JPH0130125B2 - - Google Patents

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JPH0130125B2
JPH0130125B2 JP53014851A JP1485178A JPH0130125B2 JP H0130125 B2 JPH0130125 B2 JP H0130125B2 JP 53014851 A JP53014851 A JP 53014851A JP 1485178 A JP1485178 A JP 1485178A JP H0130125 B2 JPH0130125 B2 JP H0130125B2
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JP
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optical system
mirror
convex
meniscus
concave
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JP53014851A
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Ofunaa Abe
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Applied Biosystems Inc
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Perkin Elmer Corp
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Publication date
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Publication of JPH0130125B2 publication Critical patent/JPH0130125B2/ja
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    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
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    • G02B17/0836Catadioptric systems using more than three curved mirrors
    • G02B17/0844Catadioptric systems using more than three curved mirrors off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/008Systems specially adapted to form image relays or chained systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • G02B17/0804Catadioptric systems using two curved mirrors
    • G02B17/0812Catadioptric systems using two curved mirrors off-axis or unobscured systems in which all of the mirrors share a common axis of rotational symmetry
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70225Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70275Multiple projection paths, e.g. array of projection systems, microlens projection systems or tandem projection systems

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Stereoscopic And Panoramic Photography (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は物体の像を倍率1倍で形成する光学
系、さらに詳細には大きいスペクトル帯域を有す
るこのような系に関する。本発明の概念により形
成された光学系は多数の可能な用途のうちとくに
集積回路製造の際のホトレジストを被覆した半導
体ウエハの露出を行うために使用される。 本発明は本出願人による1973年7月24日公告の
特許第3748015号に示される形式の環帯投影系と
密接に関係する。この特許は高い解像力をもつて
倍率1倍で物体の像の細部を顕微鏡的精度で形成
する反射光学系を開示し、その特徴は凸および凹
の球面ミラーの曲率中心が1点に一致することで
ある。ミラーは系内で少なくとも3回の反射を生
ずるように配置され、系内で上記の点に軸上共役
点を有し、かつ曲率中心を含む面内に軸から離れ
た倍率1倍の2つの共役面積を得るように配置さ
れ、系の軸はこの共役面に垂直で前記共役点を通
る軸である。この光学系は多くの特徴および利点
を有するけれど、本発明はその改善を目的とす
る。 他の関連特許は1974年6月28日公告の米国特許
第3821763号、1976年4月20日公告の米国特許第
3951546号および1973年3月9日の米国特願第
339860号の追加である1974年12月19日の米国特願
第534465号である。 所望の結果を得るため、本発明によりその1つ
の方式として受像面を物体の光像に対して写真的
に露出する装置内で使用する新規の改善された環
帯視野光学系が得られる。この光学系は光軸に沿
つてほぼ同心に配置された少なくとも1つの凸面
ミラーおよび凹面ミラーを含む。系はこの軸に垂
直の共役面を形成するように配置され、この共役
面に関しこの系は倍率1倍である。さらにこの系
は少なくとも1組の対称的に配置されたほほぼ同
心のメニスカスを含み、その凸面の半径は凹面の
半径より大きく、その厚さは凸面半径と凹面半径
の差より大きい。 本発明の1つの態様によれば色補正装置がミラ
ーと物体および像位置の間に挿入され、この装置
はその1つの方式によればミラーの光軸に対し垂
直に支持されるほぼ平行平面の板である。とくに
平行平面板の1つの面は非球面に形成され、また
は板はミラー光軸に垂直に支持されるメニスカス
要素である。 本発明のもう1つの態様によれば凹面および凸
面ミラーは短い半径の長さの約2%より小さい曲
率中心間の距離をもつて支持され、他の態様によ
ればミラーは凹面ミラーから3回の反射および凸
面ミラーから2回の反射があるように配置され
る。 本発明の1つの方式によれば受像面を物体の光
像に写真的に露出する装置に使用するための新規
かつ改善された環帯視野光学系が得られ、この系
はそれぞれ光軸および光軸に対しほぼ垂直の共役
面を有する単位光学系を含む第1および第2の半
分を含み、この共役面に関し系の倍率は1倍であ
る。これら2つの半分は背中合せの関係で配置さ
れるので、共役面は光学系の少なくとも1つの側
で重なつて中間像位置を形成し、光学系の他の側
に離れた物体および像の位置を得る手段が設けら
れる。本発明の1つの態様によれば光学系の各半
分はほぼ同心のメニスカス要素を含み、その凸面
の半径は凹面の半径より大きく、その厚さは凸面
半径と凹面半径の差より大きく、かつもう1つの
態様により少なくとも1つの色補正要素が系内に
備えられる。 1つの実施方式によれば各単位光学系は凹の球
面ミラーおよび凹面ミラーに面する凸の球面ミラ
ーを有し、これらのミラーはその曲率中心がほぼ
一致するように支持される。物体の像が第2の位
置で実像であるように物体の位置を決定する手段
が設けられ、その際上記凸面ミラーは初め凹面ミ
ラーから凸面ミラーへ反射される物体位置からの
光線を凹面ミラーへ反射するように配置され、そ
れによつて物体位置からの光線は第2の位置に結
像する前に少なくとも2回凹面ミラーで、少なく
とも1回凸面ミラーで反射される。メニスカスの
同心性の差から生ずる小さい収差はミラーの組の
同心性の小さい差を導入することによつて補償さ
れる。すなわち光学系の各半分で凹面および凸面
ミラーは小さい曲率半径の長さの約2%より小さ
い曲率中心間の距離をもつて支持される。 またとくに色補正要素はミラーの光軸に対し垂
直に支持される平行平面板である。本発明の1つ
の方式によれば平行平面色補正板は中間像位置に
支持され、他の方式によれば色補正板は系の各半
分に支持される。 本発明の実施方式によれば光学系の2つの半分
は同軸に背中合せの関係に配置されるので、共役
面は系の両側で重なり、1つの側に中間像位置
を、他の側に物体と像の重なる位置を形成する。
反射ミラーのような手段が物体および像位置を離
すために設けられ、実際の装置でこれらの位置に
近づくことを可能にする。 他の実施方式によれば光学系の2つの半分は同
軸に背中合せの関係に配置され、光学系の1つの
側に中間像位置が形成され、他の側に物体と像の
離れた位置が形成される。この目的で中間像は系
の少なくとも1つの半分内で他の共役面から軸方
向に離される。1つの実施方式によれば2つのミ
ラー成分から中間像への距離は少なくとも1つの
半分で他の共役位置への距離より大きく、それに
よつて物体と像の位置は互いに離される。さらに
他の実施方式によれば2つのミラー成分から中間
像への距離は少なくとも1つの半分で他の共役位
置への距離より小さく、それによつて交さした物
体面と像面が形成される。この場合反射装置が物
体位置と像位置の間に挿入され、物理的にこれら
の位置に近づくことを可能にする。 合成系内の像面彎曲除去(すなわち平らな像
面)のための必要条件は各面の屈折力をその屈折
率で割つた商の算術和がゼロであることであり、
その際反射面の屈折率はこの計算では負であると
定義する。本発明による光学系の主要成分である
メニスカス屈折要素は上記和の色による変化を生
ずるので、その和がほぼゼロでも色による合成系
の像面彎曲の変化が発生する。本発明により焦点
位置は光学系の環帯視野内の像面彎曲の色による
変化を補償する軸上色収差の導入によつて広いス
ペクトル帯域にわたつて1定にされる。 次に本発明を図面により説明する。 第1図に示す本発明の実施例によれば全体的に
10で示す新規かつ改善された光学系は系内で3
回の反射を得るように配置された2つの球面ミラ
ーすなわち凸面ミラー12および凹面ミラー14
を有する。ミラーはその曲率中心が系の軸SAに
沿つて、点OおよびIに中心を有する軸から離れ
た共役面を有するように配置される。点Oおよび
Iはそれぞれ参照軸SAから反対方向に距離Hの
点である。特許第3748015号明細書の第2図に示
す光学系の場合、凹面ミラーは物体Oの像をIに
形成する。凸面ミラーは点Iの虚像をO点に形成
し、この像は凹面ミラーによつてIに再結像され
る。この特許の光学系で達成される補正された環
帯の幅はこの設計に固有の5次の非点収差によつ
て制限されることが指摘される。高次非点収差は
この系の主光線の球面収差に基く。 光軸と平行の主光線の球面収差を減少または除
去するため、メニスカス要素を使用しうることは
明らかである。メニスカス要素がミラーと同心で
あれば、共役点が共通の曲率中心にある場合、メ
ニスカス要素は像面彎曲以外の3次収差を導入し
ない。 第1図に示すように1組のメニスカス要素16
が主光線の球面収差を減少するために対称的に配
置される。メニスカス要素はミラー12の表面と
メニスカス要素16の凸面が同じ球面の1部を形
成するように、凸面ミラー12の至近に配置する
場合も主光線の球面収差減少のために有効である
ことが注意される。補正された環帯の幅が1けた
増大する結果、高次非点収差が著しく減少される
ことは明らかである。 合成系で像面彎曲のない、すなわち平らな像面
を得るための必要条件は各面の屈折力を屈折率で
割つた商の算術和がほぼゼロになることであり、
その際反射面の屈折率はこの計算では負であると
定義する。メニスカス要素の屈折率は像を形成す
る光線の波長によつて変化するので、光学系にこ
の要素を挿入することにより波長による像面彎曲
の変化が生ずる。そのため第9図に示すように軸
からの距離の函数および像を形成する光線の波長
の函数として焦点位置が変化する。環帯視野光学
系の場合、軸からの距離による変化は視野を軸か
らの距離が1定である環帯へ制限することによつ
て有効に除去される。このような系内の波長によ
る像面彎曲の変化は波長による焦点位置の変化に
なり、これは反対符号の色収差の導入によつて補
償することができる。これを実現するため本発明
により屈折メニスカスは凹面の曲率半径と厚さの
和より小さい凸面の曲率半径を有することによつ
て正確な同心性から離れる。すなわちその厚さは
凸面と凹面の半径の差より大きい。 次にこの系の機能を説明する。 屈折力が負であるほぼ同心のメニスカスによつ
て導入された波長による像面彎曲の変化は背面焦
点距離が長波長に対する場合より短波長に対して
大きいような変化である。曲率中心に共役点を有
する同心メニスカスは軸上色収差を導入しない。
曲率中心の近くに共役点を有するメニスカスもほ
ぼ同様である。このようなメニスカスへ正レンズ
を付加することにより、像面彎曲の波長による変
化(メニスカスによる)に基く焦点の波長による
変化を補償するために必要な方向の軸上色収差が
導入される。これはメニスカスの凸面の半径をそ
の凹面の半径と厚さの和より小さくすることによ
つて達成される。その際このメニスカスは凹面半
径と厚さの和に等しい凸面半径を有する仮想同心
メニスカスレンズと、凹面半径が仮想メニスカス
の凸面半径であり、かつ凸面半径が実際のメニス
カスの凸面半径である厚さゼロの正メニスカスレ
ンズの2つのレンズと等価である。 凹面半径R1、凸面半径R2、厚さtおよび屈折
率Nのほぼ同心のメニスカスにおいて: R2>R1 tR2−R1+(H2/2N2)(1/R1−1/R2
(1) であれば、軸上色収差は半径Hの環帯内で像面彎
曲の波長による変化に基く焦点変化を補償する。 パラメータが(1)式をほぼ満足する1組のメニス
カスを前記米国特許第3748015号記載のタイプの
光学系へ後述の改善とともに導入することにより
広いスペクトル帯域にわたつて高次非点収差の減
少が達成されることが明らかになつた。 合成系はメニスカスをその厚さが(1)式で与えら
れる値より大きいように変化することによつて著
しく改善することができる。それによつて環帯視
野系の焦点は第1図に18で示す適当な厚さの平
行平面板の導入によつて補償しうると同様に変化
する。付加要素によつて与えられる大きい自由度
によりさらに大きい補正度が可能になる。 平行平面板を次の2つの方法のいずれかにより
変化することによりさらに改善が達成される: (1) 平行平面板の1つの面を非球面にする。 (2) 平行平面をメニスカス要素を形成するように
曲げる。 最高の補正度はメニスカスの厚さが(1)式によつ
て与えられる値より大きく、かつ上記2つの方法
の1つにより変化した平行平面板を使用すること
によつて色補正を行う系により達成される。メニ
スカス要素16が同心性からはずれることに基く
小さい収差はミラー12と14が同心性から少し
ずれることによつて補償される。すなわち凹面ミ
ラー14および凸面ミラー12は小さい半径の長
さの約2%より小さい曲率中心間の距離で支持さ
れる。 第1表は第1図の環帯視野光学系の構成データ
の例を示す。周知のように正符号は表面が物体に
対し凸であることおよび距離が左から右へ測定さ
れていることを示し、負号は表面が物体に対し凹
であり、距離が右から左へ測定されることを示
す。
【表】 第2表は種々の環帯半径におけるRMS波面収
差を2800Å〜5461Åのスペクトル範囲にわたつて
第1表の環帯視野光学系に関して計算した性能表
である。使用しうる環帯の幅は性能が使用に適当
である上の半径と下の半径の値の差である。
RMS波面収差が0.07より小さい系は通常“回折
が制限された”または“口径が制限された”系と
称される。走査系のためにはRMS波面収差は環
帯の両端で0.09または0.1の大きさでよい。
【表】 前述のように本発明の環帯視野光学系は少なく
とも1つの凸面および凹面ミラーを有し、これら
のミラーは光軸に沿つてほぼ同心に配置され、光
軸に対し垂直の共役面を形成し、この共役面に関
して系の倍率は1倍である。第1図は凸面および
凹面ミラーの1つの適当な配置を示し、他の適当
な配置は前記特許第3748015号明細書に記載され
る。本発明の第8図に示す配置によれば凸面ミラ
ー12lおよび凹面ミラー14lが光軸SAに沿
つてほぼ同心に配置され、系内で全部で5回の反
射が利用され、その3回は凹面ミラー14lか
ら、2回は凸面ミラー12lからの反射である。
この実施例によれば凸面ミラー12lの半径が凹
面ミラー14lの半径の2/3であれば、反射面の
屈折力の算術和はゼロである。第1図で説明した
と同様に第8図の系は前記機能を有するメニスカ
ス要素16lおよび色補正板18lを有する。 前記形式の環帯視野光学系は通常走査モードで
使用されることが指摘される。この日的のため物
体と像の配位が同じであり、これらの物理的支持
体を走査のため光学系に対して動かす間互いに固
定的関係に維持することができ、それによつて走
査運動の精度に対する要求が小さくなることがと
くに望ましい。光学系に3つの平面ミラーを付加
してこれを達成する配置は前記米国特許第
3951546号明細書に示される。この効果を達成す
るもう1つの手段は第2図に示され、この場合そ
れぞれ第1図に示す形式の2つの光学系10およ
び10′が背中合せの関係で配置され、物体面と
像面が重なる。このように光学系10は2つの球
面ミラー12および14、1組のメニスカス要素
16および色補正板18を含み、対称的光学系1
0′は2つの球面ミラー12′および14′、1組
のメニスカス要素16′および色補正板18′を含
む。実際の装置に要求される物体と最終像の物理
的分離は第2図に破線で示すように、実際の物体
および像をそれぞれO′およびI′に動かす反射ミラ
ー20および20′の付加によつて達成される。
この配置の場合反射ミラーの間の距離は走査用ス
ペースを得るために十分でなければならない。も
ちろん物体と像の相対的関係を維持する反射ミラ
ーの他の配置も本発明の範囲内であることは明ら
かである。 第2図の光学系によれば22で示す中間像は第
1図の光学系10によつて形成されるので、高度
に補正される。この配置において各半分10およ
び10′は縦軸に関して対称であり、それゆえ反
転しうる。多くの用途に対して中間像の高度の補
正は要求されないので、系は各半分が対称的であ
る要求を除去することによつて簡単化することが
できる。それゆえ第3図に示すように、系または
少なくともその屈折成分を全体として対称的に維
持し、それによつて補償メニスカスおよび補正板
の数をそれぞれ2つに減少することができる。こ
のように光学系の1つの半分10aは2つの球面
ミラー12および14、中間像22の側に配置さ
れた1つのメニスカス要素16aおよび1つの色
補正板18aよりなり、これらすべての要素は光
軸SAに関して対称的(メニスカス要素16aお
よび色補正板18aは半分除去した形である。以
下同じ。)に配置される。10a′で示す光学系の
他の半分は2つの球面ミラー12′および14′、
中間像22側に配置されたメニスカス要素16
a′および色補正板18a′よりなり、これらすべて
の要素は光軸SAに関して対称的に配置される。
前述した同じ理由から実際の物体および最終像を
それぞれO′およびI′へ動かすため、光学系の各半
分は第3図に破線で示す反射ミラー20および2
0′を備える。 次に第4図によれば22で示す中間像を有する
系は第3図の2つの色補正板18および18a′を
第4図に18bで示す同じ形の1つの要素にする
ことによつてさらに簡単化される。中間像22の
位置またはその至近位置に1つの色補正板18b
を配置することによつて対称性が維持される。さ
らに第3図の反射ミラー20および20′も2つ
のミラー要素12b,14bおよび12b′,14
b′の少なくとも1つの共役距離を不等にすること
によつて除去することができる。すなわち2つの
ミラー成分への中間像からの距離は物体および
(または)像からの距離より大きくされ、それに
よつて最終像Iは物体Oから離れる。この系の場
合中間像位置の色補正板18bは完全に平行平面
でもよい。 真の無焦点系の場合、倍率はすべての共役位置
に関して同じである。しかしこの望ましい特徴
は、実際の系が一般にすべての視野位置に対して
真に無焦点に留まらないので、実際の適用時には
達成されない。第4図の1倍倍率系でたとえば物
体Oと像Iをいつしよに縦方向に1mm動かせば、
4mmの半径方向環帯の倍率は1倍から±0.00032
変化する。走査中のトラツキングスミアの原因と
なるこの変化は色補正板18bの面の1つを非球
面にすることによつて±0.00001まで低下するこ
とができる。 第4図光学系の1変化が第5図に示され、この
場合補正メニスカスは系の中間像側から物体−像
側へ動かされる。第5図の実施方式によれば系の
1つの半分は2つの球面ミラー12b,14bお
よび物体−像側に系の軸SAに関して対称に配置
されたメニスカス要素16cを含み、系の他の半
分は2つの球面ミラー12b′,14b′および物体
−像側に系の軸SAに関して対称に配置されたメ
ニスカス要素16c′を含む。1つの色補正板18
bは中間像の位置またはその至近に系の軸SAに
関して対称的に配置される。第4図の例のように
この板の1つの面は非球面化される。さらに第4
図の例のように2つのミラー成分への中間像から
の距離は物体および像からの距離より大きくさ
れ、それによつて最終像Iは走査目的のため物体
Iから離れる。 第3表は第5図の環帯視野光学系の構成データ
を示す例である。
【表】 第4表は種々の環帯半径におけるRMS波面収
差で表わした広いスペクトル帯域(2800Å〜5461
Å)にわたる第3表の環帯視野光学系の計算した
性能表である。使用しうる環帯の幅は性能が使用
に適当である上下半径の値の差である。
【表】 中間像22から2ミラー成分12d−14dお
よび12d′−14d′への距離が物体Oおよび最終
像Iからの距離より小さい光学系が第6図に示さ
れる。第6図の実施例で系の1つの半分は2つの
球面ミラー12d,14dおよび中間像側に系の
軸SAに関し対称的に配置されたメニスカス要素
16aを含み、系の他の半分は2つの球面ミラー
12d′,14d′および中間像側に系の軸SAに関
し対称的に配置されたメニスカス要素16a′を含
む。1つの色補正板18bが中間像22の位置ま
たはその至近に配置される。第2および3図の系
のように平行反射面が2つの交さした共役点Oお
よびIの間に導入され、走査のためこれらに近づ
くことを可能にする。しかし第6図の実施例では
2つの反射面は平行平面板20dの前面および背
面であり、この板の厚さは反射面の間の分離を決
定した第2および3図の装置の場合の考慮と異な
り機械的考慮によつて決定される。このように第
6図の実施例では板20dの前面および背面は物
体OをO′へ、最終像IをI′へ偏向するために役立
ち、それによつて走査のために必要な物体と像の
間の空間が得られる。 交さした物体面と像面を利用する本発明のもう
1つの実施方式が第7図に示され、この場合第6
図の中間像位置に示す1つだけの色補正板18b
の代りに2つの離れた色補正板18eおよび18
e′が系の物体−像側に配置される。この実施例で
はほぼ平行平面の板がメニスカス要素を形成する
ように曲げられる。第7図の系のその他は第6図
と同様である。すなわち系の1つの半分は2つの
球面ミラー12d,14dおよび中間像側に配置
されたメニスカス要素16aを含み、系の他の半
分は2つの球面ミラー12d′,14d′および同様
中間像側に配置されたメニスカス要素16a′を含
む。第6図の例に関連して述べたように、ミラー
前面および背面を有する板20dは物体Oを
O′へ、最終像IをI′へ移動するために役立ち、実
際装置に要求される物体と像の物理的分離が達成
される。 第5表は第7図の環帯視野光学系の構成データ
を示す例である。
【表】 第6表は種々の環帯半径におけるRMS波面収
差で表わした広いスペクトル帯域(2800Å〜5461
Å)にわたる第5表の環帯視野光学系の計算した
性能表である。使用しうる環帯の幅は性能が使用
に適当である上下半径の差である。
【表】 第7および5図の装置の場合、屈折またはメニ
スカス要素18e,18e′,16cおよび16
c′はその間の光学系の部分のシールのための窓と
して使用しうることが指摘される。 第10図は本発明のさらにもう1つの実施例を
示す。この実施例は前面および背面に反射ミラー
を有するミラー板20dを除去したほかは第7図
実施例に類似している。これは2つのミラー要素
12b,14bおよび12b′,14b′の少なくと
も1つの共役距離を不等にすることによつて実現
される。すなわち2つのミラー要素に対する中間
像距離は物体および(または)像距離より大きく
され、それによつて最終像Iは物体Oから離れ
る。このように第10図の系の1半10fは2つ
の球面ミラー12bおよび14b、系の中間像側
のメニスカス要素16aならびに物体−像側の色
補正板18eを含む。系の他半10f′は2つの球
面ミラー13b′および14b′、系の中間像側のメ
ニスカス要素16a′ならびに物体−像側の色補正
板18e′を含む。第7図実施例のよううに色補正
要素はメニスカスである。メニスカス要素18e
および18e′は平行平面板のベンデイングが改善
され、その機能はメニスカス要素16aおよび1
6a′により生じた補正不足の縦の色収差を、屈折
要素のペツツバル和の色による変化に基くオフア
クシス像の過補正した焦点差を補償するために必
要な値まで、補正することである。これらの要素
はすべて光軸SAに沿つて対称的に配置される。 第7表は第10図の環帯視野光学系の構成デー
タの1例を示す。
【表】 第7表に規定した系は240〜365nmのスペクト
ル帯域において物体および像の両方における開口
数0.17で使用するために設計された。このスペク
トル帯域の場合ペツツバル和の波長による変化に
基く焦点変化は軸から100mmの距離で過補正方向
に0.017mmであり、すなわち240nmの光線のバツ
クフオーカスは365nmの光線のバツクフオーカ
スより長い。補正不足の縦の色収差は0.074mmな
ので、ペツツバル和の色による差に基く軸から
100mmにおける焦点の色による差はほぼ補正され
る。ほぼ同心のメニスカス16aおよび16
a′(第7表の表面No.6、7、8および9)の厚さ
は非点収差の色による変化を開口数0.17で使用す
る系で小さく保持するために必要な式(1)により要
求される5.30mmより著しく大きい、本発明の他の
例におけるように、これに基く付加的縦の色収差
補正不足は色補正要素18e,18e′(第7表の
表面No.1、2および13、14)により所望量に補
正される、要素18eおよび18e′の凹面および
凸面の半径はベンドした平行平面板と考えられな
いほど大きく異なる。そのペツツバル和の色によ
る変化に対する貢献はメニスカス16aおよび1
6a′によつて達成される量の同じ方向に約0.4で
ある。これらの要素は非点収差の色による変化に
対しメニスカス16aおよび16a′により達成さ
れる非点収差の色による残留変化と反対方向に少
し役立つ。色補正要素の主機能はメニスカス16
aおよび16a′の補正不足の縦の色収差の減少で
ある。2組のメニスカス要素の機能の分離は他の
例におけるほど完全ではないけれど、光学系内の
その組合せ効果は同じであり、すなわち制限され
たオフアクシス視野の中心における焦点の色によ
る変化は縦の色収差に基く焦点の同じおよび反対
の変化を有することによつて補償される。このよ
うに本発明の実施例は等価の形をとることかでき
る。ほぼ同心のメニスカスと色補正の要素の機能
分離は概念的に便利であり、制限されたオフアク
シス視野内で同じ形式の色補正を達成する同等の
手段は当業者には明らかである。 他の例と同様に凸面ミラー12bおよび12
b′は凹面ミラー14bおよび14b′に対し対称的
に、物体Oから光軸と平行の光路が系の中心点2
2および最終像Iで平行であるように配置され
る。すなわちこの可逆光学系では物体Oから軸と
平行の光線は系を対称的に通過する。その際凹面
ミラーおよび凸面ミラーはぼ同心である。凸面ミ
ラーの曲率中心はそれぞれもつとも近い凹面ミラ
ーの曲率中心から3.07mm離れている。同心からの
離れはこのように短い(凸面の)半径の1.2%で
ある。第1〜8図および第10図に示す線に沿つ
て構成しうる系の数は無数にあるので、凹面ミラ
ーと凸面ミラーの中心間の距離に正確な制限を確
定することはできない。しかしこれらの系でこの
距離は凸面ミラーの半径の3%を越えないことが
明らかになつた。第8表は拡大したスペクトル帯
域にわたる第7表の環帯視野光学系の計算した性
能表である。系は240〜365nmのスペクトル帯域
のために設計されたけれど、波長単位で測定した
補正の程度は546nmで同等以上に優れている。
これはペツツバル和の色による変化および縦の色
収差補正の両方が単一材料の屈折率の波長による
変化の結果として生ずることによる。
【表】 第10a図はオフアクシス視野を制限する1手
段の例を示す。この系は第10図の実施例に適用
するために示されるけど、図示の本発明の他の実
施例に対し同様適用可能である。第10a図に示
すように半径Hの湾曲スリツト30を有するマス
ク28はその曲率中心が光軸SAおよび第10図
に示す物体面O内に配置され、それによつて像は
物体面のスリツト30を通して露光される部分に
制限される。物体面のこの部分は像面I内の同様
に湾曲した表面へ点対点で結像する。これは物体
および像のスリツト内またはスリツトの像内にあ
るすべての部分は光軸SAからほぼ同じ距離Hに
あり、この距離で系が補正されることによる。マ
スク28は像面Iに備えることができ、またマス
クは各面に備え、もしくはマスクは像面Iにその
像があるように配置することができる。さらに系
はホトレジスト被覆した半導体ウエハを走査モー
ドで露光するために使用する場合、透明スライド
のような物体がスリツト30を通して矢印32の
方向に動かされ、スリツトによつて露出される物
体の部分のほぼ1倍の倍率の像がIに形成され、
矢印34によつて示す方向にIを過ぎて動く。そ
の結果ウエハを像点Iに配置し、透明スライドと
同期的に動かすと、ウエハはその全面にわたつて
像に露出される。 本発明により空間的関係を大きい精度をもつて
再現しなければならず、かつ広い環帯および広い
スペクトル帯域の両方にわたつて補正しうる用途
に使用するための新規かつ改善された光学系が得
られることが明らかである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の概念を示す光学系、第2図は
第1図の光学系を背中合せにした複式光学系、第
3図は第2図の系の物体−像側を簡単化した光学
系、第4図は第3図の2つの色補正要素を1つに
した光学系、第5図〜第7図は本発明による光学
系の他の実施例、第8図は第1図に類似するもう
1つの実施例をそれぞれ断面で示し、第9図は焦
点位置を波長と光軸からの距離の函数として示す
グラフである。第10図は第7図に類似する光学
系のさらにもう1つの実施例を示し、第10a図
は視野を制限するマスクの実施例の図である。 12,14……球面ミラー、16……メニスカ
ス要素、18……色補正板、O……物体、I……
像。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 光軸に沿つてほぼ同心に配置された少なくと
    も1つの凸面ミラーおよび凹面ミラーならびに屈
    折要素を有し、凸面ミラーが最初凹面ミラーから
    凸面ミラーへ反射された物体位置からの光を凹面
    ミラーへ反射するように配置され、それによつて
    物体位置からの光が第2位置へ結像する前に凹面
    ミラーで2回、凸面ミラーで少なくとも1回反射
    される、スペクトル帯域の広い、制限されたオフ
    アクシス視野光学系において、制限されたオフア
    クシス視野が環帯視野であり、光学系がペツツバ
    ル和がほぼゼロであるように構成および配置さ
    れ、屈折要素が色の変化に基くペツツバル和の変
    化の効果を、環帯視野における焦点の位置がほぼ
    一定に留まるように、反対方向の縦の色収差を導
    入することによつて補正する装置を有し、この装
    置が凹面ミラーと物体または最終像もしくは中間
    像位置の間に配置した凸および凹のメニスカス面
    がほぼ同心の少なくとも1組のメニスカス要素で
    あり、この1組の要素は中間像点を含み光軸に垂
    直の平面または光軸を含みこの平面に垂直の平面
    に対し対称的に配置され、それぞれメニスカス要
    素の凸面の半径が凹面の半径より大きく、かつそ
    の軸方向厚さがその凸面および凹面の半径の差よ
    り大きいことを特徴とするオフアクシス視野光学
    系。 2 屈折要素が1つの光学材料からなる特許請求
    の範囲第1項記載のの光学系。 3 環帯視野内の色による像湾曲の変化を反対方
    向の縦の色収差導入によつて補正する装置が1組
    の対称的に配置したほぼ同心のメニスカス要素お
    よび色補正要素からなり、それぞれメニスカスの
    凸面の半径が凹面の半径より大きく、かつその軸
    方向厚さがその凸面および凹面の半径の差より大
    きい特許請求の範囲第1項記載の光学系。 4 すべての屈折要素が単一の光学材料からなる
    特許請求の範囲第3項記載の光学系。 5 凹面ミラーから3回の反射、凸面ミラーから
    2回の反射があるようにミラーが配置されている
    特許請求の範囲第1項記載の光学系。 6 色の変化に基くペツツバル和の変化の効果を
    補正する装置が凸面ミラーと物体または最終像も
    しくは中間像位置の間に配置した凸および凹のメ
    ニスカス面がほぼ同心の少なくとも1組のメニス
    カス要素からなり、この1組の要素は中間像点を
    含み光軸に垂直の平面または光軸を含みこの平面
    に垂直の平面に対し対称的に配置され、それぞれ
    メニスカス要素の凸面の半径が凹面の半径より大
    きく、かつその軸方向厚さがその凸面および凹面
    の半径の差より大きく、系の環帯半径とほぼ同心
    のメニスカスレンズの特性の間の関係が式: R2>R1 およびtR2−R1+(H2/2N2)(1/R1
    1/R2) 〔ここにH=系の環帯半径、 R1=メニスカスレンズの凹面半径、 R2=メニスカスレンズの凸面半径、 t=メニスカスレンズの厚さ、 N=メニスカスレンズの屈折率である。〕によ
    つて決定される特許請求の範囲第1項または第5
    項記載の光学系。 7 色の変化に基くペツツバル和の変化の効果を
    補正する装置が凸面ミラーと物体または最終像も
    しくは中間像位置の間に配置した凸および凹のメ
    ニスカス面がほぼ同心の少なくとも1組のメニス
    カス要素および色補正要素からなり、この1組の
    要素は中間像点を含み光軸に垂直の平面または光
    軸を含みこの平面に垂直の平面に対し対称的に配
    置され、それぞれメニスカス要素の凸面の半径が
    凹面の半径より大きく、かつその軸方向厚さがそ
    の凸面および凹面の半径の差より大きく、系の環
    帯半径とほぼ同心のメニスカスレンズの特性の間
    の関係が式: R2>R1 およびtR2−R1+(H2/2N2)(1/R1
    1/R2) 〔ここにH=系の環帯半径、 R1=メニスカスレンズの凹面半径、 R2=メニスカスレンズの凸面半径、 t=メニスカスレンズの厚さ、 N=メニスカスレンズの屈折率である。〕によ
    つて決定される特許請求の範囲第1項または第5
    項記載の光学系。 8 色補正要素がミラーの光軸と直角にマウント
    したほぼ平行平面の板である特許請求の範囲第7
    項記載の光学系。 9 色補正要素が非球面を有する板である特許請
    求の範囲第7項記載の光学系。 10 色補正要素がミラーの光軸に対し直角にマ
    ウントした弱いメニスカス要素である特許請求の
    範囲第7項記載の光学系。 11 色補正要素がミラーと物体および像位置の
    間に挿入されている特許請求の範囲第7項記載の
    光学系。 12 色補正要素がメニスカス要素とミラーの間
    に挿入されている特許請求の範囲第7項記載の光
    学系。 13 下記の構成データ: 【表】 を有する特許請求の範囲第10項記載の光学系。 14 光学系が第1の半分および第2の半分から
    なり、各半分がそれぞれ1つの光軸および光軸に
    対し垂直の共役面を有する光学系を有し、第1の
    半分と第2の半分が、共役面が光学系の少なくと
    も1つの側で重なるように背中合せの関係で同軸
    に配置され、かつ光学系の他の側で物体と最終像
    の位置を離す手段を備えている特許請求の範囲第
    1項記載の光学系。 15 色の変化によるペツツバル和の変化の効果
    を補正する装置が第1半分および第2半分に対称
    的に配置したほぼ同心のメニスカス要素を含み、
    その凸面半径が凹面半径より大きく、その厚さが
    凸面および凹面半径の差より大きい特許請求の範
    囲第14項記載の光学系。 16 第1半分および第2半分がそれぞれさらに
    色補正要素を有する特許請求の範囲第15項記載
    の光学系。 17 色補正要素が光軸に対しほぼ垂直に支持し
    た平行平面板である特許請求の範囲第16項記載
    の光学系。 18 色補正要素が非球面を有する板である特許
    請求の範囲第16項記載の光学系。 19 色補正要素が光軸に対し垂直に支持した弱
    いメニスカス要素である特許請求の範囲第16項
    記載の光学系。 20 第1半分および第2半分がそれぞれ凹面ミ
    ラーおよび凸面ミラーを含み、このミラーがほぼ
    一致した曲率中心をもつて支持されている特許請
    求の範囲第14項、第15項および第17項から
    第19項までのいずれか1項記載の光学系。 21 第1半分および第2半分がそれぞれ凹面ミ
    ラーおよび凸面ミラーを有し、このミラーがほぼ
    一致した曲率中心をもつて支持されている特許請
    求の範囲第16項記載の光学系。 22 物体と最終像の位置を離す装置が反射ミラ
    ーからなる特許請求の範囲第16項または第21
    項記載の光学系。 23 第1半分および第2半分が共役面内の軸に
    対しほぼ対称である特許請求の範囲第16項また
    は第21項記載の光学系。 24 第1半分の光学系および第2半分の光学系
    がそれぞれほぼ1倍の倍率の光学系である特許請
    求の範囲第14項、第15項、第16項および第
    21項のいずれか1項記載の光学系。 25 メニスカス要素がミラーと物体位置および
    像位置の間にそれぞれ挿入されている特許請求の
    範囲第21項記載の光学系。 26 メニスカス要素がミラーと中間像位置の間
    にそれぞれ挿入されている特許請求の範囲第21
    項記載の光学系。 27 色補正要素がミラーと中間像位置の間にそ
    れぞれ挿入した2つの要素を有する特許請求の範
    囲第21項記載の光学系。 28 色補正要素がミラーと物体位置および最終
    像位置の間にそれぞれ挿入した2つの要素を有す
    る特許請求の範囲第21項記載の光学系。 29 色補正要素が中間像位置に配置したただ1
    つの要素である特許請求の範囲第21項記載の光
    学系。 30 各半分が凹面ミラーおよびこの凹面ミラー
    に面する凸面ミラーを有し、これらのミラーが軸
    に沿つてほぼ同心に配置され、光学系の他の側で
    共役位置から2つのミラー要素への距離が少なく
    とも1つの半分で中間像位置への距離と異なり、
    それによつて離れた物体および最終像位置が得ら
    れる特許請求の範囲第14項記載の光学系。 31 色の変化に基くペツツバル和の変化の効果
    を補正する装置が第1半分および第2半分にほぼ
    同心のメニスカス要素を有し、その凸面半径が凹
    面半径より大きく、その厚さが凸面および凹面の
    半径の差より大きい特許請求の範囲第30項記載
    の光学系。 32 メニスカス要素がミラーと物体および最終
    像位置のそれぞれの間に挿入されている特許請求
    の範囲第31項記載の光学系。 33 メニスカス要素がミラーと中間像位置の間
    にそれぞれ挿入されている特許請求の範囲第31
    項記載の光学系。 34 光学系がさらにほぼ中間像位置に配置した
    色補正要素を有する特許請求の範囲第31項から
    第33項までのいずれか1項記載の光学系。 35 光学系がさらに光軸に対しほぼ垂直に、ほ
    ぼ中間像位置に支持した平行平面板を有する特許
    請求の範囲第31項記載の光学系。 36 光学系がさらに光軸に対しほぼ垂直に、ほ
    ぼ中間像位置に支持した平行平面板を有し、この
    平行平面板の1つの面が非球面である特許請求の
    範囲第31項から第33項までのいずれか1項記
    載の光学系。 37 光学系がさらにミラーの光軸に対しほぼ垂
    直にほぼ中間像位置に支持した弱いメニスカス要
    素を有する特許請求の範囲第31項から第33項
    までのいずれか1項記載の光学系。 38 第1半分および第2半分が中間像位置を通
    る軸に対しほぼ対称的である特許請求の範囲第3
    0項から第33項までのいずれか1項記載の光学
    系。 39 各半分が凹面ミラーおよびこの凹面ミラー
    に面する凸面ミラーを有し、これらのミラーが光
    軸に沿つてほぼ同心に配置され、中間像から2つ
    のミラー要素への距離が他の共役位置から2つの
    ミラー要素への距離より少なくとも1つの半分で
    大きく、それによつて物体位置と像位置が互いに
    離され、色の変化によるペツツバル和の変化の効
    果を補正する装置が第1半分および第2半分にお
    いてミラーと中間像位置の間に挿入したメニスカ
    ス要素を有し、このメニスカス要素がほぼ同心で
    あるけれどその厚さより小さいメニスカス表面の
    半径差を有し、それゆえ正確に同心でなく、その
    屈折力が負であり、色補正要素がほぼ中間像位置
    にミラーの光軸に対し垂直に配置されている特許
    請求の範囲第14項記載の光学系。 40 下記の構成データ: 【表】 を有する特許請求の範囲第39項記載の光学系。 41 中間像から2つのミラー要素への距離が他
    の共役位置から2つのミラー要素への距離より少
    なくとも1つの半分で小さいように、中間像位置
    が他の共役面から軸方向に偏位し、物体と最終像
    位置の間にこれらの位置を再配置してこれらの位
    置に近づくことを可能にするため反射装置が挿入
    されている特許請求の範囲第14項記載の光学
    系。 42 第1半分および第2半分がそれぞれ凹面ミ
    ラーおよびこの凹面ミラーに面する凸面ミラーを
    有する特許請求の範囲第41項記載の光学系。 43 色の変化に基くペツツバル和の変化の効果
    を補正する装置が第1半分および第2半分にほぼ
    同心のメニスカス要素を有し、その凸面半径が凹
    面半径より大きく、その厚さが凸面および凹面の
    半径差より大きい特許請求の範囲第42項記載の
    光学系。 44 メニスカス要素がミラーと中間像位置の間
    にそれぞれ挿入されている特許請求の範囲第43
    項記載の光学系。 45 光学系がさらにほぼ中間像位置に配置した
    各補正要素を有する特許請求の範囲第44項記載
    の光学系。 46 第1半分および第2半分がさらにそれぞれ
    色補正要素を有する特許請求の範囲第44項記載
    の光学系。 47 第1半分および第2半分がそれぞれミラー
    と物体および最終像位置の間にそれぞれ挿入した
    色補正要素を有し、この要素がミラーの光軸に対
    し垂直である特許請求の範囲第44項記載の光学
    系。 48 色補正要素の面の1つが非球面からなる特
    許請求の範囲第47項記載の光学系。 49 系の各半分に凹面ミラーおよび凸面ミラー
    が短い半径の長さの2%より小さい曲率中心間の
    距離をもつて支持されている特許請求の範囲第4
    2項記載の光学系。 50 第1半分および第2半分が中間像位置を通
    る軸に対しほぼ対称である特許請求の範囲第47
    項記載の光学系。 51 下記の構成データ: 【表】 カ
    【表】 を有する特許請求の範囲第47項記載の光学系。 52 各半分が凹面ミラーおよびこの凹面ミラー
    に面する凸面ミラーを有し、これらのミラーがほ
    ぼ一致する曲率中心で支持され、 中間像から2つのミラー要素への距離が少なく
    とも1つの半分で他の共役位置から2つのミラー
    要素への距離より大きく、それによつて物体位置
    と最終像位置が互いに離され、 色の変化によるペツツバル和の変化の効果を補
    正する要素が第1半分および第2半分にミラーと
    中間像位置の間に挿入したメニスカス要素を有
    し、このメニスカス要素が対称的にほぼ同心に配
    置され、その凸面半径が凹面半径より大きく、厚
    さが凸面および凹面の半径の差より大きい 特許請求の範囲第14項記載の光学系。
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