JPS61123812A - 反射光学系 - Google Patents
反射光学系Info
- Publication number
- JPS61123812A JPS61123812A JP59246533A JP24653384A JPS61123812A JP S61123812 A JPS61123812 A JP S61123812A JP 59246533 A JP59246533 A JP 59246533A JP 24653384 A JP24653384 A JP 24653384A JP S61123812 A JPS61123812 A JP S61123812A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mirror
- systems
- optical
- optical axis
- reflective optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70225—Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は反射光学系に関し、特＆ＣＩＣ、ＬＳＩ等の集
積回蕗を製造するときの投影露光装置（用いられる反射
光学系く関するものである。
積回蕗を製造するときの投影露光装置（用いられる反射
光学系く関するものである。
従来より投影露光装置を用いＩＣ、ＬＳＩ等の集積回路
のパターンをシリコンウェハーに焼付ける為の反射光学
系が例えば特開昭４８−１２０３９号公報、特開昭５２
−５５４４号公報、特開昭 ５３−１００２３０ 号
公報等で提案されている。特開昭４８−１２０３９号公
報や特開昭５２−５５４４号公報では、凹面鏡と凸面鏡
の２枚の反射鏡を曲率中心が同心若しくは非同心となる
ようにし、かつ全系の結像倍率が等倍になるよう和して
反射光学系を構成している。又特開昭５３−１００２３
０号公報では、凹面鏡と凸面鏡の他に負の屈折力のメニ
スカス形状のレンズを用い光学性能の向上を図っている
。
のパターンをシリコンウェハーに焼付ける為の反射光学
系が例えば特開昭４８−１２０３９号公報、特開昭５２
−５５４４号公報、特開昭 ５３−１００２３０ 号
公報等で提案されている。特開昭４８−１２０３９号公
報や特開昭５２−５５４４号公報では、凹面鏡と凸面鏡
の２枚の反射鏡を曲率中心が同心若しくは非同心となる
ようにし、かつ全系の結像倍率が等倍になるよう和して
反射光学系を構成している。又特開昭５３−１００２３
０号公報では、凹面鏡と凸面鏡の他に負の屈折力のメニ
スカス形状のレンズを用い光学性能の向上を図っている
。
この上う〈従来の反射光学系は結像倍率が等倍であつｔ
為に光学基金対称に配置して構成することが出来、諸収
差のうちゴマ収差や歪曲収差等が零とな９少ない数の反
射鏡にもかかわらず比較的高い光学性能を容易に得るこ
とができｔ。
為に光学基金対称に配置して構成することが出来、諸収
差のうちゴマ収差や歪曲収差等が零とな９少ない数の反
射鏡にもかかわらず比較的高い光学性能を容易に得るこ
とができｔ。
一方ｌｋ近ＩＣ製造においてはマスクｔｆｉ上Ｏパター
ンをウェハ面上に縮少させて投影露光する所謂ステッパ
ー型の投影露光装置がマスク製作、製造時のゴミ、ウェ
ハのうねり等の点曵からして全体的にスループットが向
上する為各方面で使用されてきている。
ンをウェハ面上に縮少させて投影露光する所謂ステッパ
ー型の投影露光装置がマスク製作、製造時のゴミ、ウェ
ハのうねり等の点曵からして全体的にスループットが向
上する為各方面で使用されてきている。
しかしながら一般に投影露光装置に用いる反射光学系を
結像倍率が縮少系となるように構成しようとすると光学
系を非対称で構成しなくてはならず、この結果、等倍系
の場合に比べてコマ収差や歪曲収差等が多く発生し、全
体的に光学性能を良好に維持するのが困−になってくる
。
結像倍率が縮少系となるように構成しようとすると光学
系を非対称で構成しなくてはならず、この結果、等倍系
の場合に比べてコマ収差や歪曲収差等が多く発生し、全
体的に光学性能を良好に維持するのが困−になってくる
。
特に結像倍率が４〜１／１ｏのものは良好に収差補正を
行うのが大変困難である。
行うのが大変困難である。
この他投影露光装置の投影系を反射光学系によらず屈折
光学系で構成したものも種々提案されている。しかしな
がら一般に高解像力を得る為になるべく短波長側の光を
使用する為に透過率が低下になり、更に使用するガラス
の糧類が限られてくる為に色収差を良好に補正するのが
困難である。
光学系で構成したものも種々提案されている。しかしな
がら一般に高解像力を得る為になるべく短波長側の光を
使用する為に透過率が低下になり、更に使用するガラス
の糧類が限られてくる為に色収差を良好に補正するのが
困難である。
本発明は投影露光装置に好適な高性能でキキ縮少系の反
射光学系の提供を 目的とする。
射光学系の提供を 目的とする。
本発明の目的を達成する為の反射光学系の主する特徴は
、凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡の順に反射させｔ後物体
像を所定位置忙結像させるようにしｙｅミラー系を複数
個配置し、順次結像を繰り返すように構成した反射光学
系であって、前記複数のミラー系のうち少なくとも１つ
のミラー系の光軸は他のミラー系の光軸と偏心しており
かつ光軸上の所定領域のみを結像用として使用すると共
（全系の結像倍率が縮少系となるように構成し九ことで
ある。
、凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡の順に反射させｔ後物体
像を所定位置忙結像させるようにしｙｅミラー系を複数
個配置し、順次結像を繰り返すように構成した反射光学
系であって、前記複数のミラー系のうち少なくとも１つ
のミラー系の光軸は他のミラー系の光軸と偏心しており
かつ光軸上の所定領域のみを結像用として使用すると共
（全系の結像倍率が縮少系となるように構成し九ことで
ある。
次に本発明の一実施例を各図と共に説明する。
第１図は本発明の一実施例の光学系の概略回で多る。同
図の反射光栄系は同一方向に曲率中心を有しかつ同一光
軸上に位置するように凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡の３
つの反射鏡含有するミラー基金３つ配置し、全体の結像
倍率が縮少となるよ５に構成している。同図では反射鏡
Ｍ□〜Ｍ３で第１ミラー系、反射＠ Ｍ４〜Ｍ６で第２
ミラー系、反射鏡Ｍ７〜Ｍ、で第３ミラー系を各々構成
している。光軸上の所定領域内の物点Ｐ□からの光束は
反射鏡Ｍ１． Ｍ２． Ｍ３の順で反射しレンズ群し１
を通過し友後第１偉点Ｐ工′に結像する。Ｍｌ像点Ｐ１
′は第２．きラー系の物点Ｐ２な９物点Ｐ２からの光束
は反射鏡Ｍ４． Ｍ５． Ｍ６ の順で反射し第２像
点ｐ６に結像する。同様に４２１！ｉ！点Ｐｉは第３ミ
ラー系の物点Ｐ３となり物点Ｐ３からの光束は反射鏡Ｐ
ｋｉ７． Ｍ８． Ｍ、の順で反射し、レンズ＃ Ｌ２
を通過し几後第３像点ｐｉに結像する。
図の反射光栄系は同一方向に曲率中心を有しかつ同一光
軸上に位置するように凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡の３
つの反射鏡含有するミラー基金３つ配置し、全体の結像
倍率が縮少となるよ５に構成している。同図では反射鏡
Ｍ□〜Ｍ３で第１ミラー系、反射＠ Ｍ４〜Ｍ６で第２
ミラー系、反射鏡Ｍ７〜Ｍ、で第３ミラー系を各々構成
している。光軸上の所定領域内の物点Ｐ□からの光束は
反射鏡Ｍ１． Ｍ２． Ｍ３の順で反射しレンズ群し１
を通過し友後第１偉点Ｐ工′に結像する。Ｍｌ像点Ｐ１
′は第２．きラー系の物点Ｐ２な９物点Ｐ２からの光束
は反射鏡Ｍ４． Ｍ５． Ｍ６ の順で反射し第２像
点ｐ６に結像する。同様に４２１！ｉ！点Ｐｉは第３ミ
ラー系の物点Ｐ３となり物点Ｐ３からの光束は反射鏡Ｐ
ｋｉ７． Ｍ８． Ｍ、の順で反射し、レンズ＃ Ｌ２
を通過し几後第３像点ｐｉに結像する。
本冥施例では第１ミラー系と第２ミラー系の光軸を一致
させ第３ミラー系の光軸を他のミラー系の光軸と平行偏
心させることにより、複数のミラー系を組み合わせて全
体的に縮少系の反射光学系を構成し、このときの各ミラ
ー系どおしの機械的な干渉を防止し更に光束のケラレ全
少なくし効率良く最終慮面Ｐ３′へ光束を導光させてい
る。
させ第３ミラー系の光軸を他のミラー系の光軸と平行偏
心させることにより、複数のミラー系を組み合わせて全
体的に縮少系の反射光学系を構成し、このときの各ミラ
ー系どおしの機械的な干渉を防止し更に光束のケラレ全
少なくし効率良く最終慮面Ｐ３′へ光束を導光させてい
る。
向えば第３ミラー系の光軸＋を第１、第２ミラー系の光
軸に対して平行偏心させないと第３ミラー系の反射＠
Ｍ７ より反射した光束は第２ミラー系の反射鏡Ｍ５で
クラしてしまう。これを為投影露光装置に用いる場合に
は物点Ｐ１ と最終像点Ｐ３′との走査方向を合致させ
ねばならないので新たに平面鏡や全反射プリズムを設け
゛なくてはならず装置全体が複雑化してくるので好まし
くない。
軸に対して平行偏心させないと第３ミラー系の反射＠
Ｍ７ より反射した光束は第２ミラー系の反射鏡Ｍ５で
クラしてしまう。これを為投影露光装置に用いる場合に
は物点Ｐ１ と最終像点Ｐ３′との走査方向を合致させ
ねばならないので新たに平面鏡や全反射プリズムを設け
゛なくてはならず装置全体が複雑化してくるので好まし
くない。
又本実施例では各ミラー系を凹面鏡、凸面鏡そして凹面
鏡の所謂上、負、正の屈折力の３つの反射！！を基本構
成とし、このようなミラー系を複数用いることによシ縮
少系にもかかわらず各ミラー系から発生する収差を少な
くしクク全体的にコマ収差、歪曲収差等の諸収差の補正
を良好和行っている。
鏡の所謂上、負、正の屈折力の３つの反射！！を基本構
成とし、このようなミラー系を複数用いることによシ縮
少系にもかかわらず各ミラー系から発生する収差を少な
くしクク全体的にコマ収差、歪曲収差等の諸収差の補正
を良好和行っている。
特に本実施列において好ましくは３つのミラー系のうち
少なくとも１つのミラー系を縮少系とし、少なくとも１
つのミラー系を等倍若しくは拡大系で構成するのが球面
収差、コマ収差、像面湾曲等の諸収差を良好に補正する
のに好ましい。
少なくとも１つのミラー系を縮少系とし、少なくとも１
つのミラー系を等倍若しくは拡大系で構成するのが球面
収差、コマ収差、像面湾曲等の諸収差を良好に補正する
のに好ましい。
例えば全てのミラー系を縮少系で構成すれば結慣倍率の
点からすれば効率的で多るが各ミラー系より発生する収
差を打消す作用が少なくなり全体的に良好なる収差補正
を行うのが困難となる。
点からすれば効率的で多るが各ミラー系より発生する収
差を打消す作用が少なくなり全体的に良好なる収差補正
を行うのが困難となる。
本実施例ではレンズ群Ｌ１を第１ミラー系の−Ｓとして
又レンズｔ＃Ｌ２を第３ミラー系の一部として考えｔと
きの第１、第２、第３ミラー系の結像倍率は各々α４）
．α７８ 、 ＬＯ７で６ろ。
又レンズｔ＃Ｌ２を第３ミラー系の一部として考えｔと
きの第１、第２、第３ミラー系の結像倍率は各々α４）
．α７８ 、 ＬＯ７で６ろ。
このように本実施例では縮少系と拡大系のミラー系を用
いることにより全体的に良好なる収差補正を達成してい
る。
いることにより全体的に良好なる収差補正を達成してい
る。
又本実施列において軸外の球面収差の補正を良好に行う
為に拡大系である第３ミラー系の一部にレンズ詳Ｌ２を
配置し、レンズ群−Ｌ２の屈←（ 折系を配置することにより生じる色収差の発生を縮少系
である第１ミラー系の一部にレンズ群Ｌ１ を各々配置
することにより全体的に球面収差と色収差全バランス良
く補正している。
為に拡大系である第３ミラー系の一部にレンズ詳Ｌ２を
配置し、レンズ群−Ｌ２の屈←（ 折系を配置することにより生じる色収差の発生を縮少系
である第１ミラー系の一部にレンズ群Ｌ１ を各々配置
することにより全体的に球面収差と色収差全バランス良
く補正している。
このように本実施例ではミラー系の一部に屈折系を配置
し、ミラー系の屈折力分担を分割し、ミラー系より生じ
る収差量を少なくシ、屈折系全配置することくよって生
じ６色収差の補正を他のミラー系に屈折系を配置して全
体的にバランス良い収差補正を行っているのである。特
に拡大系と縮少系のミラー系に各々屈折系を配置するの
が収差補正上好ましい。
し、ミラー系の屈折力分担を分割し、ミラー系より生じ
る収差量を少なくシ、屈折系全配置することくよって生
じ６色収差の補正を他のミラー系に屈折系を配置して全
体的にバランス良い収差補正を行っているのである。特
に拡大系と縮少系のミラー系に各々屈折系を配置するの
が収差補正上好ましい。
尚し／ズｐＬ□ 、Ｌ２は正の屈折力でも負の屈折力で
も良い。利えば本実施例の反射光学系のようにレンズ群
Ｌ２を正の屈折力の像面側に凹面を向けｔメニスカス形
状のレンズで構成すれば少ないレンズ枚数で球面収差を
良好に補正することが出来るので好ましい。
も良い。利えば本実施例の反射光学系のようにレンズ群
Ｌ２を正の屈折力の像面側に凹面を向けｔメニスカス形
状のレンズで構成すれば少ないレンズ枚数で球面収差を
良好に補正することが出来るので好ましい。
このように本実施例では用３ミラー系に正若しくは負の
屈折力のレンズ群Ｌ２を配貨することＶｃＬって、ミラ
ー系内の正若しくは負の屈折力を分割することができ、
この結果全体的に各反ｔ１鏡の屈折力を弱めることが出
来球面収差の他に他の諸収差屯同時に補正している。
屈折力のレンズ群Ｌ２を配貨することＶｃＬって、ミラ
ー系内の正若しくは負の屈折力を分割することができ、
この結果全体的に各反ｔ１鏡の屈折力を弱めることが出
来球面収差の他に他の諸収差屯同時に補正している。
尚後述する本実施例ではレンズ群Ｌ１． Ｌ２１１−
のレンズとし短波長域を良く透過する５ｉｎ２（石英）
で構成している。
のレンズとし短波長域を良く透過する５ｉｎ２（石英）
で構成している。
本実施例においては物点Ｐ□の結像領域を光軸上一定範
囲内の例えば円弧状の範囲内の良好に収差補正され几領
域のみ′を使用するよう（すればより結像系として高性
能化を図ろことが出来るので好ましい。本実施例ではレ
ンズ＃ＩＬよ及びレンズ詳し２ｔ″１枚のレンズで構成
した場合？示したが複数のレンズで列えはレンズ群Ｌ２
を２枚の正の屈折力のメニスカス形状のレンズで構
成しても良い。又レンズ群Ｌ１を正の屈折力でレンズ群
Ｌ２’ｆ−負の屈折力のレンズ群で構成すればレンズ群
Ｌ□より発生する収差ｔレンズ群Ｌ２により容易に補正
することができる為好ましい。
囲内の例えば円弧状の範囲内の良好に収差補正され几領
域のみ′を使用するよう（すればより結像系として高性
能化を図ろことが出来るので好ましい。本実施例ではレ
ンズ＃ＩＬよ及びレンズ詳し２ｔ″１枚のレンズで構成
した場合？示したが複数のレンズで列えはレンズ群Ｌ２
を２枚の正の屈折力のメニスカス形状のレンズで構
成しても良い。又レンズ群Ｌ１を正の屈折力でレンズ群
Ｌ２’ｆ−負の屈折力のレンズ群で構成すればレンズ群
Ｌ□より発生する収差ｔレンズ群Ｌ２により容易に補正
することができる為好ましい。
以上のように本＠明によれば正、負そして正の屈折力を
有するミラー系を複数個配置し、複数のミラー系のうち
少なくとも１つのミラー系を偏心させ、光軸上一定範曲
内の領域のみを使用するよう和し、全体的ＫｉＭ少系と
なるように構成するＣとｋより゛全体的に良好に収差補
正を行った、光束のクランの少ない反射光学系を達成す
ることができろ。
有するミラー系を複数個配置し、複数のミラー系のうち
少なくとも１つのミラー系を偏心させ、光軸上一定範曲
内の領域のみを使用するよう和し、全体的ＫｉＭ少系と
なるように構成するＣとｋより゛全体的に良好に収差補
正を行った、光束のクランの少ない反射光学系を達成す
ることができろ。
次にｔ４）図に示す実施例のａ値実施例を示す。
引 け切点Ｐ工から数えて第＋＠目の反射鏡若しくはレ
ンズ面の曲率半径、Ｄｌは物点Ｐ１から数えて第１番目
の空気間隔若しくはレンズ厚、Ｎｌ ＃ｉ第轟番目の
媒質のノー折率である。ＤＩ 。
ンズ面の曲率半径、Ｄｌは物点Ｐ１から数えて第１番目
の空気間隔若しくはレンズ厚、Ｎｌ ＃ｉ第轟番目の
媒質のノー折率である。ＤＩ 。
Ｎｌ は光の進行方向く沿って左方から右方に測った
ときを正、その逆ｔ ｊｔとして示している。
ときを正、その逆ｔ ｊｔとして示している。
Ａｔ１ｉ［実施例において第３ミラー系と第２ミラー系
は１２０ （ｔｎｍ ）平行偏心させである。
は１２０ （ｔｎｍ ）平行偏心させである。
数値実施ガ
有効Ｆナンバー二＆５
物体Ｐ１０光軸上の有効幅：Ｌ５ｍ
結像倍率二１／３
ＲＤ Ｎ
１ −６３α５６ −２７９ −１
２ −１１９．２５ ２３０
１３ −４０（Ｌ７０８ −３００
−１４ 特 −２０−８ｋ Ｏ
ｚ５ ６３７３、σ８ −１０７０
−１６ ５９７．３９ ３３５
１７ ２２＆２５ −２９２
−１８ ４）６．７４ ７
３＆３９５ １９ −４４（Ｌ２８ −
２００ −１１０ −２５（Ｌ８６
１９０ １１１ −４５＆６８
−３００ −１１３ −７９９．８９
−１４回面の簡単な説明 第１図は本発明のａｗ１実施列の反射光学系の光学断面
図、第２図は本発明のａｗＬ実施飼の横収差図である。
２ −１１９．２５ ２３０
１３ −４０（Ｌ７０８ −３００
−１４ 特 −２０−８ｋ Ｏ
ｚ５ ６３７３、σ８ −１０７０
−１６ ５９７．３９ ３３５
１７ ２２＆２５ −２９２
−１８ ４）６．７４ ７
３＆３９５ １９ −４４（Ｌ２８ −
２００ −１１０ −２５（Ｌ８６
１９０ １１１ −４５＆６８
−３００ −１１３ −７９９．８９
−１４回面の簡単な説明 第１図は本発明のａｗ１実施列の反射光学系の光学断面
図、第２図は本発明のａｗＬ実施飼の横収差図である。
図中囚げメリデイオナル面、（Ｂ）はサジタル面での収
差を示す。Ｙは物品である。
差を示す。Ｙは物品である。
町〜Ｍ、は反射鏡、Ｌ□、Ｌ２は各々レンズ群であゐ。
Claims (6)
- （１）凹面鏡、凸面鏡そして凹面鏡の順に反射させた後
、物体像を所定位置に結像させるよりにしたミラー系を
複数個配置し、順次結像を繰り返すように構成した反射
光学系であつて、前記複数のミラー系のうち少なくとも
１つのミラー系の光軸は他のミラー系の光軸と偏心して
おりかつ光軸上の所定領域のみを結像用として使用する
と共に全系の結像倍率が縮少系となるように構成したこ
とを特徴とする反射光学系。 - （２）前記反射光学系は少なくとも１つの縮少系と少な
くとも１つの等倍若しくは拡大系のミラー系を有してい
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の反射光
学系。 - （３）前記反射光学系は物体側より順に第１、第２、第
３ミラー系の３つのミラー系を有し、前記第１ミラー系
を縮少系、第３ミラー系を拡大系より構成したことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の反射光学系。 - （４）前記第１ミラー系の一部にレンズ群Ｌ＿１と前記
第３ミラー系の一部にレンズ群Ｌ＿２を配置したことを
特徴とする特許請求の範囲第３項記載の反射光学系。 - （５）前記レンズ群Ｌ＿１及び前記レンズ群Ｌ＿２を正
の屈折力のレンズ群より構成したことを特徴とする特許
請求の範囲第４項記載の反射光学系。 - （６）前記第１ミラー系と第２ミラー系の光軸を一致さ
せ前記第３ミラー系の光軸を前記第１ミラー系及び第２
ミラー系の光軸と偏心させたことを特徴とする特許請求
の範囲第３項記載の反射光学系。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59246533A JPS61123812A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 反射光学系 |
| US06/764,001 US4701035A (en) | 1984-08-14 | 1985-08-09 | Reflection optical system |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59246533A JPS61123812A (ja) | 1984-11-20 | 1984-11-20 | 反射光学系 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61123812A true JPS61123812A (ja) | 1986-06-11 |
| JPH0525088B2 JPH0525088B2 (ja) | 1993-04-09 |
Family
ID=17149821
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59246533A Granted JPS61123812A (ja) | 1984-08-14 | 1984-11-20 | 反射光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61123812A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318626A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| US5071240A (en) * | 1989-09-14 | 1991-12-10 | Nikon Corporation | Reflecting optical imaging apparatus using spherical reflectors and producing an intermediate image |
| JPH07147230A (ja) * | 1994-08-04 | 1995-06-06 | Canon Inc | 縮小投影露光装置および半導体製造方法 |
| JP2010007624A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Honda Motor Co Ltd | エンジンの潤滑構造 |
| JP2012212910A (ja) * | 2005-03-08 | 2012-11-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 取扱い可能な絞り又は開口絞りを備えたマイクロリソグラフィー投影光学系 |
-
1984
- 1984-11-20 JP JP59246533A patent/JPS61123812A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6318626A (ja) * | 1986-07-11 | 1988-01-26 | Canon Inc | 投影露光装置 |
| US5071240A (en) * | 1989-09-14 | 1991-12-10 | Nikon Corporation | Reflecting optical imaging apparatus using spherical reflectors and producing an intermediate image |
| JPH07147230A (ja) * | 1994-08-04 | 1995-06-06 | Canon Inc | 縮小投影露光装置および半導体製造方法 |
| JP2012212910A (ja) * | 2005-03-08 | 2012-11-01 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 取扱い可能な絞り又は開口絞りを備えたマイクロリソグラフィー投影光学系 |
| US9146472B2 (en) | 2005-03-08 | 2015-09-29 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Microlithography projection system with an accessible diaphragm or aperture stop |
| JP2010007624A (ja) * | 2008-06-30 | 2010-01-14 | Honda Motor Co Ltd | エンジンの潤滑構造 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0525088B2 (ja) | 1993-04-09 |
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