JPS61120806A - フリーラジカル開始剤 - Google Patents

フリーラジカル開始剤

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JPS61120806A
JPS61120806A JP60244269A JP24426985A JPS61120806A JP S61120806 A JPS61120806 A JP S61120806A JP 60244269 A JP60244269 A JP 60244269A JP 24426985 A JP24426985 A JP 24426985A JP S61120806 A JPS61120806 A JP S61120806A
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aryl
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804Compounds having Si-O-C linkages

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 関連出願の提示 この出願は、1984年11月2日米国出願第667.
929号「シリコーン−有機ブロック重合体の製造方法
および生成物」と関連している。
発明の背景 本発明以前には、次式: %式% を有するベンゾピナコールおよび他のテトラアリールエ
タン類が、ビニル単針体の重合用の高温フリーラジカル
開始剤として用いられていた。ビニル単骨休用の有用な
別のフリーラジカル開始剤として、次式: で表わされるベンゾピナコールの対応するトリアルキル
シリルエーテル誘導体があシ、これらはルドルフ(Ru
dolph )らの米国特許第3V391,355号お
よびビオ(Vio )の米国特許第4792.126号
に開示されている。ポルフェルス(Wolfers)ら
の西ドイツ国特許公開公報第2.632.294号およ
びロイチル(Renter )  らの西ドイツ国特許
公開公報第、% 151.444号に、オリゴマー状シ
リルピナコール類もフリーラジカル・ビニル単量体開始
剤として有用であることが示されている。
上述した了り−ルピナコール類およびそのシリル誘導体
は、種々のフリーラジカル重合性有機単量体、例えばス
チレン、メチルメタクリレートなどの重合を行うのにフ
リーラジカル開始剤として有用であるが、これらのフリ
ーラジカル開始剤は、ポリジオルガノシロキサンのブロ
ックの存在下で有機早計体の重合を行ってシリコーン−
有機ブロック重合体を製造するのには使用でき六い。
米国出願第66ス929号に教示されているように、末
端または連鎖内にシリルピナコール官能基を有するポリ
ジオルガノシロキサンを形成し、フリーラジカル重合性
有機単量体の存在下でのとのよう々官能化シ1)コーン
重合体の熱分解によシシリコーン有機ブロック重合体を
製造できる。末端または連鎖内にシリルピナコール基を
有するポリジオルガノシロキサンは、水素化珪素含有ポ
リジオルガノシロキサンと以下に定義する通りの脂肪族
不飽和シリルピナコールエーテルとの反応を行うことに
よって製造できる、。
発明の開示 本発明によれば、次式(1)および(2)を有する脂肪
族不飽和シリルピナコールエーテルよシなるフリーラジ
カル開始剤が提供される。
ここで、RおよびR1はc(6−13)了り−ル炭化水
素基および置換C(6−15)アリール炭化水素基から
選ばれる一価の基であシ、互に一緒になって同じ炭素原
子に結合している場合には次式: を有する二価のアリール基から選ばれ、R2は水素N 
C(1−13)ア“キル% C(1−8)ハ0ア“キル
、C(1−a)アルコキシまたはC(6−1!i)アリ
ールから選ばれる一例の基であシ、 R3はC(2−20)脂肪族不飽和炭化水素基、置換C
(2−20)脂肪族不飽和炭化水素基、c(4−20)
脂環式不飽和炭化水素基および置換C(4−20)脂環
式不飽和炭化水素基から選ばれ、 R4はR2基およびR3基から選ばれ、R5およびR6
は二価のc(6−1gアリール炭化水素基および置換C
(6−13)アリール炭化水素基から選ばれ、 Xは一〇−1−8−、−CH,−および−C−から選ば
れ、 aは0または1である。
式(1)および(2)のRおよびR1に含まれる基は、
例工ばフェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フルオ
レニル、キサンチル、クロロフェニル、メトキシフェニ
ル、ニトロフェニルなどである。式(1)および(2)
のR2に含まれる基は、例えばC(、−s)アルキル、
例えばメチル、エチル、プロピル、ブチルナト:ハロア
ルキル、アルコキシアルキルおよヒアリール、例エバフ
ェニル、トリル、キシリル、ナフチルなどである。R3
に含まれる基は、例えばビニル、アリル、シクロヘキセ
ニル、シクロペンテニルなどである。R5およびR6に
含まれる基はフェニレン、トリレン、キシリレン、ナフ
タレンおよびこれらの置換誘導体である。
式(1)および(2)で示される脂肪族不飽和シリルピ
ナコールエーテルの中には下記の化合物がある。
式(1)で示されるフリーラジカル開始剤を製造するに
は、適当なケトンと脂肪族不飽和モノハロシランとの反
応を、活性金属還元剤、例えばマグネンウムの存在下で
、下記の反応式で示される通シに行えばよい。
ここでR,R’、R”およびR3は前記定義の通り。
多くの場合、促進剤、例えばN 、N 、N’ 、N’
−テトラメチルウレア、ヘキサメチルホスホルトリアミ
ド、ビフェニル、ナフタレン、アントラセンを使用スル
と、反応速度を増加するととができ望凍しい。
式(2)の環状珪素含有ビナコレートの製造にも同様の
方法をとることができるが、この場合には次の反応式で
示されるようにジノ・ロ脂肪族不飽和シランをケトンと
組合せて使用する必要がある。
R嗜 この反応を行う際に使用できる溶剤は、例えばテトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、1.2−ジメトキシエタン、
トルエン、キシレン、ベンゼン、ヘキサメチルホスホル
ト1】アミドおよびN 、N 、N’、N’−テトラメ
チルウレアである。
式(2)に含まれる代表的な環状シリルビナコレートは
次の通り。
C’H3eh=eh2 当業者が本発明を容易に実施できるように、以下に実施
例を限定としてではなく例示として示す。部はすべて重
量基準である。
実施例1 温度計、還流コンデンサおよび磁気スターラ付の100
0m4丸底フラスコに、!1.0y’(f15モル)の
ペン、シフエノン、6. o t (0,25モル)の
金属マグネシウム(30メツシユ)、25〇−の乾燥テ
トラヒドロフランおよび15fntのN、N。
NZ 、NZ−テトラメチルウレアを入れた。この混合
物に6 Q、5 y (16モル)のジメチルビニルク
ロロシランを滴加した。発熱反応が認められ、温度が徐
々に50℃才で上昇した。反応混合物を水浴でこの温度
に保った。反応の発熱部分が静まった後、反応混合物を
47℃に4時間加熱し、次いで室温で1夜放置した。回
転エバポレータで溶剤を除去し、黄色い油状物をクロロ
ホルムに溶解した。無機沈澱物を戸別し、得られた生成
物をエタノールから2回再結晶させた 得られた無色の
生成物は融点135−140℃を有し、収汝は56.3
f。
即ち理論り″の43.1%であった。生成物は次式を有
するビス(ジメチルビニルシリル)ベンゾビナコレート
であった。
化合物の同定は元素分析でg認した。
計F値 C7&40%、 H712%、 5i10.4
9%実測値 C75,9%、 H7,20%、 Si 
 1α70%実施例2 500 ml丸底フラスコに9’Qlfi’(0,5モ
ル)の9−フルオレノン、、15f、l!のN 、N 
、N’ 、N’−テトラメチルウレア、210ゴの新さ
に蒸留した乾燥テトラヒドロフランおよびAs’([1
,25モル)の金属マグネシウム粉末を入れた。反応容
器に磁気スターテ、還流コンデンサ、温度計および窒素
尋人管を取り付けた。反応混合物中に窒素を15分間バ
ブリングし、次いで滴加ロートによp 6o、 5 f
(0,56モル)のジメチルビニルクロロシランを滴加
した。発熱反応が起り、無色から黄色を経てオレンジ色
へ色が変わった。反応容器を水浴に入れて温度を30−
15℃に保った。添加完了(約45分)後、反応容器を
室温で1夜かきまぜた。
多量の結晶を含む反応混合物から回転エバポレータで溶
剤をとげした。約200−のクロロホルムを加え、反応
混合物を濾過して無機マグネシウム塩を除去した。クロ
ロホルムを留去したところ固形のオレンジ色生成物が残
り、これを沸とう無水エタノールから再結晶させた。冷
却すると結晶が得られ、これをもう一度目じやり方で再
結晶させた。2回の回収でシ11ルピナコレートが総合
収率40%で得られ、この生成物は融点210−212
℃で、N′MRおよび元素分析(下記)により下記の構
造を有することが確認された。
CH=CH2CI(=CH。
% C79,9!+     7&B % H6,466,50 % Si        10.58     1α3
2実施例3 還流コンデンサ、窒素導入管および磁気スターラ付の1
000−丸底フラスコに72.8 f (0,4モル)
のベンゾフェノン、4.81([1,2モル)のマグネ
シウムおよび200−のテトラヒドロフランを入れた。
この反応混合物に2 & 2 t ([1,2モル)の
メチルビニルジクロロシランおよび15−のN、N、N
’、N’−テトラメチルウレアを加えた。反応混合物を
加熱して発熱反応を開始させた。発熱が静1つた後、混
合物を50℃に2.5時間加熱し、次いで室温で1夜放
置した。テトラヒドロフランを減圧下で除去し、残留物
をクロロポルムに溶解した。得られた混合物を濾過し、
不溶の無機マグネシウム塩を除去し、再び溶剤を減圧下
で除去した。油状物が得られ、これをエタノールから再
結晶すると結晶生成物が得られた。合計507の生成物
が得られ、これは融点135−137℃、珪素について
の元素分析値6.71%(理論値647%)を有し、”
HNMRは下記構造に合致した。
この化合物は融点135−137℃を有し、元素分析は
下記の通シ。
計算値  実測値 %C82,4579,2 %H5,295,30 %S1     五7〇    五65実施例4 50〇−丸底フラスコ内で3t4y(n、2モル)のベ
ンゾフェノン、2..4f(01モル)の金属マグネシ
ウム塩末、100ffllのテトラヒドロフラン、22
.41([11モル)の7−オクチニルメチルジクロロ
シランおよび1o−のN、N、N’、N’−テトラメチ
ルウレアを混ぜ合わせた。反応フラスコに磁気スターテ
、還流コンデンサおよび乾燥管を取シ付けた。混合する
と、発熱反応が自然に起シ、反応混合物の温度を水浴で
60℃以下に保った。
発熱反応が静まった後、反応容器を50℃に1時間加熱
した。減圧下でテトラヒドロフランを除去し、約100
tdのクロロホルムを加えた。無機マグネシウム塩を戸
別し、クロロホルムを留去した。
薄黄色の油状物が残シ、これを石油エーテルに溶解し、
濾過して少量の不溶の白色不純物を除去しその後再び蒸
留した。生成物をメタノールで数回洗ってさらに精製し
た。’HNMRスペクトルは下記の構造に合致した。
上述した実施例は本発明に従って製造することのできる
極めて多数のフリーラジカル開始剤の数例を示すにすぎ
ないが、本発明は式(1)および(2)で示される通シ
の広い範囲のフリーラジカル開始剤を包含することを理
解すべきである。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、次式: ▲数式、化学式、表等があります▼および▲数式、化学
    式、表等があります▼ の化合物から選ばれるフリーラジカル開始剤。 但し、式中のRおよびR^1はC_(_6_−_1_3
    _)アリール炭化水素基および置換C_(_6_−_1
    _3)アリール炭化水素基から選ばれる一価の基であり
    、互に一緒になつて同じ炭素原子に結合している場合に
    は次式:▲数式、化学式、表等があります▼ を有する二価のアリール基から選ばれ、 R^2は水素、C_(_1_−_8_)アルキル、C_
    (_1_−_8_)ハロアルキル、C_(_1_−_8
    _)アルコキシまたはC_(_6_−_1_3_)アリ
    ールから選ばれる一価の基であり、 R^3はC_(_2_−_2_0_)脂肪族不飽和炭化
    水素基、置換C_(_2_−_2_0_)脂肪族不飽和
    炭化水素基、C_(_4_−_2_0_)脂環式不飽和
    炭化水素基および置換C_(_4_−_2_0_)脂環
    式不飽和炭化水素基から選ばれ、 R^4はR^2基およびR^3基から選ばれ、R^5お
    よびR^6は二価のC_(_6_−_1_3_)アリー
    ル炭化水素基および置換C_(_6_−_1_3_)ア
    リール炭化水素基から選ばれ、 Xは−O−、−S−、−CH_2−および▲数式、化学
    式、表等があります▼から選ばれ、 aは0または1である。 2、次式を有する特許請求の範囲第1項記載の開始剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 3、次式を有する特許請求の範囲第1項記載の開始剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 4、次式を有する特許請求の範囲第1項記載の開始剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 5、次式を有する特許請求の範囲第1項記載の開始剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 6、次式を有する特許請求の範囲第1項記載の開始剤。 ▲数式、化学式、表等があります▼
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