、収率８４７％）の
５．６−ゾヒドロー７−トリメチルシロキシープロスク
グランジ７Ｆ２ａメチルエステル１１．１５−ヒス（ジ
メチル−１−ブチル）シリル−９−トリエチルシリルエ
ーテル〔式〔■］において、Ｒ１がメチル基、Ｒ２がｎ
−アミル基、Ｒ３およびＲ４がジメチル−ｔ−ブチルシ
リル基、Ｉ′ｔｉｔがトリエチルシリル基である化合物
〕を得た。
実施例２
５．６−ジヒドロ−７−ヒドロキシ−１５−シクロペン
チル−プロスタグランジンＥ２メチルエステル１１．１
５−ビス（ジメチル−ｔ −７’チル）シリルエーテル
〔式［１，１］において、Ｒ１がメチル基、Ｒ２がシク
ロペンチル基、Ｒ３およびＲ４がジメチル−ｔ−ブチル
シリル基である化合物］ ８７７．３ ｗｑ （１，４
５ｍモル）の塩化メチレン溶液（１０＠ｇ’ｌに０℃で
１．１７ ｄ。
チル−プロスタグランジンＥ２メチルエステル１１．１
５−ビス（ジメチル−ｔ −７’チル）シリルエーテル
〔式［１，１］において、Ｒ１がメチル基、Ｒ２がシク
ロペンチル基、Ｒ３およびＲ４がジメチル−ｔ−ブチル
シリル基である化合物］ ８７７．３ ｗｑ （１，４
５ｍモル）の塩化メチレン溶液（１０＠ｇ’ｌに０℃で
１．１７ ｄ。
（１４，５ｍモル）のピリジンを加え、次いでトリメチ
ルシリルクロリド３６８μｔ（２，９０ｍモル）を滴下
し、室温で２時間攪拌した。常法により後処理を行い、
９２９．９ ｘｑの未精製の５゜６−ゾヒドロー７−ト
リメチルシロキ７−１５−シクロベンチループロスフグ
ランジンＥ２ メチルエステル１１．１５−ビス（ジ
メチル−を−ブチル）シリルエーテルヲ得り。
ルシリルクロリド３６８μｔ（２，９０ｍモル）を滴下
し、室温で２時間攪拌した。常法により後処理を行い、
９２９．９ ｘｑの未精製の５゜６−ゾヒドロー７−ト
リメチルシロキ７−１５−シクロベンチループロスフグ
ランジンＥ２ メチルエステル１１．１５−ビス（ジ
メチル−を−ブチル）シリルエーテルヲ得り。
上記生成物の全量を未精製のまま１４−のメタノールに
溶解し、−３０℃において水素化ホウ素ナトリウム１０
９．７ Ｍｇ （２，９０ｍモル）のメタノール溶液（
１２ｄ）を加え、１０分間攪拌した。反応液に飽和塩化
アンモニウム溶液（５ｍｅ ）を加え、徐々に室温に戻
した後、室温でメタノールを減圧除去し、た。残渣に飽
和食塩水（５０ｍｅ ’）を加え、５０−のエーテルで
３回抽出し、召ｊられた有機層を飽、和食塩水で洗浄し
、無水石１「、酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
除去して８９５．９ ｒａｙの未精製Ｃ） ５． ｂ−
デヒドロ−７−トＩＪメチルシロキシー１５−シクロペ
ンチル−プロスタグランジンＦ２ケメチルエステル１１
．１５−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリルエーテル
を得た。
溶解し、−３０℃において水素化ホウ素ナトリウム１０
９．７ Ｍｇ （２，９０ｍモル）のメタノール溶液（
１２ｄ）を加え、１０分間攪拌した。反応液に飽和塩化
アンモニウム溶液（５ｍｅ ）を加え、徐々に室温に戻
した後、室温でメタノールを減圧除去し、た。残渣に飽
和食塩水（５０ｍｅ ’）を加え、５０−のエーテルで
３回抽出し、召ｊられた有機層を飽、和食塩水で洗浄し
、無水石１「、酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
除去して８９５．９ ｒａｙの未精製Ｃ） ５． ｂ−
デヒドロ−７−トＩＪメチルシロキシー１５−シクロペ
ンチル−プロスタグランジンＦ２ケメチルエステル１１
．１５−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリルエーテル
を得た。
上記生成物の全量を１０−のピリジンに溶解し、−１０
℃でトリエチルシリルタロリド４８７１！ノｔ（２，９
［］ＬＩビル）を滴下し、室温で２時間投拌した。常法
により後処理し１、得られた残渣を０℃でフロリジルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル−１０
０／１）［よシ精製し、８７２υ９ （１，１０ｍモル
、収率７５８％）の５．６− テヒドロ−７−トリメチ
ルシロキシ−１５−シクロペンチル−プロスタグランジ
ンＦ２ａメチルエステル１１．１５−ビス（ジメチル−
ｔ−ブチル）シリル−９−ト！Ｊエチルシリルエーテル
〔式Ｃｌｌ〕においてＲ１がメチル基、Ｒ２カシクロペ
ンチル基、Ｒ３およびＲ４がジメチル−ｔ−ブチルシリ
ル基、Ｒ５がトリエチルシリル基である化合物〕を得た
。
℃でトリエチルシリルタロリド４８７１！ノｔ（２，９
［］ＬＩビル）を滴下し、室温で２時間投拌した。常法
により後処理し１、得られた残渣を０℃でフロリジルカ
ラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル−１０
０／１）［よシ精製し、８７２υ９ （１，１０ｍモル
、収率７５８％）の５．６− テヒドロ−７−トリメチ
ルシロキシ−１５−シクロペンチル−プロスタグランジ
ンＦ２ａメチルエステル１１．１５−ビス（ジメチル−
ｔ−ブチル）シリル−９−ト！Ｊエチルシリルエーテル
〔式Ｃｌｌ〕においてＲ１がメチル基、Ｒ２カシクロペ
ンチル基、Ｒ３およびＲ４がジメチル−ｔ−ブチルシリ
ル基、Ｒ５がトリエチルシリル基である化合物〕を得た
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、下記式〔 I 〕で表わされるプロスタグランジン類
の７位のヒドロキシ基をトリメチルシリル基で保護した
後９位のカルボニル基の酸素原子をヒドロキシ基に変換
し、次いで該ヒドロキシ基をトリメチルシリル基以外の
保護基で保護することを特徴とする下記式〔II〕で表わ
されるプロスタグランジン類の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 式〔 I 〕中、Ｒ＾１は炭素数１〜１０のアルキル基、 Ｒ＾２は直鎖状、分岐状、ある いは環状の炭素数３〜７ のアルキル基、 Ｒ＾３、Ｒ＾４は同一あるいは異る トリメチルシリル基以外 の保護基。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔II〕 式〔II〕中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４は上記式
〔 I 〕に同じ、 Ｒ＾５はトリメチルシリル基以 外の保護基。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59129993A JPS6110551A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | プロスタグランジン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59129993A JPS6110551A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | プロスタグランジン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6110551A true JPS6110551A (ja) | 1986-01-18 |
| JPH046718B2 JPH046718B2 (ja) | 1992-02-06 |
Family
ID=15023497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59129993A Granted JPS6110551A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | プロスタグランジン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6110551A (ja) |
-
1984
- 1984-06-26 JP JP59129993A patent/JPS6110551A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH046718B2 (ja) | 1992-02-06 |
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