JPH046718B2 - - Google Patents
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- JPH046718B2 JPH046718B2 JP59129993A JP12999384A JPH046718B2 JP H046718 B2 JPH046718 B2 JP H046718B2 JP 59129993 A JP59129993 A JP 59129993A JP 12999384 A JP12999384 A JP 12999384A JP H046718 B2 JPH046718 B2 JP H046718B2
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- JP
- Japan
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- group
- protecting
- trimethylsilyl
- formula
- carbon atoms
- Prior art date
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプロスタグランジン類の新規な製造方
法に関するものであり、特に特定の保護基で保護
されたヒドロキシ基を有するプロスタグランジン
類の製造方法に関するものである。
法に関するものであり、特に特定の保護基で保護
されたヒドロキシ基を有するプロスタグランジン
類の製造方法に関するものである。
７−フルオロプロスタグランジンI2類（別名
７−フルオロプロクタサイクリン類）は公知であ
り、たとえば特開昭57−99580号公報、特開昭57
−165382号公報、特開昭57−171988号公報、特開
昭58−150583号公報などに記載されている。天然
のプロスタグランジンI2類（以下合成物を含めて
PGI2という）は化学的に不安定で中性または弱
酸性の条件下では取り扱うことが困難であるが、
この７−フルオロプロスタグランジンI2類（以下
７−Ｆ PGI2という）は上記条件下でも極めて
安定であり、また薬理作用の選択性向上の面でも
有用であると考えられている。この７−FPGI2は
７−ヒドロキシPGI2をフツ素化する方法、その
他の上記公報記載の方法で製造される。しかしな
がら、これら公知の方法は選択性や収率が低いこ
と、反応工程が複雑すぎることなど種々の問題点
があり、これらの問題の解決が望まれていた。
７−フルオロプロクタサイクリン類）は公知であ
り、たとえば特開昭57−99580号公報、特開昭57
−165382号公報、特開昭57−171988号公報、特開
昭58−150583号公報などに記載されている。天然
のプロスタグランジンI2類（以下合成物を含めて
PGI2という）は化学的に不安定で中性または弱
酸性の条件下では取り扱うことが困難であるが、
この７−フルオロプロスタグランジンI2類（以下
７−Ｆ PGI2という）は上記条件下でも極めて
安定であり、また薬理作用の選択性向上の面でも
有用であると考えられている。この７−FPGI2は
７−ヒドロキシPGI2をフツ素化する方法、その
他の上記公報記載の方法で製造される。しかしな
がら、これら公知の方法は選択性や収率が低いこ
と、反応工程が複雑すぎることなど種々の問題点
があり、これらの問題の解決が望まれていた。
本発明者は以前７−FPGI2の製造方法として下
記式〔〕で表わされる５，６−デヒドロ−７−
フルオロ−PGF2a類を基本的に公知である環化反
応を経て７−FPGI2に変換する方法を見い出し特
許出願を行つた（特願昭58−21995号参照）。以
下、下記式〔〕で表わされる化合物を７−
FPGFという。
記式〔〕で表わされる５，６−デヒドロ−７−
フルオロ−PGF2a類を基本的に公知である環化反
応を経て７−FPGI2に変換する方法を見い出し特
許出願を行つた（特願昭58−21995号参照）。以
下、下記式〔〕で表わされる化合物を７−
FPGFという。
〔式〔〕中
R1は炭素数１〜10のアルキル基。
R2は直鎖状、分岐状、あるいは環状の炭素数
３〜７のアルキル基。
３〜７のアルキル基。
R6，R7は同一あるいは異る保護基あるいは水
素原子。
素原子。
なお、炭素原子に付した１〜15の番号は炭素原
子の位置を表わす。〕 ７−FPGFは対応する７−ヒドロキシ化合物あ
るいは７−トリメチルシリロキシ化合物のヒドロ
キシ基あるいはトリメチルシロキシ基をフツ素原
子で置換して製造される（特願昭58−21995号お
よび特願昭58−10288号参照）。このフツ素化反応
においては11位および15位のヒドロキシ基は勿論
９位のヒドロキシ基も保護されている必要があ
り、しかもそれらの保護基はトリメチルシリル基
以外の保護基であることが好ましい。もしこれら
の保護基がトリメチルシリル基であるとフツ素化
を受ける可能性があるからである。従つて、７−
FPGFの前駆体は下記式〔〕で表わされる化合
物が使用されることが好ましく、以下この式
〔〕で表わされる化合物を７−XPGFという。
子の位置を表わす。〕 ７−FPGFは対応する７−ヒドロキシ化合物あ
るいは７−トリメチルシリロキシ化合物のヒドロ
キシ基あるいはトリメチルシロキシ基をフツ素原
子で置換して製造される（特願昭58−21995号お
よび特願昭58−10288号参照）。このフツ素化反応
においては11位および15位のヒドロキシ基は勿論
９位のヒドロキシ基も保護されている必要があ
り、しかもそれらの保護基はトリメチルシリル基
以外の保護基であることが好ましい。もしこれら
の保護基がトリメチルシリル基であるとフツ素化
を受ける可能性があるからである。従つて、７−
FPGFの前駆体は下記式〔〕で表わされる化合
物が使用されることが好ましく、以下この式
〔〕で表わされる化合物を７−XPGFという。
〔式〔〕中
R1は炭素数１〜10のアルキル基、R2は直鎖状、
分岐状、あるいは環状の炭素数３〜７のアルキル
基、 R3，R4，R5は同一あるいは異るトリメチルシ
リル基以外の保護基。〕 なお、７−ヒドロキシ化合物は上記７−XPGF
のトリメチルシリル基を脱保護して得られる。
分岐状、あるいは環状の炭素数３〜７のアルキル
基、 R3，R4，R5は同一あるいは異るトリメチルシ
リル基以外の保護基。〕 なお、７−ヒドロキシ化合物は上記７−XPGF
のトリメチルシリル基を脱保護して得られる。
上記７−XPGFは前記出願の発明では上記式
〔〕においてＸが水素原子でかつR5が水素原子
であるジオールを出発原料としまず７位のヒドロ
キシ基をトリメチルシリル基で保護し、次いで９
位のヒドロキシ基をトリメチルシリル基以外の保
護基（特にトリエチルシリル基）で保護して製造
されていた。逆に９位のヒドロキシ基をまず保護
することは両ヒドロキシ基の反応性の相違により
極めて困難である。上記ジオールの７位のヒドロ
キシ基のみを選択的にトリメチルシリル基で保護
することは両ヒドロキシ基の微妙な反応性の相違
を利用するため反応条件等の制約が大きく、かつ
収率も充分に高くないことが問題であつた。
〔〕においてＸが水素原子でかつR5が水素原子
であるジオールを出発原料としまず７位のヒドロ
キシ基をトリメチルシリル基で保護し、次いで９
位のヒドロキシ基をトリメチルシリル基以外の保
護基（特にトリエチルシリル基）で保護して製造
されていた。逆に９位のヒドロキシ基をまず保護
することは両ヒドロキシ基の反応性の相違により
極めて困難である。上記ジオールの７位のヒドロ
キシ基のみを選択的にトリメチルシリル基で保護
することは両ヒドロキシ基の微妙な反応性の相違
を利用するため反応条件等の制約が大きく、かつ
収率も充分に高くないことが問題であつた。
本発明者は上記問題点を解決すべく鋭意研究検
討した結果、新たな７−XPGFの製造方法を見い
出すに至つた。本発明は下記式〔〕で表わされ
るプロスタグランジン類（以下７−OHPGEとい
う）の７位のヒドロキシ基をトリメチルシリル基
で保護した後９位のカルボニル基の酸素原子をヒ
ドロキシ基に変換し、次いで該ヒドロキシ基をト
リメチルシリル基以外の保護基で保護することを
特徴とする前記式〔〕で表わされるプロスタグ
ランジン類の製造方法である。
討した結果、新たな７−XPGFの製造方法を見い
出すに至つた。本発明は下記式〔〕で表わされ
るプロスタグランジン類（以下７−OHPGEとい
う）の７位のヒドロキシ基をトリメチルシリル基
で保護した後９位のカルボニル基の酸素原子をヒ
ドロキシ基に変換し、次いで該ヒドロキシ基をト
リメチルシリル基以外の保護基で保護することを
特徴とする前記式〔〕で表わされるプロスタグ
ランジン類の製造方法である。
〔式〔〕中
R1は炭素数１〜10のアルキル基。
R2は直鎖状、分岐状あるいは環状の炭素数３
〜７のアルキル基。
〜７のアルキル基。
R3，R4は同一あるいは異るトリメチルシリル
基以外の保護基。〕 上記式〔〕〜〔〕などの構造式において、
先細の線（〓）はβ配向（分子の面の上方）にあ
る置換基を表わし、点線（…）はα配向（分子の
面の下方）にある置換基を表わし、波線（）は
αあるいはβ配向またはこれらの異性体の混合物
である置換基を示す。また、これらは光学異性
体、ラセミ体、その他の型の化合物を含むもので
ある。
基以外の保護基。〕 上記式〔〕〜〔〕などの構造式において、
先細の線（〓）はβ配向（分子の面の上方）にあ
る置換基を表わし、点線（…）はα配向（分子の
面の下方）にある置換基を表わし、波線（）は
αあるいはβ配向またはこれらの異性体の混合物
である置換基を示す。また、これらは光学異性
体、ラセミ体、その他の型の化合物を含むもので
ある。
上記式〔〕で表わされる７−OH PGE、お
よび上記式〔〕で表わされる７−XPGFにおい
て、R1は炭素数４以下のアルキル基、特にメチ
ル基あるいはエチル基が好ましい。R2は直鎖状
アルキル基または環状アルキル基（即ちシクロア
ルキル基）が好ましく、特にｎ−アミル基または
シクロペンチル基が好ましい。R3とR4はトリメ
チルシリル基以外のトリアルキルシリル基（３個
のアルキル基は同一であつても異つていてもよ
い）、アルカノイル基、テトラヒドロピラニル基、
テトラヒドロフラニル基、ベンゾイル基、メトキ
シエチル基などが適当であり、特に炭素数３以上
のアルキル基を少くとも１個有するトリアルキル
シリル基が好ましく、ジメチル−ｔ−ブチルシリ
ル基が最も好ましい。７−XPGFにおけるR5は
上記R3とR4と同様の保護基であつてもよいがR3
およびR4よりも脱保護し易い保護基が好ましい。
なぜなら、７−FPGFより７−FPGI2に変換する
場合、少くとも対応する７−FPGFの９−ヒドロ
キシ基の保護基は脱保護される必要があり、対応
するR3とR4は必ずしも脱保護される必要はなく
また脱保護されていない方が収率の面で好ましい
ことが少くないからである。従つて、R3および
R4が炭素数３以上のアルキル基を少くとも１個
有するトリアルキルシリル基の場合、特にそれら
がジメチル−ｔ−ブチルシリル基の場合、R5は
トリエチルシリル基が好ましい。
よび上記式〔〕で表わされる７−XPGFにおい
て、R1は炭素数４以下のアルキル基、特にメチ
ル基あるいはエチル基が好ましい。R2は直鎖状
アルキル基または環状アルキル基（即ちシクロア
ルキル基）が好ましく、特にｎ−アミル基または
シクロペンチル基が好ましい。R3とR4はトリメ
チルシリル基以外のトリアルキルシリル基（３個
のアルキル基は同一であつても異つていてもよ
い）、アルカノイル基、テトラヒドロピラニル基、
テトラヒドロフラニル基、ベンゾイル基、メトキ
シエチル基などが適当であり、特に炭素数３以上
のアルキル基を少くとも１個有するトリアルキル
シリル基が好ましく、ジメチル−ｔ−ブチルシリ
ル基が最も好ましい。７−XPGFにおけるR5は
上記R3とR4と同様の保護基であつてもよいがR3
およびR4よりも脱保護し易い保護基が好ましい。
なぜなら、７−FPGFより７−FPGI2に変換する
場合、少くとも対応する７−FPGFの９−ヒドロ
キシ基の保護基は脱保護される必要があり、対応
するR3とR4は必ずしも脱保護される必要はなく
また脱保護されていない方が収率の面で好ましい
ことが少くないからである。従つて、R3および
R4が炭素数３以上のアルキル基を少くとも１個
有するトリアルキルシリル基の場合、特にそれら
がジメチル−ｔ−ブチルシリル基の場合、R5は
トリエチルシリル基が好ましい。
７−OH PGEの７位のヒドロキシ基をトリメ
チルシリル基で保護する方法はヒドロキシ基をト
リメチルシリル基で保護するための通常の方法で
行いうる。たとえばば、溶剤中でピペリジンなど
の塩基の存在下でトリメチルシリルクロライドを
反応させることによつて行うことができる。この
反応はほぼ定量的に起る。９位のカルボニル基の
酸素原子をヒドロキシ基に変換する方法も通常の
還元反応で行いうる。たとえば、還元剤として水
素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムトリアル
キルホウ素、水素化カリウムトリアルキルホウ
素、ジイソブチルアルミニウムハイドライドを使
用し、炭化水素やアルコールなどの溶媒中で還元
反応が行なわれる。この還元反応もほぼ定量的に
進行し、高い収率で生成物を得ることができる。
次いで生成物の９位のヒドロキシ基がトリメチル
シリル基以外の保護基で保護される。この保護方
法も公知の方法で行うことができ、その反応もほ
ぼ定量的に進行する。たとえば、トリエチルシリ
ル基で保護する場合、溶媒中でピペリジンなどの
塩基の存在下トリエチルシリルクロライドを反応
させることによつて行なわれる。
チルシリル基で保護する方法はヒドロキシ基をト
リメチルシリル基で保護するための通常の方法で
行いうる。たとえばば、溶剤中でピペリジンなど
の塩基の存在下でトリメチルシリルクロライドを
反応させることによつて行うことができる。この
反応はほぼ定量的に起る。９位のカルボニル基の
酸素原子をヒドロキシ基に変換する方法も通常の
還元反応で行いうる。たとえば、還元剤として水
素化ホウ素ナトリウム、水素化リチウムトリアル
キルホウ素、水素化カリウムトリアルキルホウ
素、ジイソブチルアルミニウムハイドライドを使
用し、炭化水素やアルコールなどの溶媒中で還元
反応が行なわれる。この還元反応もほぼ定量的に
進行し、高い収率で生成物を得ることができる。
次いで生成物の９位のヒドロキシ基がトリメチル
シリル基以外の保護基で保護される。この保護方
法も公知の方法で行うことができ、その反応もほ
ぼ定量的に進行する。たとえば、トリエチルシリ
ル基で保護する場合、溶媒中でピペリジンなどの
塩基の存在下トリエチルシリルクロライドを反応
させることによつて行なわれる。
上記のように、発明における３段階の反応はす
べてほぼ定量的に進行し、従つて出発物質（７−
OH PGE）から最終生成物（７−XPGF）まで
のトータルの収率は極めて高い。これに対し、前
記本発明者らの前発明に記載したジオールを出発
物質とする方法は９位のヒドロキシ基を保護する
ことなく７位のヒドロキシ基のみをトリメチルシ
リル基で保護する反応の収率は低く、特にR2が
環状アルキル基の場合に充分な収率を達成し難
い。本発明の方法はR2の種類にかかわらず極め
て高い収率を達成しうるものである。
べてほぼ定量的に進行し、従つて出発物質（７−
OH PGE）から最終生成物（７−XPGF）まで
のトータルの収率は極めて高い。これに対し、前
記本発明者らの前発明に記載したジオールを出発
物質とする方法は９位のヒドロキシ基を保護する
ことなく７位のヒドロキシ基のみをトリメチルシ
リル基で保護する反応の収率は低く、特にR2が
環状アルキル基の場合に充分な収率を達成し難
い。本発明の方法はR2の種類にかかわらず極め
て高い収率を達成しうるものである。
本発明により得られた７−XPGFはそのまま、
または７位のトリメチルシリル基を脱保護した
後、フツ素化剤でフツ素化し、前記式〔〕で表
わされる７−FPGFに変換される。７−XPGFの
７位のトリメチルシリル基の脱保護の収率はあま
り高くないこと（通常約60〜80％）、得られる７
−ヒドロキシ化合物のフツ素化による７−FPGF
の収率が７−XPGFの直接フツ素化に比較して低
いことなどの理由により、７−XPGFは脱保護を
経ることなく直接フツ素化されることが好まし
い。フツ素化剤としてはピペリジノサルフアート
リフルオライドやジエチルアミノサルフアートリ
フルオライドなどのアミノサルフアートリフルオ
ライド系のフツ素化剤が好ましいがこれに限られ
るものではない。得られた７−FPGFは前記のよ
うに７−FPGGI2の出発原料として使用されるこ
とが好ましいが、用途はこれに限られるものでは
なく、たとえば他のフツ素含有プロスタグランジ
ン類の原料として使用しうるものである。７−
FPGFの環化反応による７−FPGI2の製造につい
ては、基本的に公知である５，６−デヒドロ−
PGF2〓類の環化によるPGI2の製造方法を適用し
うる。この環化反応については、たとえば、“J.
Amer.Chem.Soc.”、104巻、5842頁〜5844
（1982）、および“Tetrahedron Letters、”24巻、
1183頁〜1187頁（1983）に記載されている。
または７位のトリメチルシリル基を脱保護した
後、フツ素化剤でフツ素化し、前記式〔〕で表
わされる７−FPGFに変換される。７−XPGFの
７位のトリメチルシリル基の脱保護の収率はあま
り高くないこと（通常約60〜80％）、得られる７
−ヒドロキシ化合物のフツ素化による７−FPGF
の収率が７−XPGFの直接フツ素化に比較して低
いことなどの理由により、７−XPGFは脱保護を
経ることなく直接フツ素化されることが好まし
い。フツ素化剤としてはピペリジノサルフアート
リフルオライドやジエチルアミノサルフアートリ
フルオライドなどのアミノサルフアートリフルオ
ライド系のフツ素化剤が好ましいがこれに限られ
るものではない。得られた７−FPGFは前記のよ
うに７−FPGGI2の出発原料として使用されるこ
とが好ましいが、用途はこれに限られるものでは
なく、たとえば他のフツ素含有プロスタグランジ
ン類の原料として使用しうるものである。７−
FPGFの環化反応による７−FPGI2の製造につい
ては、基本的に公知である５，６−デヒドロ−
PGF2〓類の環化によるPGI2の製造方法を適用し
うる。この環化反応については、たとえば、“J.
Amer.Chem.Soc.”、104巻、5842頁〜5844
（1982）、および“Tetrahedron Letters、”24巻、
1183頁〜1187頁（1983）に記載されている。
以下に本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
が、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
なお、15−シクロペンチル−PGF2〓類とは前記
R5がシクロペンチル基のみからなつている化合
物（即ち、16，17，18，19，20−ペンタノル−15
−シクロペンチルPGF2〓類）をいう。
R5がシクロペンチル基のみからなつている化合
物（即ち、16，17，18，19，20−ペンタノル−15
−シクロペンチルPGF2〓類）をいう。
実施例 １
５，６−デヒドロ−７−ヒドロキシ−プロスタ
グランジンE2メチルエステル11，15−ビス（ジ
メチル−ｔ−ブチル）シリルエーテル〔式〔〕
において、R1がメチル基、R2がｎ−アミノ基、
R3およびR4がジメチル−ｔ−ブチルシリル基で
ある化合物〕705.3mg（1.16mモル）を８mlの塩化
メチレンに溶解し、０℃に冷却した後ピリジン
938μl（11.6mモル）を加え、次いでトリメチルシ
リルクロリド294μg（2.32mモル）滴下し、室温で
２時間撹拌した。常法により後処理をして806mg
の未精製の5.6−デヒドロ−７−トリメチルシロ
キシ−プロスタグランジンE2メチルエステル11，
15−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリルエーテ
ルを得た。
グランジンE2メチルエステル11，15−ビス（ジ
メチル−ｔ−ブチル）シリルエーテル〔式〔〕
において、R1がメチル基、R2がｎ−アミノ基、
R3およびR4がジメチル−ｔ−ブチルシリル基で
ある化合物〕705.3mg（1.16mモル）を８mlの塩化
メチレンに溶解し、０℃に冷却した後ピリジン
938μl（11.6mモル）を加え、次いでトリメチルシ
リルクロリド294μg（2.32mモル）滴下し、室温で
２時間撹拌した。常法により後処理をして806mg
の未精製の5.6−デヒドロ−７−トリメチルシロ
キシ−プロスタグランジンE2メチルエステル11，
15−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリルエーテ
ルを得た。
上記生成物を全量11mlのメタノールに溶解し、
−30℃において水素化ホウ素ナトリウム132mg
（3.48mモル）のメタノール溶液（14ml）を加え、
10分間撹拌した。反応液に５mlの飽和塩化アンモ
ニウム溶液を加えて室温に戻し、メタノールを減
圧除去した。残渣に30mlの飽和食塩水を加えて30
mlのエーテルで３回抽出し、有機層を飽和食塩水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧除去し、808mgの未精製の５，６
−デヒドロ−７−トリメチルシロキシ−プロスタ
グランジンF2〓メチルエステル11，15−ビス（ジ
メチル−ｔ−ブチル）シリルエーテルを得た。
−30℃において水素化ホウ素ナトリウム132mg
（3.48mモル）のメタノール溶液（14ml）を加え、
10分間撹拌した。反応液に５mlの飽和塩化アンモ
ニウム溶液を加えて室温に戻し、メタノールを減
圧除去した。残渣に30mlの飽和食塩水を加えて30
mlのエーテルで３回抽出し、有機層を飽和食塩水
で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧除去し、808mgの未精製の５，６
−デヒドロ−７−トリメチルシロキシ−プロスタ
グランジンF2〓メチルエステル11，15−ビス（ジ
メチル−ｔ−ブチル）シリルエーテルを得た。
上記生成物の全量を８mlのピリジンに溶解し、
−10℃でトリエチルクロリド398μl（2.32mモル）
を滴下し、室温で２時間撹拌した。常法により後
処理を行い、得られた残渣を０℃でフロリジルカ
ラムクロマトグラフイー（ヘキサン／酢酸エチル
＝80／１）により精製し、784.1mg（0.98mモル、
収率84.7％）の５，６−デヒドロ−７−トリメチ
ルシロキシ−プロスタグランジンF2〓メチルエス
テル11，15−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリ
ル−９−トリエチルシリルエーテル〔式〔〕に
おいて、R1がメチル基、R2がｎ−アミル基、R3
およびR4がジメチル−ｔ−ブチルシリル基、R5
がトリエチルシリル基である化合物〕を得た。
−10℃でトリエチルクロリド398μl（2.32mモル）
を滴下し、室温で２時間撹拌した。常法により後
処理を行い、得られた残渣を０℃でフロリジルカ
ラムクロマトグラフイー（ヘキサン／酢酸エチル
＝80／１）により精製し、784.1mg（0.98mモル、
収率84.7％）の５，６−デヒドロ−７−トリメチ
ルシロキシ−プロスタグランジンF2〓メチルエス
テル11，15−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリ
ル−９−トリエチルシリルエーテル〔式〔〕に
おいて、R1がメチル基、R2がｎ−アミル基、R3
およびR4がジメチル−ｔ−ブチルシリル基、R5
がトリエチルシリル基である化合物〕を得た。
実施例 ２
５，６−デヒドロ−７−ヒドロキシ−15−シク
ロペンチル−プロスタグランジンE2メチルエス
テル11，15−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリ
ルエーテル〔式〔〕において、R1がメチル基、
R2がシクロペンチル基、R3およびR4がジメチル
−ｔ−ブチルシリル基である化合物〕877.3mg
（1.45mモル）の塩化メチレン溶液（10ml）に０
℃で1.17ml（14.5mモル）のピリジンを加え、次
いでトリメチルシリルクロリド368μl（2.90mモ
ル）を滴下し、室温で２時間撹拌した。常法によ
り後処理を行い、929.9mgの未精製の５，６−デ
ヒドロ−７−トリメチルシロキシ−15−シクロペ
ンチル−プロスタグランジンE2メチルエステル
11，15−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリルエ
ーテルを得た。
ロペンチル−プロスタグランジンE2メチルエス
テル11，15−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリ
ルエーテル〔式〔〕において、R1がメチル基、
R2がシクロペンチル基、R3およびR4がジメチル
−ｔ−ブチルシリル基である化合物〕877.3mg
（1.45mモル）の塩化メチレン溶液（10ml）に０
℃で1.17ml（14.5mモル）のピリジンを加え、次
いでトリメチルシリルクロリド368μl（2.90mモ
ル）を滴下し、室温で２時間撹拌した。常法によ
り後処理を行い、929.9mgの未精製の５，６−デ
ヒドロ−７−トリメチルシロキシ−15−シクロペ
ンチル−プロスタグランジンE2メチルエステル
11，15−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリルエ
ーテルを得た。
上記生成物の全量を未精製のまま14mlのメタノ
ールに溶解し、−30℃において水素化ホウ素ナト
リウム109.7mg（2.90mモル）のメタノール溶液
（12ml）を加え、10分間撹拌した。反応液に飽和
塩化アンモニウム溶液（５ml）を加え、徐々に室
温に戻した後、室温でメタノールを減圧除去し
た。残渣に飽和食塩水（50ml）を加え、50mlのエ
ーテルで３回抽出し、得られた有機層を飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧除去して895.9mgの未精製の５，６−
デヒドロ−７−トリメチルシロキシ−15−シクロ
ペンチル−プロスタグランジンF2〓メチルエステ
ル11，15−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリル
エーテルを得た。
ールに溶解し、−30℃において水素化ホウ素ナト
リウム109.7mg（2.90mモル）のメタノール溶液
（12ml）を加え、10分間撹拌した。反応液に飽和
塩化アンモニウム溶液（５ml）を加え、徐々に室
温に戻した後、室温でメタノールを減圧除去し
た。残渣に飽和食塩水（50ml）を加え、50mlのエ
ーテルで３回抽出し、得られた有機層を飽和食塩
水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。
溶媒を減圧除去して895.9mgの未精製の５，６−
デヒドロ−７−トリメチルシロキシ−15−シクロ
ペンチル−プロスタグランジンF2〓メチルエステ
ル11，15−ビス（ジメチル−ｔ−ブチル）シリル
エーテルを得た。
上記生成物の全量を10mlのピリジンに溶解し、
−10℃でトリエチルシリルクロリド487μl（2.90m
モル）を滴下し、室温で２時間撹拌した。常法に
より後処理し、得られた残渣を０℃でフロリジル
カラムクロマトグラフイー（ヘキサン／酢酸エチ
ル＝100／１）により精製し、872.2mg（1.10mモ
ル、収率75.8％）の５，６−デヒドロ−７−トリ
メチルシロキシ−15−シクロペンチル−プロスタ
グランジンF2〓メチルエステル11，15−ビス（ジ
メチル−ｔ−ブチル）シリル−９−トリエチルシ
リルエーテル〔式〔〕においてR1がメチル基、
R2がシクロペンチル基、R3およびR4がジメチル
−ｔ−ブチルシリル基、R5がトリエチルシリル
基である化合物〕を得た。
−10℃でトリエチルシリルクロリド487μl（2.90m
モル）を滴下し、室温で２時間撹拌した。常法に
より後処理し、得られた残渣を０℃でフロリジル
カラムクロマトグラフイー（ヘキサン／酢酸エチ
ル＝100／１）により精製し、872.2mg（1.10mモ
ル、収率75.8％）の５，６−デヒドロ−７−トリ
メチルシロキシ−15−シクロペンチル−プロスタ
グランジンF2〓メチルエステル11，15−ビス（ジ
メチル−ｔ−ブチル）シリル−９−トリエチルシ
リルエーテル〔式〔〕においてR1がメチル基、
R2がシクロペンチル基、R3およびR4がジメチル
−ｔ−ブチルシリル基、R5がトリエチルシリル
基である化合物〕を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 下記式〔〕で表わされるプロスタグランジ
ン類の７位のヒドロキシ基をトリメチルシリル基
で保護した後９位のカルボニル基の酸素原子をヒ
ドロキシ基に変換し、次いで該ヒドロキシ基をト
リメチルシリル基以外の保護基で保護することを
特徴とする下記式〔〕で表わされるプロスタグ
ランジン類の製造方法。 〔式〔〕中、 R1は炭素数１〜10のアルキル基、 R2は直鎖状、分岐状、あるいは環状の炭素数
３〜７のアルキル基、 R3，R4は同一あるいは異るトリメチルシリル
基以外の保護基。〕 〔式〔〕中、 R1，R2，R3，R4は上記式〔〕に同じ、 R5はトリメチルシリル基以外の保護基。〕
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59129993A JPS6110551A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | プロスタグランジン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59129993A JPS6110551A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | プロスタグランジン類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6110551A JPS6110551A (ja) | 1986-01-18 |
| JPH046718B2 true JPH046718B2 (ja) | 1992-02-06 |
Family
ID=15023497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59129993A Granted JPS6110551A (ja) | 1984-06-26 | 1984-06-26 | プロスタグランジン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6110551A (ja) |
-
1984
- 1984-06-26 JP JP59129993A patent/JPS6110551A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6110551A (ja) | 1986-01-18 |
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